混合装置制造方法及图纸

技术编号:30135069 阅读:11 留言:0更新日期:2021-09-23 14:20
本发明专利技术涉及一种用于将第一液体和第二液体与气体进行混合的混合装置(10),其包括混合室(16)和气体注入装置(36),其中气体注入装置(36)具有气体源(40)和计量单元(42),该计量单元被设计为将气体源(40)提供的气体限制在预定的流量下并且其在气体出口侧与混合室(16)接触,其中计量单元(42)的气体出口侧具有细长间隙(32),气体经由该间隙从计量单元(42)流出进入到混合室(16)中。进入到混合室(16)中。进入到混合室(16)中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】混合装置


[0001]本专利技术涉及一种用于将第一液体和第二液体与气体进行混合的混合装置。

技术介绍

[0002]迄今为止已知的混合装置使用至少一个搅拌元件(例如,溶解器盘)将气体(例如,空气)与液体或液体混合物进行混合。由于搅拌元件对液体或液体混合物的作用而产生高剪切力,由此尤其是使液体或液体混合物的触变性发生变化。
[0003]特别地,在与另一种液体混合之前已经将气体供应至一种液体的情况下,气体混合的液体的可压缩性会对计量精度产生不利影响,因此两种液体彼此进行混合的比例不能准确地调整,或者至少只能针对装载程度通过大量的测量工作来调整。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种混合装置,其能够以简化的方式将气体与至少一种液体混合并且不会不利地影响待混合的组分。
[0005]上述目的通过一种用于将第一液体和第二液体与气体进行混合的混合装置来实现,其包括使第一液体与第二液体在其中进行接触的混合室以及被设计为将气体注入到混合室中的气体注入装置,其中该气体注入装置具有:
[0006]提供预定压力的气体的气体源;
[0007]计量单元,其被设计为将气体源提供的气体限制在预定的流量下并且其在气体出口侧与混合室接触,其中计量单元的气体出口侧具有细长间隙,气体经由该细长间隙从计量单元流出进入到混合室中。
[0008]在这一点上应该已经注意到,术语“液体”应理解为表示液体和糊状材料,即总体上适合与气体进行混合的任何材料。
[0009]由于在根据本专利技术的混合装置中不使用气体分散用搅拌元件,因此可以避免高剪切力。此外,这能够使得特定的液体或液

气混合物的温度基本上是均匀的。
[0010]由于在根据本专利技术的混合装置中气体被供应到混合室,因此待混合的液体在它们被引入到混合室中之前可以保持不可压缩。因此,可以高度精确地调节混合室中的两种液体的混合比例。还可以使用高触变性材料。即使在与另一种液体接触之前仅将气体供应至一种液体,也能在混合室内保留这种积极效果。
[0011]与计量喷嘴不同,根据本专利技术的具有细长间隙的计量单元允许气体以精细且平面的方式被引入到液体混合物中。
[0012]在根据本专利技术的混合装置中,经由主要存在于混合室中的压力与主要存在于气体源中的压力之间的压差来控制气体的量。以这种方式,引入到混合室中的气体的量可以直接取决于混合室压力。
[0013]计量单元可以有利地由彼此耦合的两个平面元件形成。在这种情况下,从膜功能的意义上说,细长间隙可以通过彼此叠置的两个表面的粗糙度来形成。
[0014]平面元件可以基本上在它们的整个表面上彼此抵靠。通过特别是在细长间隙的深度方向上(即沿着平面元件之间的气体流动方向)确定平面元件的尺寸,可以设定诸如气泡的尺寸和/或被引入到混合室中的气体压力的参数。
[0015]此外,平面元件的抵靠表面的平均表面粗糙度Ra可至多为0.1、特别是Ra至多为0.05、有利地是Ra为0.03。显然,较低的平均表面粗糙度形成较小的空气通道,而较高的平均表面粗糙度形成较大的空气通道。在这一点上应该注意,粗糙度Ra在此以μm为单位给出。
[0016]在本专利技术的一种改进中,平面元件可以被设计为环形盘,其中计量单元的气体出口侧可以形成在环的内侧。通过将细长间隙设计为环,可以扩大计量单元的用于将气体引入到液体混合物中的释放面积。如果计量单元的气体出口侧设置在环的内侧,则液体混合物例如可以完全被引导通过环并因此在液体混合物流的横截面上被气体均匀地渗透。
[0017]平面元件可以由金属、特别是诸如硬化钢的硬质金属和/或诸如硬质阳极氧化铝的铝和/或陶瓷和/或聚四氟乙烯制成。特别地,表面粗糙度可在制造后例如通过研磨进行调节的材料可以适用于制造平面元件。
[0018]此外,平面元件可由多孔材料制成。多孔材料在此特别是应被理解为可以使气体从其孔中穿过的开孔多孔材料。在这种情况下,平面元件也可以被设计为整体部件。当然,也可以想到闭孔材料。
[0019]在一种有利的改进中,计量单元可在大约20巴的压力下具有至多100cm3/s的流量,特别是在大约4巴的压力下具有至多20cm3/s的流量。已经证明,给出这些值可以实现液体混合物与气体的特别良好的混合。
[0020]当然,在根据本专利技术的混合装置的情况下,完全可以想到混合装置还可以包括将第一液体、第二液体和添加的气体彼此混合的搅拌装置。然而,如开头已经提到的,根据本专利技术可以省去负责分散、特别是使液体混合物中的气泡破裂的搅拌装置。
[0021]搅拌装置可以被设计为在至多10000rpm、特别是至多6000rpm的转速下运行。
[0022]在根据本专利技术的混合装置的一种可行的实施方式中,气体可以是空气。
[0023]在本专利技术的优点特别明显的一种应用中,第一液体的粘度可以为100mPa
·
s至500000mPa
·
s,特别是500mPa
·
s至100000mPa
·
s。
[0024]替代地或附加地,第二液体的粘度可以为20mPa
·
s至200000mPa
·
s,特别是150mPa
·
s至100000mPa
·
s。
[0025]特别地,第一液体可以是多元醇或有机硅A和/或第二液体可以是异氰酸酯或有机硅B。特别地,本专利技术可以不改变或至少仅略微改变多元醇的触变性,从而在处理多元醇时可以避免现有技术的混合装置中发生的那些改变触变性的不利影响。
[0026]一般来说,触变性分为“低触变性”、“中等触变性”和“高触变性”。
[0027]由气体源提供的气体的预定压力可以有利地是1巴至30巴,特别是15巴至25巴,有利地是24巴。
附图说明
[0028]下面将参考附图更详细地描述本专利技术,其中:
[0029]图1是根据本专利技术的混合装置的剖视图。
具体实施方式
[0030]在图1中,根据本专利技术的混合装置总体用附图标记10来表示。混合装置10包括壳体12,其中设置有在流过混合装置10的液体的主流动方向A上延伸的元件14。元件14形成混合室16的外壁。第一液体在进入混合室16的第一入口点18处被引入到混合室16中。第二液体在第二入口点20处被引入到混合室16中。
[0031]第一液体和第二液体的各自的源或储存器设置在上级组件(未被示出)中,该上级组件相对于主流动方向A设置在上游并且混合装置10可以经由诸如紧固螺母22的紧固装置22连接至该上级组件。
[0032]靠近两种液体的进入点18和20设置有第一平面元件24,其下侧部26通过与第一平面元件24和壳体12配合的密封件28而相对于径向外侧被密封。在这种情况下,第一平面元件24基本上被设计为环形盘。
[0033]第一平面元件24的径向内部抵靠由界定混合室16的元件14的环形部分形成的第二本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于将第一液体和第二液体与气体进行混合的混合装置(10),其包括:混合室(16),所述第一液体与所述第二液体在其中进行接触;以及气体注入装置(36),其被设计为将气体注入到所述混合室(16)中,其中所述气体注入装置(36)具有:提供预定压力的所述气体的气体源(40),以及计量单元(42),其被设计为将所述气体源(40)提供的所述气体限制在预定的流量下并且其在气体出口侧与所述混合室(16)接触,其中所述计量单元(42)的所述气体出口侧具有细长间隙(32),所述气体经由所述细长间隙(32)从所述计量单元(42)流出进入到所述混合室(16)中。2.根据权利要求1所述的混合装置(10),其特征在于,所述计量单元(42)由彼此耦合的两个平面元件(24,30)形成。3.根据权利要求2所述的混合装置(10),其特征在于,所述平面元件(24,30)基本上在它们的整个表面上彼此抵靠。4.根据权利要求3所述的混合装置(10),其特征在于,所述平面元件(24,30)的抵靠的所述表面的平均表面粗糙度Ra至多为0.1,特别是Ra至多为0.05,有利地Ra为0.03。5.根据权利要求2至4中任一项所述的混合装置(10),其特征在于,所述平面元件(24,30)被设计为环形盘,其中所述计量单元(42)的所述气体出口侧形成在所述环的内侧。6.根据权利要求2至5中任一项所述的混合装置(10),其特征在于,所述平面元件(24,30)由金属、特别是钢或铝和/或陶瓷和/或聚四氟乙烯制成。7.根据权利要求2至6中任一项所述的混合装置(10),其特征在于,所述平面元件(24,30)由多孔材料制成。8.根据权利要求1至7中任一项所述的混合装置(10)...

【专利技术属性】
技术研发人员:曼弗雷德
申请(专利权)人:蓝浦控股有限两合公司
类型:发明
国别省市:

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