粘合膜、包含粘合膜的光学元件和包含光学元件的光学显示设备制造技术

本申请涉及粘合膜、包含粘合膜的光学元件和包含光学元件的光学显示设备。公开了一种由包括含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物和含硅酮的(甲基)丙烯酸化合物的粘合剂组合物形成的粘合膜，其中该粘合膜具有按照方程式1计算的约50％或更大的剥离强度比。还公开了包括该粘合膜的光学元件和包括该光学元件的光学显示设备。备。备。

【技术实现步骤摘要】
粘合膜、包含粘合膜的光学元件和包含光学元件的光学显示设备
[0001]相关申请的引证
[0002]本申请要求2020年3月3日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请号10
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2020
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0026636的权益，其全部公开内容通过引用并入本文。


[0003]本专利技术涉及粘合膜、包括粘合膜的光学元件和包括光学元件的光学显示设备。

技术介绍

[0004]光学显示设备包括显示元件，该显示元件包括窗膜、导电膜、有机发光二极管等。在光学显示设备中，各种显示元件通过光学透明粘合剂(OCA)彼此附接。近来，已经开发了柔性光学显示器。随着柔性光学显示器的发展，越来越需要提高透明粘合膜的弯曲可靠性。
[0005]在显示元件中，设置在最外侧的窗膜容易受到外部冲击。因此，用于保护窗膜的保护膜和透明粘合膜的堆叠件被附接到窗膜。为了防止在将堆叠件附接至窗膜时的附接失败或气泡或异物的侵入，需要进行返工操作，其中在将堆叠件从其上拆卸之后，将堆叠件附接至窗膜。近年来，随着对小型化、复杂性等的需求增加，这种返工操作是反复要求的。
[0006]通常，返工操作是在例如，60℃至80℃的高温下进行的。然而，当通过将粘合膜从室温加热至高温进行返工操作之后将粘合膜冷却至室温时，难以在返工操作之后将粘合膜的剥离强度恢复至初始室温下的初始剥离强度。因此，需要一种粘合膜，该粘合膜即使在室温和高温之间反复温度变化之后，也能在室温下表现出足够的剥离强度，同时允许剥离强度的可逆变化。
[0007]在韩国专利特许公开号10
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2007
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0055363中公开了本专利技术的
技术介绍
。

技术实现思路

[0008]本专利技术的一个方面提供了一种粘合膜，其在室温下表现出足够的剥离强度，从而对被粘物(adherend)提供良好的保护效果。
[0009]本专利技术的另一个方面提供了一种粘合膜，该粘合膜在高温下的剥离强度比在室温下的剥离强度低，以提高返工性(reworkability)。
[0010]本专利技术的另一个方面提供了一种粘合膜，即使在室温、高温、室温和高温的顺序下反复变化温度后，与初始室温下的剥离强度相比，该粘合膜也可以使剥离强度的降低最小化。
[0011]本专利技术的又一方面提供了即使在反复温度变化之后也显示出良好的返工性的粘合膜。
[0012]本专利技术的一个方面涉及一种粘合膜。
[0013]1.粘合膜由包括含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物和含硅酮的(甲基)丙烯酸化合物的粘合剂组合物形成，该粘合膜具有约50％或更大的剥离强度比，如由方程式1计算的：
[0014][方程式1][0015]剥离强度比＝[P3/P1]x 100
[0016]其中P1是在25℃下粘合膜的剥离强度(单位：gf/英寸)且
[0017]P3是25℃下粘合膜的剥离强度(单位：gf/英寸)，如在10个剥离强度测试循环后测得的，其中每个循环是指将粘合膜在25℃下放置30分钟，以5℃/min的加热速率将粘合膜从25℃加热到80℃，将粘合膜在80℃下放置24小时，并以5℃/min的冷却速率将粘合膜从80℃冷却至25℃的操作。
[0018]2.在1中，在方程式1中，粘合膜可具有约560gf/英寸或更大的P3值。
[0019]3.在1和2中，在方程式1中，粘合膜可具有约400gf/英寸或更大的P1值。
[0020]4.在1至3中，粘合膜在
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20℃下可具有约250kPa或更小的模量。
[0021]5.在1
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4中，含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物可包括单体混合物的共聚物，所述单体混合物包括含羟基的(甲基)丙烯酸酯、含烷基的(甲基)丙烯酸酯和含杂脂环族基团的单体(hetero
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alicyclic group
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containing monomer)。
[0022]6.在5中，单体混合物可包括约5wt％至约30wt％的含羟基的(甲基)丙烯酸酯、约50wt％至约90wt％的含烷基的(甲基)丙烯酸酯、和约1wt％至约20wt％的含杂脂环族基团的单体。
[0023]7.在5中，含杂脂环族基团的单体可包括N
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(甲基)丙烯酰基吗啉。
[0024]8.在1至7中，相对于100重量份的含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物或含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物的单体混合物，含硅酮的(甲基)丙烯酸化合物可以约0.1重量份至约5重量份的量存在。
[0025]9.在1至8中，含硅酮的(甲基)丙烯酸化合物可包括选自在其一端具有(甲基)丙烯酸酯基的有机聚硅氧烷和在其两端具有(甲基)丙烯酸酯基的有机聚硅氧烷中的至少一种。
[0026]10.在1至9中，粘合剂组合物可以进一步包含交联剂和光引发剂。
[0027]11.在10中，交联剂可包括可光固化的多官能(甲基)丙烯酸酯。
[0028]12.在1至11中，粘合剂组合物可以进一步包含有机纳米颗粒。
[0029]13.在12中，有机纳米颗粒可包括满足方程式2的核
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壳纳米颗粒
[0030][方程式2][0031]Tg(c)<Tg(s)
[0032]其中Tg(c)是核的玻璃化转变温度(单位：℃)且
[0033]Tg(s)是壳的玻璃化转变温度(单位：℃)。
[0034]14.在12中，基于用于含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物的单体混合物或含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物；和有机纳米颗粒的总重量，有机纳米颗粒可以约0.1wt％至约10wt％的量存在。
[0035]15.在12中，相对于100重量份的用于含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物的单体混合物和有机纳米颗粒的总重量，含硅酮的(甲基)丙烯酸化合物可以约0.1重量份至约5重量份的量存在。
[0036]根据本专利技术的另一方面，提供了一种光学元件。
[0037]光学元件可以包括光学膜和堆叠在光学膜的至少一个表面上的根据本专利技术的粘合膜。
strength)与其初始剥离强度之比，其中在室温和高温之间的反复温度变化之后测量粘合膜的后剥离强度。通过满足方程式1，即使在室温和高温之间反复温度变化之后，粘合膜也允许剥离强度的可逆变化，从而使得能够进行反复的返工操作，同时确保足够的剥离强度以提供即使在返工操作之后也良好的可靠性。优选地，粘合膜具有约50％至约100％，更优选为约80％至约100％，具体地为约50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％、90％、95％或100％的剥离强度比，如通过方程式1计算的。
[0056]在一个实施方案中，在方程式1中，粘合膜在25℃下的剥离强度，即，P1值可为约400gf/英寸或更大，例如约700gf/英寸或更大，具体地为约700gf/英寸至约1200gf/英寸，更具体地为约400gf/英寸、450gf/英寸、500gf/英寸、550gf/英寸、60本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种粘合膜，由包括含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物和含硅酮的(甲基)丙烯酸化合物的粘合剂组合物形成，所述粘合膜具有按照方程式1计算的50％或更大的剥离强度比：[方程式1]剥离强度比＝[P3/P1]x 100其中，P1是在25℃所述粘合膜的剥离强度，单位：gf/英寸，且P3是在10个剥离强度测试循环后测得的在25℃所述粘合膜的剥离强度，单位：gf/英寸，其中，每个循环是指以下操作：将所述粘合膜在25℃放置30分钟，以5℃/min的加热速率将所述粘合膜从25℃加热至80℃，将所述粘合膜在80℃放置24小时，并以5℃/min的冷却速率将所述粘合膜从80℃冷却至25℃。2.根据权利要求1所述的粘合膜，其中，所述粘合膜在方程式1中具有560gf/英寸或更大的P3值。3.根据权利要求1所述的粘合膜，其中，所述粘合膜在方程式1中具有400gf/英寸或更大的P1值。4.根据权利要求1所述的粘合膜，其中，所述含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物包括单体混合物的共聚物，所述单体混合物包括含羟基的(甲基)丙烯酸酯、含烷基的(甲基)丙烯酸酯和含杂脂环族基团的单体。5.根据权利要求4所述的粘合膜，其中，所述单体混合物包括5wt％至30wt％的所述含羟基的(甲基)丙烯酸酯、50wt％至90wt％的所述含烷基的(甲基)丙烯酸酯、和1wt％至20wt％的所述含杂脂环族基团的单体。6.根据权利要求4所述的粘合膜，其中，所述含杂脂环族基团的单体包括N
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(甲基)丙烯酰基吗啉。7.根据权利要求1所述的粘合膜，其中，相对于100重量份的所述含羟基的(甲基)丙烯酸共聚物或用于所述含羟基的(甲基)丙烯酸共...

【专利技术属性】
技术研发人员：金志浩，姜知媛，金一镇，朴庆坤，李珍泳，韩在铉，许世美，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：