一种晶圆的超声波清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶圆的超声波清洗机，包括底板、机架、清洗箱和吸附机构，所述清洗箱设有两个，所述清洗箱分别位于机架之间的顶部和底部，两个所述清洗箱均固定安装于机架内侧，所述吸附机构包括吸附箱，所述吸附箱内壁顶部和底部均固定连接有支撑块，所述支撑块之间设有滤芯，所述滤芯一侧固定连接有连接板，所述吸附箱靠近连接板一侧开有箱口，所述吸附箱顶部和底部分别固定连接有第一通水管和第二通水管，所述第一通水管底端延伸至滤芯顶端，所述第二通水管顶端延伸至滤芯底端，本实用新型专利技术可对清洗箱中的清洗剂液的杂质彻底清除，从而避免了清洗剂液中的杂质再次流入到工件上，从而可对工件清洗完全。从而可对工件清洗完全。从而可对工件清洗完全。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆的超声波清洗机


[0001]本技术涉及超声波清洗装置
，具体为一种晶圆的超声波清洗机。

技术介绍

[0002]晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆，在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构，而成为有特定电性功能之IC产品，晶圆的原始材料是硅，在对晶圆加工时，需要对晶圆清洗，在清洗时，通常通过超声波清洗机对晶圆进行清洗。
[0003]但是，在通过超声波清洗机对工件清洗时，清洗剂液对工件清洗的杂质会融入到清洗剂液中，清洗剂液中的杂质可能会再次粘附在工件上，从而不能对工件清洗彻底。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种晶圆的超声波清洗机，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种晶圆的超声波清洗机，包括底板、机架、清洗箱和吸附机构，所述机架设有两个，两个所述机架底端分别固定连接于底板顶部两侧，所述清洗箱设有两个，所述清洗箱分别位于机架之间的顶部和底部，两个所述清洗箱均固定安装于机架内侧，所述吸附机构设有两个，两个所述吸附机构固定安装于两个所述清洗箱之间，所述吸附机构包括吸附箱，所述吸附箱内壁顶部和底部均固定连接有支撑块，所述支撑块之间设有滤芯，所述滤芯一侧固定连接有连接板，所述吸附箱靠近连接板一侧开有箱口，且所述连接板与箱口相匹配，所述吸附箱顶部和底部分别固定连接有第一通水管和第二通水管，所述第一通水管底端延伸至滤芯顶端，所述第二通水管顶端延伸至滤芯底端。
[0006]优选的，所述机架一侧通过固定板固定安装有水泵，所述水泵输入端通过水管与底部的清洗箱连通，所述水泵输出端固定连接有输水管，所述输水管顶端贯穿至顶部的清洗箱内腔。
[0007]优选的，所述清洗箱内壁底部固定连接有放置架，所述放置架上设有网箱，所述网箱设有若干个，所述清洗箱顶部中间插接有箱盖，所述清洗箱底部固定安装有声波发生器，所述清洗箱表面设有观察窗。
[0008]优选的，其中位于机架顶部的所述清洗箱顶部一侧固定连接有进水管，其中位于机架底部的所述清洗箱底部一侧固定连接有出水管，所述出水管表面固定安装有阀门。
[0009]优选的，所述箱盖顶部和连接板一侧分别焊接有第一扶把手和第二扶把手。
[0010]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0011]1、本技术通过清洗箱和吸附机构的配合，当要对工件进行清洗时，打开箱盖将工件放入网箱中，放置完成后关闭箱盖，通入清洗剂到清洗箱中，打开声波发生器对清洗箱内的清洗剂发生反应，从而对工件进行清洗，清洗剂液在冲洗工件时会使工件上的杂质
颗粒融入到清洗剂液中，位于机架顶部的清洗剂会通过第一通水管进入到滤芯中，通过活性炭的作用可对清洗剂液中的杂质颗粒进行吸附，从而对清洗剂液达到净化的效果，随后清洗剂液会通过第二通水管流入到底部的清洗箱中，同时打开水泵，水泵通过输水管抽取机架底部的清洗剂液到机架顶部的清洗箱中，从而可对两个所述清洗箱中的清洗剂液进行循环流动，从而清洗剂液都经过滤芯对清洗剂液进行除杂，且可对两个所述清洗箱中的清洗剂液的杂质彻底的清除，从而避免了清洗剂液中的杂质颗粒再次流入到工件上，从而避免了对工件的清洗不彻底。
附图说明
[0012]图1为本技术整体的结构示意图；
[0013]图2为本技术清洗箱的内部结构示意图；
[0014]图3为本技术吸附机构的结构示意图。
[0015]图中：10
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底板；11
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机架；101
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行走轮；20
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清洗箱；201
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观察窗；21
‑ꢀ
箱盖；211
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第一扶把手；22
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放置架；23
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网箱；24
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声波发生器；30
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吸附机构；31
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吸附箱；311
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第一通水管；312
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第二通水管；32
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支撑块；33
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滤芯； 34
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箱口；35
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连接板；351
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第二扶把手。40
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水泵；41
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输水管；50
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进水管； 51
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出水管；52
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阀门。
具体实施方式
[0016]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0017]请参阅图1
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3，本技术提供技术方案：一种晶圆的超声波清洗机，包括底板10、机架11、清洗箱20和吸附机构30。
[0018]其中，所述机架11设有两个，两个所述机架11底端分别固定连接于底板10顶部两侧，所述清洗箱20设有两个，所述清洗箱20分别位于机架11 之间的顶部和底部，两个所述清洗箱20均固定安装于机架11内侧，所述吸附机构30设有两个，两个所述吸附机构30固定安装于两个所述清洗箱20之间，所述吸附机构30包括吸附箱31，所述吸附箱31内壁顶部和底部均固定连接有支撑块32，所述支撑块32之间设有滤芯33，滤芯33与支撑块32之间滑动连接，滤芯33由活性炭材料制作而成，活性炭具有吸附水中杂质的作用，所述滤芯33一侧固定连接有连接板35，所述吸附箱31靠近连接板35一侧开有箱口34，且所述连接板35与箱口34相匹配，连接板35通过螺栓与箱口34固定连接，连接板35可插接进箱口34内，箱口34与连接板35之间镶嵌有密封圈，从而可避免吸附箱31中的水漏出，所述吸附箱31顶部和底部分别固定连接有第一通水管311和第二通水管312，所述第一通水管311底端延伸至滤芯33顶端，所述第一通水管311顶端贯穿贯穿至顶部的清洗箱20 腔底部，所述第二通水管312顶端延伸至滤芯33底端，所述第二通水管312 底端贯穿至底部的清洗箱20内腔底部。
[0019]其中，所述机架11一侧通过固定板固定安装有水泵40，所述水泵40输入端通过水管与底部的清洗箱20连通，所述水泵40输出端固定连接有输水管41，所述输水管41顶端贯穿至顶部的清洗箱20内腔。
[0020]其中，所述清洗箱20内壁底部固定连接有放置架22，所述放置架22上设有网箱23，所述网箱23设有若干个，清洗箱20顶部中间开有通口，且所述清洗箱20顶部中间插接有箱盖21，所述清洗箱20底部固定安装有声波发生器24，所述清洗箱20表面设有观察窗201。
[0021]进一步地，当要对工件进行清洗时，打开箱盖21将工件放入网箱23中，网箱23由铁丝网制作而本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆的超声波清洗机，其特征在于：包括底板(10)、机架(11)、清洗箱(20)和吸附机构(30)，所述机架(11)设有两个，两个所述机架(11)底端分别固定连接于底板(10)顶部两侧，所述清洗箱(20)设有两个，所述清洗箱(20)分别位于机架(11)之间的顶部和底部，两个所述清洗箱(20)均固定安装于机架(11)内侧，所述吸附机构(30)设有两个，两个所述吸附机构(30)固定安装于两个所述清洗箱(20)之间，所述吸附机构(30)包括吸附箱(31)，所述吸附箱(31)内壁顶部和底部均固定连接有支撑块(32)，所述支撑块(32)之间设有滤芯(33)，所述滤芯(33)一侧固定连接有连接板(35)，所述吸附箱(31)靠近连接板(35)一侧开有箱口(34)，且所述连接板(35)与箱口(34)相匹配，所述吸附箱(31)顶部和底部分别固定连接有第一通水管(311)和第二通水管(312)，所述第一通水管(311)底端延伸至滤芯(33)顶端，所述第二通水管(312)顶端延伸至滤芯(33)底端。2.根据权利要求1所述的一种晶圆的超声波清洗机，其特征在于：所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵峰，
申请(专利权)人：恩士力半导体无锡有限公司，
类型：新型
国别省市：