掩模板结构及掩模板结构的制备方法技术

本申请实施例提供一种掩模板结构及掩模板结构的制备方法，通过针对对位掩模条设计异形对位部，可以使得实际对位部与张网部分形成高度差，避免对位部与待蒸镀基板进行接触而导致蒸镀对位部分不稳定，并且掩模板框架上的对位凹槽与对位部一一对应，无需针对整个对位掩模条进行整面开槽，因此开槽面积更小，从而可以提升掩模板框架的机械强度。此外，通过将异形对位部与支撑部进行连接，支撑部与掩模板框架表面形成支撑，可以保证张网过程中对位掩模条能够正常受力。条能够正常受力。条能够正常受力。

【技术实现步骤摘要】
掩模板结构及掩模板结构的制备方法


[0001]本申请涉及显示
，具体而言，涉及一种掩模板结构及掩模板结构的制备方法。

技术介绍

[0002]在OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板的制程中，在像素蒸镀环节通常需要使用掩模板结构进行蒸镀像素控制。为保证掩模板能够与待蒸镀基板的相对位置准确，通常会在掩模板上焊接用于对位的蒸镀对位部分，在像素蒸镀过程中通过待蒸镀基板上的对位标识和蒸镀对位部分上的对位标识进行对位从而保证两者相对位置准确。
[0003]然而，目前大部分蒸镀对位部分采用的设计均会与待蒸镀基板直接接触以实现对位匹配，该设计会对掩模版使用寿命产生不良影响。例如，当蒸镀对位部分使用到一定时间后，因对位过程产生的摩擦则会导致蒸镀对位部分不稳定，从而在镜头抓取时出现水波纹现象，影响蒸镀对位精度。

技术实现思路

[0004]基于现有设计的不足，本申请提供一种掩模板结构及掩模板结构的制备方法。
[0005]根据本申请的第一方面，提供一种一种掩模板结构，所述掩模板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模板结构，其特征在于，所述掩模板结构包括掩模板框架及对位掩模条；其中，所述掩模板框架包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面为在蒸镀过程中与待蒸镀基板相对的表面，所述掩模板框架的第一表面上间隔设置有多个对位凹槽；其中，所述对位掩模条包括支撑部和异形对位部，所述异形对位部包括位于所述对位凹槽内的对位块以及分别从所述对位块的两端往所述第一表面的方向延伸的连接块，所述对位块通过所述连接块与所述支撑部连接，所述支撑部位于所述第一表面。2.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，所述对位块在垂直于所述第一表面的方向上的厚度小于所述对位凹槽的深度。3.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，在垂直于所述第一表面的方向上，所述对位块靠近所述第一表面的一侧与所述第一表面之间的距离d≠k*λ/n，其中，k为消光系数，λ为波长，n为折射率。4.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，所述对位块与所述对位凹槽的侧边缘之间存在间隙。5.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，所述对位凹槽的底面设置有第一焊接区，所述对位块设置有与所述第一焊接区对应的第二焊接区，所述对位块通过所述第一焊接区和所述第二焊接区固定于所述对位凹槽的底面。6.根据权利要求1所述的掩模板结构，其特征在于，所述掩模板结构还包括精细金属掩模和支撑架，所述支撑架用于支撑所述精细金属掩模，所述精细金属掩模和所述支撑架固定于所述掩模板框架上位于所述对位凹槽的一侧。7.一种掩模板结构的制备方法，其特征在于，所述方法包括：提供掩模板框架，所述掩模板框架包括相对设置的第一表面和第...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩冰，王水俊，周丽芳，杨凯，李文星，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：