可抹除的标志制造技术

技术编号:3008808 阅读:218 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一标志包括有:一基底层,在基底层内或在其下面具有反差明显的图象或标记;和一延伸覆盖基底层的上薄片。当在上薄片上施加压力情况下上薄片与基底层相互间呈可脱开的粘合,而当使上薄片与基底层间呈可脱开的粘合时,基底层的图象或标记透过上薄片显现(呈可见状态),而当上薄片从基底层上脱离时,图象或标记基本上就看不见了。(*该技术在2014年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种可抹除的标志,本专利技术的标志可以是单独的标志或者是另一物品的组成部分,例如这种物品是一标签或一本书。本专利技术提供了一种通常呈空白或被抹掉状态下的标志,但通过操作可显示出一预定的图像或标记,其中可包括一或多个文字,这种图像或标记可按意愿再次予以抹除,如此继续。图像或标记可以是任何形式的图像符号或是任何的文字,或是一个或多个符号以及一个或多个文字的组合。从广泛的意义上说,本专利技术的一个方面内容是包括一种可抹除的标志,该标志包含一基底层,它具有一在基底层内或层下方的显著的(或对比明显的)图像或标记;和一延伸覆盖住基底的上薄片。上薄片和基底层在加在上薄片上的上压力作用下而相互间呈可分开的粘合。当上薄片与基底层间呈可分的粘合状态时,基底层的图像或标记可透过上薄片被看到,而当上薄片从基底层上脱开时,图像或标志就难以看清,最好是完全看不到了。基底层可做成图像或标记的形态,该形态是图像或标记的正像,或是一负像;或者图像或标记可以正像或负像的形式印刷在基底层下面的表面上,而基底层可以作为一清晰或大致清晰的涂层涂覆在所述表面上。从广泛意义上说,本专利技术的另一方面内容包括一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:弗兰克·詹姆斯·克莱夫·比尔别贝弗利·罗伊·蒂珀
申请(专利权)人:雷马克伊控股有限公司
类型:发明
国别省市:

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