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一种内嵌MoS制造技术

技术编号:30084583 阅读:51 留言:0更新日期:2021-09-18 08:43
一种内嵌MoS

【技术实现步骤摘要】
一种内嵌MoS
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纳米片的三维有序大孔类石墨烯炭材料、制备与应用


[0001]本专利技术涉及一种内嵌MoS
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纳米片的三维有序大孔类石墨烯炭材料及其制备与应用,属于功能性纳米复合材料领域。

技术介绍

[0002]随着电子产品和电动汽车产业的迅速发展,人们对储能设备的性能提出了更高要求。锂离子电池的商用石墨负极容量有限(372mAh/g),亟需开发性能更为优异的新一代负极材料。近年来,二硫化钼因其具有与石墨材料类似的层状结构、更高的储锂容量(670mAh/g)以及较低的原料成本,在电化学能源存储与转换领域受到广泛关注。然而,将二硫化钼单独作为锂离子电池负极材料使用时,存在体积膨胀大、导电率低等问题,同时在电极制备和充放电过程中,其二维纳米片很容易发生团聚而进一步影响其对电子、离子的传导,难以稳定地实现优异的储锂性能。
[0003]三维多孔结构有连续的电子、离子提供传输路径,孔内的空间能缓冲材料的体积膨胀,同时可分散片层结构避免其团聚,保持材料结构稳定。本申请专利第一专利技术人也曾开发出一种独创的三维有序本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种内嵌MoS
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纳米片的三维有序大孔类石墨烯炭材料,其特征在于,该复合材料整体具有三维有序大孔结构,其中一级孔径为330~400nm、二级孔径为150~160nm,二维MoS
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纳米片紧密镶嵌于三维有序大孔炭框架内,三维有序大孔炭框架由类石墨烯碳与前驱体硝酸镍衍生出的纳米晶金属镍杂化而成,且金属镍可根据需要自由去除而不影响目标材料的主要形貌。2.按照权利要求1所述的一种内嵌MoS
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纳米片的三维有序大孔类石墨烯炭材料,其特征在于,三维有序大孔炭框架中内嵌的、单分散的MoS
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纳米片的厚度为10~30nm,其面向长度尺寸大于三维有序大孔直径或与之相当。3.制备权利要求1或2所述的内嵌MoS
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纳米片的三维有序大孔类石墨烯炭材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将硝酸镍和柠檬酸溶于去离子水中,搅拌形成均一的溶液,后加入排列规整的聚甲基丙烯酸甲酯微球构成的模板浸渍12h,经抽滤和干燥后,将所得材料在惰性气氛下煅烧碳化,制备出镍金属纳米晶与类石墨烯碳杂化而成的具有三维有序大孔结构的炭框架复合材料;(2)将步骤(1)制得的具有三维有序大孔结构的...

【专利技术属性】
技术研发人员:吉科猛王疆李炜旗朱敏杰刘召召刘心宇吴梦倩段晶莹陈明鸣王成扬
申请(专利权)人:天津大学
类型:发明
国别省市:

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