【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于测试图像与设计对准的设计文件选择
[0001]本专利技术大体来说涉及用于选择一或多个设计文件以供在测试图像与设计对准中使用的方法及系统。
技术介绍
[0002]以下说明及实例并不由于其包含于此章节中而被认为是现有技术。
[0003]可使用例如电子设计自动化(EDA)、计算机辅助设计(CAD)及其它集成电路(IC)设计软件的方法或系统来开发IC设计。此些方法及系统可用于依据IC设计产生电路图案数据库。电路图案数据库包含表示IC的各个层的多个布局的数据。电路图案数据库中的数据可用于确定多个光罩的布局。光罩的布局通常包含界定光罩上的图案中的特征的多个多边形。每一光罩用于制作IC的各种层中的一者。IC的各层可包含例如半导体衬底中的结图案、栅极电介质图案、栅极电极图案、层级间电介质中的接点图案及金属化层上的互连图案。
[0004]制作例如逻辑及存储器装置等半导体装置通常包含使用众多半导体制作过程来处理例如半导体晶片的衬底以形成半导体装置的各种特征及多个层级。举例来说，光刻是涉及将图案从光罩转印到布置于半导体晶片上的...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种经配置以选择一或多个设计文件以供在测试图像与设计对准中使用的系统，其包括：一或多个计算机系统，其经配置以用于：获取样品的第一及第二组图像，其中所述第一及第二组图像分别包括所述样品上的第一及第二组设计层中的经图案化特征的图像，且其中所述第一与第二组设计层是彼此不同的；通过将所述第一及第二组图像与针对所述样品产生的测试图像进行比较而识别所述第一及第二组图像中的哪一组图像最佳匹配所述测试图像；通过将所述经识别组的图像与设计文件进行比较而为所述样品选择所述设计文件中最佳匹配所述经识别组的图像的一或多个设计文件；及存储所述经选择一或多个设计文件的信息以供在一过程中使用，在所述过程中将所述经选择一或多个设计文件中的经图案化特征与在所述过程中针对样品产生的测试图像中的经图案化特征对准以借此将所述测试图像与所述一或多个设计文件对准。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一及第二组图像是针对所述样品上的两个或多于两个离散位置而产生。3.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括输出获取子系统，所述输出获取子系统经配置以通过以下操作对所述样品执行所述过程：将能量引导到所述样品；检测来自所述样品的能量；及响应于所述所检测能量而产生输出，其中在所述所产生输出中未分辨形成于所述样品上的所述设计层中的所述经图案化特征。4.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一组设计层包括所述设计层中的至少一者，所述设计层中的所述至少一者形成于所述第二组设计层中的所述设计层中的至少一者下方。5.根据权利要求4所述的系统，其中所述过程是基于光的过程，在所述基于光的过程中从所述样品检测的光响应于所述设计层中的所述至少一者，所述设计层中的所述至少一者形成于所述第二组设计层中的所述设计层中的所述至少一者下方。6.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括经配置以用于产生所述第一及第二组图像的电子束成像系统，其中所述过程是基于光的过程。7.根据权利要求6所述的系统，其中所述第一及第二组图像是分别利用所述电子束成像系统的第一及第二组成像参数而产生，借此致使所述第一及第二组中的所述图像中的第一及第二组的所述经图案化特征彼此不同。8.根据权利要求7所述的系统，其中所述第一及第二组成像参数包括不同加速电压。9.根据权利要求1所述的系统，其中所述过程包括在两个或多于两个模式中检测来自所述样品的能量，且其中所述一或多个计算机系统进一步经配置以用于针对所述两个或多于两个模式中的每一者单独执行所述获取、所述识别、所述选择及所述存储。10.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括一或多个组件，所述一或多个组件经配置以用于通过模拟在针对所述第一及第二组设计层对所述样品执行的所述...
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