显示装置的沉积掩模及其制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示装置的沉积掩模及其制造方法。其易于保证定位精度和图形尺寸精度，并适用于高分辨率显示装置。本发明专利技术的沉积掩模具有至少一个图形掩模，其具有与将形成在衬底上的图形相同的图形；以及边框掩模，其具有至少一个开口。图形掩模在对应于开口的边框掩模区域被分别固定到边框掩模。沉积掩模通过制备具有与将形成在衬底上的图形相同的图形的至少一个图形掩模和具有至少一个开口的边框掩模制作而成。该方法还包括将图形掩模与边框掩模的开口对准并将与开口对准的图形掩模固定到边框掩模上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于沉积平板显示器使用的薄膜的掩模，更具体地，涉及沉积掩模及其制造方法，其适用于具有高分辨率以及改进的定位精度和图形尺寸精度的平板显示器。
技术介绍
用于沉积显示装置的薄膜的沉积掩模通常通过使用光刻的刻蚀方法和使用光刻和电解方法的电成型方法来制作。所制作的沉积掩模与衬底精密对准，在衬底处将形成沉积对象，也即显示装置。透过沉积掩模提供沉积源，由此沉积所需图形到衬底上。这种沉积掩模基本上为精细图形化的掩模，并且视掩模尺寸和显示器的高分辨率变得难以制作。通常，对于沉积掩模，用于沉积过程的金属薄膜越薄，则在沉积过程后显示装置的品质越高。因而，这造成沉积掩模的金属薄膜越薄越好。然而，如果金属薄膜太薄，那么即使可以保证定位精度和图形尺寸精度，但沉积掩模可能在沉积过程中或者在沉积准备过程中被损坏。因此，传统沉积掩模以可适用于薄膜沉积装置的尺寸来制作，其中不仅沉积掩模的定位精度和图形尺寸精度而且用于确定位置的掩模对准和形成接触的机械过程在确定在玻璃衬底上制作的显示装置的品质时起到重要作用。优选地，这种沉积掩模制作简单，耗时少且成本低。图1A、1C和1D显示了用于沉积显示装置薄膜的传统沉积掩模的平面图。图1B显示了沿图1A中线IB-IB截取的用于沉积显示装置薄膜的传统沉积掩模的剖视图。图1A至1D所示的沉积掩模用于在衬底上制作多个显示装置，并且因而被用于显示装置小于沉积对象即衬底的情况中。请参照图1A和1B，传统沉积掩模100包括边框120和由边框120支撑的精细图形化掩模110。如图1C所示，边框120除了边缘121之外包括位于中心的开口125，并支撑精细图形化掩模110。精细图形化掩模110包括多个具有将形成在衬底上的图形的图形掩模112，如图1D所示。在精细图形化掩模110中，多个图形掩模112对应于边框120的开口125而设置。标记116表示精细图形化掩模110的边缘，而标记117和118表示精细图形化掩模110的图形掩模112之间的部分。所述多个图形掩模112中的每一个对应一衬底，例如将形成在介电衬底上的显示装置，并包括具有与将形成在衬底上的图形相同的开口114。以下将说明用于制作具有上述结构的传统沉积掩模的方法。首先，精细图形化掩模110利用例如光刻或电成型等传统方法制作成一体型，其包括多个图形掩模112。精细图形化掩模110与边框120的开口125对准，随后精细图形化掩模110通过焊接或粘接被固定到边框120上。图2A和2B显示了用于沉积显示装置薄膜的传统沉积掩模的平面图和剖视图，其中图2B显示了沿图2A中线IIB-IIB截取的剖视图。图2A和2B所示的沉积掩模用于在衬底上制作一个显示装置，其用于显示装置具有与沉积对象(即衬底)相似尺寸的情况下。请参照图2A和2B，传统沉积掩模200包括边框220和精细图形化掩模210。如图2B所示，边框220除了边缘221之外包括位于中心的开口225。精细图形化掩模210包括一个具有与沉积对象(即衬底)相似尺寸的图形掩模212。精细图形化掩模210中的图形掩模212包括具有与将形成在衬底上的显示装置的图形相同的图形的开口214。同样地，在传统沉积掩模200中，精细图形化掩模210利用例如光刻方法或电成型方法等传统方法制作成一体型。精细图形化掩模210与边框220的开口225对准，随后精细图形化掩模210通过焊接或粘接被固定到边框220上。如上所述，用于沉积显示装置薄膜的传统沉积掩模至少具有以下问题。由于精细图形化掩模通过使用光刻的刻蚀工艺或使用光刻或电解的电成型方法在金属薄膜上形成图形掩模而被制作成一体型，所以制作没有例如图形破损等缺欠的大尺寸精细掩模是非常困难的，并且图形尺寸精度降低。此外，由于图形掩模形成为一体型，也很难将精细掩模对准并固定到边框以及获得理想的定位精度。
技术实现思路
本专利技术提供一种沉积掩模及其制作方法，其可以改善定位精度和图形尺寸精度。本专利技术另外提供一种沉积掩模及其制作方法，其容易制作并适用于高分辨率显示装置。本专利技术另外提供一种沉积掩模，包括至少一个图形掩模，具有与将形成在衬底上的图形相同的图形；以及边框掩模，具有至少一个开口，其中图形掩模被分别固定到对应于开口的边框掩模上。在本专利技术的各实施例中，沉积掩模还包括用于支撑边框掩模的边框，边框掩模由磁性材料制成，而边框和图形掩模由金属、金属合金或聚合物树脂制成。本专利技术另外提供一种制作沉积掩模的方法，包括以下步骤制备至少一个具有与将形成在衬底上的图形相同的图形的图形掩模和具有至少一个开口的边框掩模；将图形掩模与边框掩模的开口对准；以及将与开口对准的图形掩模固定到边框掩模上。在本专利技术的各实施例中，通过重复对准和固定步骤，图形掩模被分别固定到边框掩模的每个开口上。该方法还包括在制备图形掩模和边框掩模之后固定边框掩模到边框的步骤。通过焊接或粘接来进行固定图形掩模到边框掩模和固定边框掩模到边框的步骤。图形掩模通过使用光刻的刻蚀方法或者使用光刻或电解方法的电成型方法来制作。本专利技术另外提供一种平板显示器。该平板显示器利用一沉积掩模制备，在该沉积掩模中，至少一个具有与将形成在衬底上的图形相同的图形的图形掩模对准并分别固定到边框掩模的至少一个开口。附图说明图1A、1C和1D为用于显示装置的传统沉积掩模的平面图，其中沉积对象小于显示装置的衬底；图1B为用于显示装置的传统沉积掩模的剖视图，其中沉积对象小于显示装置的衬底；图2A和2B分别为用于显示装置的传统沉积掩模的平面图和剖视图，其中沉积对象具有与显示装置衬底相似的尺寸；图3A和3C为根据本专利技术一实施例的用于显示装置的沉积掩模的平面图；图3B为根据本专利技术一实施例的用于显示装置的沉积掩模的剖视图；图4A和4B分别为根据本专利技术另一示范性实施例的用于显示装置的沉积掩模的平面图和剖视图；以及图5和6为显示根据本专利技术一实施例的制作用于显示装置的沉积掩模的方法的流程图。具体实施例方式现在将参照附图对本专利技术的示范性实施例描述如下。图3A和3C为根据本专利技术一示范性实施例的用于沉积平面显示器薄膜的掩模的平面图。图3B为沿图3A中线IIIB-IIIB截取的根据本专利技术一示范性实施例的用于沉积平面显示器薄膜的掩模的剖视图。根据本专利技术一示范性实施例的沉积掩模300用于在一个衬底上制作多个显示装置，其用于显示装置小于沉积对象(即衬底)的情况下。本专利技术的沉积掩模300包括边框掩模330和多个精细图形的图形掩模310，图形掩模310固定到边框掩模330上。边框掩模330用作图形掩模310的支撑体。边框掩模330包括多个对应图形掩模310被固定的位置的开口335以及用于支撑精细图形的图形掩模330的边框部分，如图3C所示。边框掩模330的开口335用于保证沉积对象(即衬底)的有效区域。此外，开口335的尺寸与精细图形的图形掩模310(也即，将形成在衬底上的显示装置)的尺寸相对应。边框掩模330的边框部分由包围多个开口335的边缘部分336及彼此构建如开口335形状的交叉的部分337和338构成。多个图形掩模310与边框掩模330的开口335一一对应设置，并分别固定到开口335上。每个图形掩模310包括开口314，其具有与将形成在衬底上的图形相同的图形。制作具有以上根据本专利技术的结构的沉积本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种沉积掩模，包括：　　　　至少一个图形掩模，具有与将形成在衬底上的图形相同的图形；以及　　　　　边框掩模，具有至少一个开口，　　　　其中所述至少一个图形掩模被分别固定到边框掩模上，使得通过所述开口露出所述至少一个图形掩模。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：金利坤，金泰亨，
申请(专利权)人：三星SDI株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]