缺陷修补装置及靶材结构制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种缺陷修补装置，包括：一电磁波发射单元、一平台、一承载单元以及一流体冷却单元。该平台，其是提供承载待修补之一基板，该基板上具有一缺陷线路。该承载单元，其是设置于该电磁波发射单元与该平台之间，该承载单元是承载有一修补材料，该修补材料可接收该电磁波发射单元所提供的电磁波光束，以转移至该缺陷线路上。该流体冷却单元，其是可吸收在转移修补材料时所产生的热，以提供冷却。利用本发明专利技术的装置可以防止缺陷修补装置受到热影响而受到破坏以及修补材料因受热而氧化的问题。另外本发明专利技术提供一靶材结构，其是承载多种不同材质以及不同厚度的修补材料，以适用于各种多样式的修补图案。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种修补装置，尤其是指一种利用具有流体冷却 以避免装置的构成组件以及修补材料受到热影响而遭受破坏以 及氧化之一种缺陷修补装置。
技术介绍
平面显示器(Flat Panel Display, FPD)已是国内最重要的 产业之一，随着大尺寸液晶显示器面板的发展量产到七代厂，面 板尺寸的大型化及产能需求不断提高的趋势及市场需求下，使得 现有的修补制程面临极大的瓶颈。如图l所示，平面显示器的前 段制程主要为利用光阻蚀刻技术进行线路图案成型，而在此制程 中因污染及本身的蚀刻误差，导致制程完成后于线路图案中产生 开路缺陷(open defect) 10以及线缺陷(line defect) 11，这些缺 陷是不被允许的，因此必须加以修补(repair)。传统进行修补的主要方式为激光化学气相沉积(Laser Chemical Vapor Deposition, Laser CVD)， 而此修补制程主要 是将检测后的面板离线送至需特殊气氛环境的Laser CVD设备 中，再利用激光与特殊气体的光化学反应，使修补的线路材料沉积于具有缺陷的线路上而完成修补制程。因为需要离线进行修补处理及制程需要于特殊气氛环境下进行，导致使用Laser CVD进行修补制程的产能较低。另外，现有技术中如日本公开专利JP. NO. 2000031013号所揭露的一种线路图案修补装置与方法，其是利用激光将修补材料 转移至具有缺陷的线路图案上，以回复线路图案的电性。在该技术中，修补的线路材料受激光照射后，修补材料容易受到激光的 能量而产生热影响区的现象，因此会有材料氧化及破坏的问题。 此外，在现有技术中也容易因为高热而导致装置的相关组件，例如修补材料承载单元以及被修补的基板遭到损坏。
技术实现思路
本专利技术目的是提供一种缺陷修补装置，其是可提供冷却以避 免修补装置的构成组件或被修补的基板因在修补过程中受热而 遭受热损害。本专利技术提供一种缺陷修补装置，其是可提供冷却以避免修补 材料因在修补过程中受热而氧化，进而影响其导电特性。本专利技术提供一种缺陷修补装置，其是不需将检测后的面板离 线修补，可与整线制程设备结合，大幅提升生产效率。本专利技术提供一靶材结构，其是承载多种不同材质以及不同厚 度的修补材料，以适用于各种多样式的修补图案。在一实施例中，本专利技术提供一种缺陷修补装置，包括 一电 磁波发射单元； 一平台，其是可提供承载待修补的一基板，该基 板上具有一缺陷线路； 一承载单元，其是设置于该电磁波发射单元与该平台之间，该承载单元是承载有一修补材料，该修补材料 可接收该电磁波发射单元所提供的电磁波光束，以转移至该缺陷 线路上；以及一流体冷却单元，其是可吸收在转移修补材料时所 产生的热，以提供冷却。在另一实施例中，该流体冷却单元是为一承载单元冷却装 置，其是设置于该承载单元上，该承载单元冷却装置可以提供一 气流作用于该承载单元上。在另一实施例中，该流体冷却单元更具有 一保护气帘单元， 其是设置于该承载单元的周围且具有多数个气流通道，以提供一 循环气流于该基板以及该修补材料上；以及一承载单元冷却装 置，其是设置于该承载单元上，该承载单元冷却装置可以提供一 冷却气流。在另一实施例中，该流体冷却单元更具有 一保护气帘单元， 其是设置于该承载单元的周围且具有多数个气流通道，以提供一 循环气流于该基板以及该修补材料上； 一承载单元冷却装置，其 是设置于该承载单元上，该承载单元冷却装置可以提供一冷却气 流；以及一平台冷却单元，其是设置于该平台上，该平台冷却单 元具有循环回路以提供一流体进行循环。在另一实施例中，该流体冷却单元更具有 一保护气帘单元， 其是设置于该承载单元的周围且具有多数个气流通道，以提供一 循环气流于该基板以及该修补材料上；以及一平台冷却单元，其 是设置于该平台上，该平台冷却单元具有循环回路以提供一流体 进行循环。在另一实施例中，该流体冷却单元更具有 一承载单元冷却装置，其是设置于该承载单元上，该承载单元冷却装置可以提供 一冷却气流；以及一平台冷却单元，其是设置于该平台上，该平 台冷却单元具有循环回路以提供一流体进行循环。在一实施例中，本专利技术更提供一种靶材结构，包括 一承载 板；以及复数种修补材料，其是形成于该承载板的一面上。该复 数种修补材料可选择环形数组以及矩形数组其中之一而排列于 该承载板上。附图说明图1是为线路图案的缺陷示意图。图2A与图2B是为本专利技术缺陷修补装置的第一实施例示意图。 图3是为本专利技术缺陷修补装置的第二实施例示意图。 图4A至图4C是为本专利技术缺陷修补装置的流体冷却单元其它实 施例示意图。图5是为本专利技术缺陷修补装置的第三实施例示意图。 图6是为本专利技术缺陷修补装置的第四实施例示意图。图7是为本专利技术的耙材结构第一实施例示意图。 图8A至图8H是为本专利技术的修补材料结构示意图。图9是为本专利技术的靶材结构第二实施例示意图。主要组件符号说明1- 线路图案 10、 11-缺陷2- 缺陷修补装置20- 电磁波发射单元 200-电磁波21- 承载单元 210-固定单元211、 213、 214-承载板 22、 22a、 22b-修补材料220- 金属材料层221- 缓冲层222- 导电黏着层 224-中介层23- 平台230-平台冷却单元24- 保护气帘单元 240-气流通道25- 承载单元冷却装置26- 光罩结构27- 光形调整单元 30-基板 3卜缺陷线路 90-循环气流具体实施方式为能对本专利技术的特征、目的及功能有更进一步的认知与了 解，下文特将本专利技术的装置的相关细部结构以及设计的理念原由 进行说明，以使得审查委员可以了解本专利技术的特点，详细说明 陈述如下请参阅图2A与图2B所示，该图是为本专利技术缺陷修补装置的 第一实施例示意图。该缺陷修补装置2具有一电磁波发射单元 20、 一平台23、 一承载单元21以及一流体冷却单元。该电磁波 发射单元20是可产生电磁波光束200，其是可选择为全波段激光 源或者是紫外光波激光。在本实施例中，该电磁波发射单元20 是为全波段激光源。该平台23，其是可提供承载待修补的一基板30，该基板30 上具有一缺陷线路31。该缺陷线路31是可为线缺陷或者是开路 缺陷或者是前述两者的组成，在本实施例中是以开路缺陷作说 明。该基板30可是玻璃基板或者是硅基板，面板上的线路图案 在本实施例中是为应用于平面显示器的线路图案，但不在此限。 该承载单元21，其是设置于该电磁波发射单元20与该平台23 之间，该承载单元21是具有一固定单元210以及一承载板211。 该承载板211是承载有一修补材料22，该修补材料22可接收该 电磁波发射单元20所提供的电磁波光束200，以转移至该缺陷线 路31上。该修补材料22可为金属可导电的材料，该金属可导电 材料可选择钨、金、银、铜、银胶或者是钼材料，但不在此限。 在本实施例中，该修补材料22是形成于一承载板211上，该承 载单元21的固定单元210是利用真空吸附或者是夹持的方式固定该承载板211，此时该修补材料22是与该缺陷线路31相对应。该流体冷却单元，其是可提供冷却以避免该修补材料因受热 氧化、该基板因受热影响而损坏或者是缺陷修补装置的构成组件，例如承载单元21，受热而损坏。本专利技术的流体冷本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种缺陷修补装置，其特征在于包括：一电磁波发射单元；一平台，其是可提供承载待修补的一基板，该基板上具有一缺陷线路；一承载单元，其是设置于该电磁波发射单元与该平台之间，该承载单元是承载有一修补材料，该修补材料可接收该电磁波发射单元所提供的电磁波，以转移至该缺陷线路上；以及一流体冷却单元，其是可吸收在转移修补材料时所产生的热，以提供冷却。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：廖仕杰，陈辉达，王仪龙，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]