当前位置: 首页 > 专利查询>何光赠专利>正文

一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫制造技术

技术编号:29980347 阅读:11 留言:0更新日期:2021-09-08 10:12
本发明专利技术涉及鞋垫技术领域,尤其为一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫,包括鞋垫本体和顶部鞋垫层,所述鞋垫本体下方两侧通过粘结剂连接有呈凸起的脚跟减震层和脚掌减震层,所述鞋垫本体内部开设有面积是鞋垫本体上端面面积0.8倍的凹槽,且凹槽内设有高释放负离子石粉鞋垫膜层和顶部鞋垫层,所述顶部鞋垫层表面开设有均匀分布且贯穿顶部鞋垫层端面的透气孔;本发明专利技术中,通过设置的顶部鞋垫层、透气孔、高释放负离子石粉鞋垫膜层和限位块,在使用时,其高释放负离子石粉鞋垫膜层会产生大量的负离子然后通过顶部鞋垫层的透气孔溢出,可以实现杀菌除臭的目的,而设置的脚掌和脚跟减震层可以使其贴合人们脚部曲线,在进行减震的同时保持舒适性。持舒适性。持舒适性。

【技术实现步骤摘要】
一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫


[0001]本专利技术涉及鞋垫
,具体为一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫。

技术介绍

[0002]鞋垫大量应用于制鞋业、保健、特殊功用;一般分为制鞋业应用型鞋厂应用型鞋垫和市场商品型两种模式,制鞋业应用的鞋垫主要是配合鞋子大底、中底、做出相应的型体;按照楦底板或者面板制作尺码板,并制作出相应的形状,市场商品型鞋垫主要是把鞋垫直接作为一种商品出售,由开发师设计,在市场上流通的产品。
[0003]目前市场上存在的大部分鞋垫只能满足基本要求,因为人们需要经常运动,脚容易有异味,脚臭是由于身体的小汗腺分泌旺盛,汗腺分泌物在细菌、霉菌分解下产生秽臭,脚臭容易滋生细菌,不仅影响患者本人的自身健康,也公共场合也比较尴尬,因此,针对上述问题提出一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:
[0006]一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫,包括鞋垫本体和顶部鞋垫层,所述鞋垫本体下方两侧通过粘结剂连接有呈凸起的脚跟减震层和脚掌减震层,所述鞋垫本体内部开设有面积是鞋垫本体上端面面积0.8倍的凹槽,且凹槽内设有高释放负离子石粉鞋垫膜层和顶部鞋垫层,所述顶部鞋垫层表面开设有均匀分布且贯穿顶部鞋垫层端面的透气孔,所述顶部鞋垫层的背面开设有呈三角形设置的限位孔,所述限位孔内均设有限位块,所述限位块另一端面均与高释放负离子石粉鞋垫膜层端面连接。
[0007]优选的,所述鞋垫本体内部通过粘结剂与高释放负离子石粉鞋垫膜层和顶部鞋垫层连接,所述顶部鞋垫层前端面与鞋垫本体前端面平齐。
[0008]优选的,所述脚跟减震层外侧呈曲面设置,所述脚掌减震层外侧呈曲面设置,所述脚跟减震层和脚掌减震层均是由热塑性聚氨酯材质构成。
[0009]优选的,所述顶部鞋垫层前端面采用触感好的无纺布粘结在其表面。
[0010]优选的,所述鞋垫本体是由橡胶原材料与硫酸钡原材料混合而成,且橡胶原材料与硫酸钡原材料配合比例为7:3。
[0011]优选的,所述高释放负离子石粉鞋垫膜层内部的蒙宝天石结晶粉通过静态测定法测得负离子释放量为43400/cm3。
[0012]优选的,所述高释放负离子石粉鞋垫膜层的制作工艺为:
[0013]步骤1:结晶粉首先进行验收,使其符合相关产品标准,然后通过筛选设备对结晶粉进行筛选,保证其中无杂质,保证其纯度;
[0014]步骤2:将结晶粉通过粉碎设备进行均匀粉碎,且粉碎后的颗粒直径为150

180μm;
[0015]步骤3:然后将粉碎后的材料与橡胶原料进行混合工作,在混合时,其向内部均匀添加混合剂,且通过搅拌设备进行均匀搅拌工作,且在搅拌过程中其温度保持在20

60℃之间,然后进行漂洗工作,直至PH值为5

7,然后进行脱水工作,使其半成品输送至脱水池进行脱水至70

75%;
[0016]步骤4:然后将其放置在烘干机内部,其内部温度为30

90℃之间,静止5

30分钟,将其取出通过人工或者机器进行裁剪修边工作,采用烫压机对其进行平整烫压,然后对裁切后的高释放负离子石粉鞋垫膜层进行锁边处理,得到成品高释放负离子石粉鞋垫膜层。
[0017]与现有技术相比,本专利技术的有益效果是:
[0018]1、本专利技术中,通过设置的顶部鞋垫层、透气孔、脚跟减震层、高释放负离子石粉鞋垫膜层和限位块,在使用时,其高释放负离子石粉鞋垫膜层会产生大量的负离子然后通过顶部鞋垫层的透气孔溢出,可以实现杀菌除臭的目的,而设置的脚掌和脚跟减震层可以使其贴合人们脚部曲线,在进行减震的同时保持舒适性。
附图说明
[0019]图1为本专利技术整体结构示意图;
[0020]图2为本专利技术侧面结构示意图;
[0021]图3为本专利技术高释放负离子石粉鞋垫膜层结构示意图;
[0022]图4为本专利技术限位块结构示意图。
[0023]图中:1

鞋垫本体、2

顶部鞋垫层、3

透气孔、4

脚跟减震层、5

高释放负离子石粉鞋垫膜层、6

限位块、7

脚掌减震层。
具体实施方式
[0024]实施例1:
[0025]请参阅图1、图2、图3和图4,本专利技术提供一种技术方案:
[0026]一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫,包括鞋垫本体1和顶部鞋垫层2,鞋垫本体1下方两侧通过粘结剂连接有呈凸起的脚跟减震层4和脚掌减震层7,鞋垫本体1内部开设有面积是鞋垫本体1上端面面积0.8倍的凹槽,且凹槽内设有高释放负离子石粉鞋垫膜层5和顶部鞋垫层2,这种嵌入式高释放负离子石粉鞋垫膜层5可以保证其整体完整,保证其不易损坏,保证其杀菌除臭效果更长久,顶部鞋垫层2表面开设有均匀分布且贯穿顶部鞋垫层2端面的透气孔3,顶部鞋垫层2的背面开设有呈三角形设置的限位孔,限位孔内均设有限位块6,限位块6另一端面均与高释放负离子石粉鞋垫膜层5端面连接。
[0027]鞋垫本体1内部通过粘结剂与高释放负离子石粉鞋垫膜层5和顶部鞋垫层2连接,顶部鞋垫层2前端面与鞋垫本体1前端面平齐,这种设置保证鞋垫使用舒适,脚跟减震层4外侧呈曲面设置,脚掌减震层7外侧呈曲面设置,脚跟减震层4和脚掌减震层7均是由热塑性聚氨酯材质构成,这种设置具有很好的减震目的,顶部鞋垫层2前端面采用触感好的无纺布粘结在其表面,其无纺布具有杀菌的效果,鞋垫本体1是由橡胶原材料与硫酸钡原材料混合而成,且橡胶原材料与硫酸钡原材料配合比例为7:3,从而制成重量适中,增加舒适性,变高释放负离子石粉鞋垫膜层5内部的蒙宝天石结晶粉通过静态测定法测得负离子释放量为43400/cm3,这种高释放负离子的石粉具有很好的杀菌除臭的效果。
[0028]高释放负离子石粉鞋垫膜层5的制作工艺为:
[0029]步骤1:结晶粉首先进行验收,使其符合相关产品标准,然后通过筛选设备对结晶粉进行筛选,保证其中无杂质,保证其纯度;
[0030]步骤2:将结晶粉通过粉碎设备进行均匀粉碎,且粉碎后的颗粒直径为150

180μm;
[0031]步骤3:然后将粉碎后的材料与橡胶原料进行混合工作,在混合时,其向内部均匀添加混合剂,且通过搅拌设备进行均匀搅拌工作,且在搅拌过程中其温度保持在20

60℃之间,然后进行漂洗工作,直至PH值为5

7,然后进行脱水工作,使其半成品输送至脱水池进行脱水至70

75%;
[0032]步骤4:然后将其放置在烘干机内部,其内部温度为30

90℃之间,静止5
‑本文档来自技高网
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫,包括鞋垫本体(1)和顶部鞋垫层(2),其特征在于:所述鞋垫本体(1)下方两侧通过粘结剂连接有呈凸起的脚跟减震层(4)和脚掌减震层(7),所述鞋垫本体(1)内部开设有面积是鞋垫本体(1)上端面面积0.8倍的凹槽,且凹槽内设有高释放负离子石粉鞋垫膜层(5)和顶部鞋垫层(2),所述顶部鞋垫层(2)表面开设有均匀分布且贯穿顶部鞋垫层(2)端面的透气孔(3),所述顶部鞋垫层(2)的背面开设有呈三角形设置的限位孔,所述限位孔内均设有限位块(6),所述限位块(6)另一端面均与高释放负离子石粉鞋垫膜层(5)端面连接。2.根据权利要求1所述的一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫,其特征在于:所述鞋垫本体(1)内部通过粘结剂与高释放负离子石粉鞋垫膜层(5)和顶部鞋垫层(2)连接,所述顶部鞋垫层(2)前端面与鞋垫本体(1)前端面平齐。3.根据权利要求1所述的一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫,其特征在于:所述脚跟减震层(4)外侧呈曲面设置,所述脚掌减震层(7)外侧呈曲面设置,所述脚跟减震层(4)和脚掌减震层(7)均是由热塑性聚氨酯材质构成。4.根据权利要求1所述的一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫,其特征在于:所述顶部鞋垫层(2)前端面采用触感好的无纺布粘结在其表面。5.根据权利要求1所述的一种含有高释放量负离子石粉的鞋垫,其特征在于:所述鞋垫本体(1)是由橡胶原材料与硫酸钡原材料混合而成,且橡...

【专利技术属性】
技术研发人员:何光赠
申请(专利权)人:何光赠
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1