【技术实现步骤摘要】
反射式纯相位液晶空间光调制器及其制备、盒厚测试方法
[0001]本专利技术属于空间光调控器件领域,具体涉及一种反射式纯相位液晶空间光调制器及其制备、盒厚测试方法。
技术介绍
[0002]液晶空间光调制器是一种基于液晶光电特性,对光场强度和相位分布进行二维调制的器件,其已广泛应用于教学、科研、光通讯、显示以及工业等领域。同时,液晶空间光调制器由于具有分辨率高、调制范围大、图案加载灵活等优点,在微显示、全息投影、光通讯等领域也被广泛关注。液晶光阀是液晶空间光调制器的核心器件,液晶分子在电场作用下发生偏转,改变液晶光阀的光学特性,从而实现对光场调制。液晶空间光调制器根据光路分为透射式和反射式,根据基板类型分为TFT和LCoS两类,TFT基板一般用于透射式液晶空间光调制器,LCoS基板一般用于反射式液晶空间光调制器。
[0003]图1a和图1b为现有LCOS型反射式纯相位液晶空间光调制器和TFT型透射式纯相位液晶空间光调制器的光调控器件液晶光阀的结构图。现有反射式纯相位液晶空间光调制器尺寸一般在0.26”~1.2”,尺寸较小 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种反射式纯相位液晶空间光调制器,其特征在于:包括上盖板玻璃、第二电极层、上取向层、液晶分子层、下取向层、第一电极层、像素电路层、下盖板玻璃和透明支撑柱;所述上盖板玻璃、第二电极层、上取向层由上至下依次设置形成上基板,且上盖板玻璃上设置有遮光层;所述下取向层、第一电极层、像素电路层、下盖板玻璃由上至下依次设置形成下基板;所述透明支撑柱与第二电极层连接,其设置在液晶分子层中,排布在像素非开口区;所述像素电路层采用大面阵薄膜晶体管TFT
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LCD电路基板;所述第一电极层包括反射层和设置在反射层两侧的保护层,用于实现TFT
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LCD电路基板的反射式光路;所述液晶分子层设置在上基板和下基板之间,且液晶分子层的四周设置有周边框胶,所述透明支撑柱、周边框胶和液晶分子实现盒厚均一。2.根据权利要求1所述的反射式纯相位液晶空间光调制器,其特征在于:所述反射层为Ag层或Al层,所述保护层为ITO层或Ti层。3.根据权利要求2所述的反射式纯相位液晶空间光调制器,其特征在于:所述第一电极层包括依次设置的ITO层、Ag层和ITO层,或者依次设置的ITO层、Al层和ITO层,或者依次设置的Ti层、Ag层和Ti层。4.根据权利要求1或2或3所述的反射式纯相位液晶空间光调制器,其特征在于:所述上盖板玻璃、第二电极层之间设置有色阻层。5.根据权利要求4所述的反射式纯相位液晶空间光调制器,其特征在于:所述透明支撑柱通过采用涂胶、光刻的方式在第二电极层上制作。6.根据权利要求5所述的反射式纯相位液晶空间光调制器,其特征在于:透明支撑柱的形状为圆柱状、圆台状或椭圆条状。7.根据权利要求6所述的反射式纯相位液晶空间光调制器,其特征在于:所述液晶分子层为ECB模...
【专利技术属性】
技术研发人员:薛利军,赵卫,夏高飞,王华,高宇,
申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:
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