磁盘用基板和磁盘制造技术

本发明专利技术涉及磁盘用基板和磁盘。所述磁盘用基板具备：具有两个主表面的基板主体；和设置于上述主表面的、损耗系数的值为0.1以上的材料的膜。包含上述膜的上述磁盘用基板的厚度T为0.700mm以下，设置于上述主表面的上述膜的厚度D(mm)与包含上述膜的上述磁盘用基板的厚度T(mm)满足D≥0.0082/T－0.0015的关系。度T(mm)满足D≥0.0082/T－0.0015的关系。度T(mm)满足D≥0.0082/T－0.0015的关系。

【技术实现步骤摘要】
磁盘用基板和磁盘
[0001]本申请是分案申请，其原申请的申请号为201880018389.9，申请日为2018年7月2日，专利技术名称为“磁盘用基板和磁盘”。


[0002]本专利技术涉及磁盘用基板和磁盘。

技术介绍

[0003]一直以来，使用玻璃基板或铝合金基板作为磁盘用基板。在这些基板中，磁性膜形成于基板主表面，从而形成磁盘基板。对于磁盘而言，希望表面缺陷少、信息的读取写入没有障碍、能够进行大量信息的读取写入。
[0004]例如，在使用铝合金基板作为磁盘用非磁性基板的情况下，已知下述的磁记录介质用Al合金基板：在铝合金基板的表面进行NiP镀覆，此时，为了抑制镀覆后的表面缺陷，通过物理蒸镀在基板表面形成了金属覆膜(专利文献1)。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本特开2006
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302358号公报

技术实现思路

[0008]专利技术所要解决的课题
[0009]对于上述磁记录介质用Al合金基板而言，认为能够减少形成于该基板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁盘用基板，其特征在于，所述磁盘用基板具备：具有两个主表面和外周端面的圆盘形状的基板主体；和设置于所述两个主表面和所述外周端面的、NiP合金的金属膜，所述圆盘形状的外径为90mm以上，包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T为0.700mm以下，设置于所述两个主表面的所述金属膜的合计的厚度D与包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T满足下述式(1)，其中，所述厚度D和所述厚度T的单位为mm，D≥0.0082/T－0.0015
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(1)。2.一种磁盘用基板，其特征在于，所述磁盘用基板具备：具有两个主表面和外周端面的圆盘形状的基板主体；和设置于所述两个主表面和所述外周端面的、NiP合金的金属膜，所述圆盘形状的外径为90mm以上，包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T为0.700mm以下，设置于所述两个主表面的所述金属膜的合计的厚度D与包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T满足下述式(1)，其中，所述厚度D和所述厚度T的单位为mm，形成于所述外周端面的所述金属膜的厚度比形成于所述主表面的所述金属膜厚，D≥0.0082/T－0.0015
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(1)。3.一种磁盘用基板，其特征在于，所述磁盘用基板具备：具有两个主表面和外周端面的圆盘形状的基板主体；和设置于所述两个主表面和所述外周端面的、NiP合金的金属膜，所述圆盘形状的外径为90mm以上，包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T为0.700mm以下，设置于所述两个主表面的所述金属膜的合计的厚度D与包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T满足下述式(1)，其中，所述厚度D和所述厚度T的单位为mm，形成与形成于所述外周端面的所述金属膜的界面的所述外周端面的所述基板主体的表面粗糙度的轮廓最大高度Rz为0.5μm以上，D≥0.0082/T－0.0015
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(1)。4.一种磁盘用基板，其特征在于，所述磁盘用基板具备：具有两个主表面和外周端面的圆盘形状的基板主体；和设置于所述两个主表面和所述外周端面的、NiP合金的金属膜，所述圆盘形状的外径为90mm以上，包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T为0.700mm以下，设置于所述两个主表面的所述金属膜的合计的厚度D与包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T满足下述式(1)，其中，所述厚度D和所述厚度T的单位为mm，所述外周端面的所述金属膜的表面粗糙度的轮廓最大高度Rz小于所述外周端面的所
述基板主体的表面粗糙度的轮廓最大高度Rz，D≥0.0082/T－0.0015
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(1)。5.一种磁盘用基板，其特征在于，所述磁盘用基板具备：具有相向的两个主表面和外周端面的圆盘形状的基板主体，所述外周端面具备相对于所述主表面正交的侧壁面和形成于所述主表面与所述侧壁面之间的倒角面；和形成于所述基板主体的表面上的、在所述主表面、所述倒角面和所述侧壁面上连续地形成的Ni
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P合金的金属膜，包含形成于所述两个主表面的所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T为0.700mm以下，设置于所述两个主表面的所述金属膜的合计的厚度D与包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T满足下述式(1)，其中，所述厚度D和所述厚度T的单位为mm，形成于所述外周端面的所述金属膜的厚度比形成于所述主表面的所述金属膜厚，所述外周端面的所述金属膜的表面粗糙度的轮廓最大高度Rz小于所述外周端面的所述基板主体的表面粗糙度的轮廓最大高度Rz，D≥0.0082/T－0.0015
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(1)。6.一种磁盘用基板，其特征在于，所述磁盘用基板具备：具有相向的两个主表面和外周端面的圆盘形状的基板主体，所述外周端面具备相对于所述主表面正交的侧壁面和形成于所述主表面与所述侧壁面之间的倒角面；和形成于所述基板主体的表面上的、在所述主表面、所述倒角面和所述侧壁面上连续地形成的Ni
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P合金的金属膜，包含形成于所述两个主表面的所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T为0.700mm以下，设置于所述两个主表面的所述金属膜的合计的厚度D与包含所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T满足下述式(1)，其中，所述厚度D和所述厚度T的单位为mm，形成于所述外周端面的所述金属膜的厚度比形成于所述主表面的所述金属膜厚，形成于所述外周端面的所述金属膜的厚度设定为形成于所述主表面的所述金属膜的厚度的110％以上～150％以下之间的厚度，所述外周端面的所述金属膜的表面粗糙度的轮廓最大高度Rz小于所述外周端面的所述基板主体的表面粗糙度的轮廓最大高度Rz，D≥0.0082/T－0.0015
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(1)。7.一种磁盘用基板，其特征在于，所述磁盘用基板具备：具有相向的两个主表面和外周端面的圆盘形状的基板主体，所述外周端面具备相对于所述主表面正交的侧壁面和形成于所述主表面与所述侧壁面之间的倒角面；和形成于所述基板主体的表面上的、在所述主表面、所述倒角面和所述侧壁面上连续地形成的Ni
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P合金的金属膜，包含形成于所述两个主表面的所述金属膜的所述磁盘用基板的厚度T为0.700mm以下，设置于所述两个...

【专利技术属性】
技术研发人员：越阪部基延，
申请(专利权)人：HOYA株式会社，
类型：发明
国别省市：