一种黑色显示面板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种黑色显示面板，该显示面板由下到上包括衬底基板、黑色膜层和保护层(可选)，所述黑色膜层为石墨膜层(DLC、Me

【技术实现步骤摘要】
一种黑色显示面板


[0001]本技术涉及发光模组镀膜
，尤其涉及一种发光模组的黑色显示面板。

技术介绍

[0002]通过黑色遮光层将显示面板的非显示区域遮盖，可以提高发光模组的显示对比度，并防止相邻色素串光，有效提升发光模组的显示性能。目前主要通过丝网印刷、光刻等工艺制备发光模组(如LED发光模组)的黑色显示面板。然后，当制作尺寸小、精度高的图形化显示面板时，丝网印刷工艺很难实现；同时，光刻等微加工工艺工序多，良品率有限，成本较高。因此，有必要通过技术革新或其它技术来改进显示面板的制备。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种黑色显示面板，本技术的黑色显示面板工艺性能优良，生产良品率高，且遮光、吸光效果良好，能显著提高对比度。
[0004]为实现上述的目的，本技术采用如下的技术方案：
[0005]一种黑色显示面板，该显示面板由下到上包括衬底基板、过渡层、黑色膜层和保护层。所述过渡层设置于衬底基板与黑色膜层之间，所述过渡层为金属膜层或合金膜层；所述保护层设置于黑色膜层的外表面。
[0006]所述过渡层为金属膜层(Ti、Al、Cr、Zr等)或合金膜层(TiAl、TiCr、TiSi 等)。
[0007]所述黑色膜层为石墨膜层(DLC、Me
‑
DLC)、氮化物膜层(TiN+AlN、TiAlN)、碳氮化物膜层(TiCN、CrCN、ZrCN、TiAlCN)中的任一种或组合。
[0008]所述保护层为环氧树脂、聚二甲基硅氧烷(PDMS)、硅胶、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚氨酯(PU)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三醋酸纤维薄膜(TAC)、二氧化硅 (SiO2)、二氧化钛(TiO2)中的任何一种或组合。
[0009]所述过渡层的厚度为10～100nm，所述黑色膜层的厚度为0.5～10μm，所述保护层的厚度为1～100μm。
[0010]所述黑色膜层的制备方法包括化学气相沉积CVD，如金属有机化学气相沉积MOCVD、等离子体增强化学气相沉积PECVD等；物理气相沉积技术PVD，如溅射法、蒸发法、离子镀膜等。
[0011]本专利技术还公开了上述的黑色显示面板在LED发光模组等领域中的应用。
[0012]与现有技术相比，本技术提出的一种黑色显示面板，在衬底基板上设有黑色膜层，不仅工艺简单，良品率高，且遮光、吸光效果良好，有效提高对比度。
附图说明
[0013]图1为本技术显示面板实施例1的结构示意图；
[0014]图2为本技术显示面板实施例3的结构示意图；
具体实施方式
[0015]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，但不构成对本技术保护范围的限制。
[0016]实施例1：
[0017]参考附图1，本实施例提供了一种黑色显示面板，该显示面板由下到上包括衬底基板11、黑色膜层12和保护层。采用直流磁控溅射与射频磁控溅射分别溅射TiAl靶与C靶，通过复合沉积在衬底基板上形成黑色膜层TiAlCN。
[0018]具体制备工艺按照以下流程：
[0019](1)将经预处理后的衬底基板固定在镀膜腔室内的工件转架上，调节工件转架自转速度10rpm，使基板正对靶材表面，调节靶基距至100mm，预抽本底真空至5.0
×
10
‑3Pa；
[0020](2)同时打开Ar、N2气流量阀，调节Ar、N2流量分别为3、1sccm，分子泵转速45000rpm，调节总气压至0.9Pa；
[0021](3)同时开启直流磁控溅射靶TiAl和射频磁控溅射靶C，直流电源功率调节至400W，射频电源功率调节至270W，占空比80％，频率10kHz，复合沉积 600min，得到厚度约9.3μm的黑色膜层TiAlCN；
[0022](4)沉积结束后，关闭直流与射频电源，关闭Ar和N2气流量阀，再关闭分子泵和机械泵后即可开炉门取出样品，完成黑色膜层的镀膜制备。
[0023](5)黑色膜层完成后，通过印刷工艺在黑色膜层表面制备一层环氧树脂保护层，厚度约10μm。
[0024]图1为本实施例中显示面板的结构示意图。
[0025]实施例2：
[0026]参考附图1，本实施例提供了一种黑色显示面板，该显示面板由下到上包括衬底基板11、黑色膜层12和保护层。采用直流磁控溅射与射频磁控溅射先后溅射TiAl靶与C靶，在衬底基板上沉积形成黑色膜层TiAlN/C。
[0027]具体制备工艺按照以下流程：
[0028](1)将经预处理后的衬底基板固定在镀膜腔室内的工件转架上，调节工件转架自转速度10rpm，使基板正对靶材表面，调节靶基距至100mm，预抽本底真空至5.0
×
10
‑3Pa；
[0029](2)同时打开Ar、N2气流量阀，调节Ar、N2流量分别为3、1sccm，分子泵转速45000rpm，调节总气压至0.9Pa；
[0030](3)开启直流磁控溅射靶TiAl，调节靶功率至400W，沉积380min，得到厚度约4.4μm的黑色膜层TiAlN；
[0031](4)关闭直流溅射靶，关闭N2气流量阀，调节Ar流量至10sccm，调节气压至0.7Pa；
[0032](5)开启射频磁控溅射靶C，调节靶功率至260W，占空比80％，频率10kHz，沉积690min，得到厚度约1.0μm的黑色膜层C；
[0033](6)沉积结束后，关闭直流与射频电源，关闭Ar和N2气流量阀，再关闭分子泵和机械泵后即可开炉门取出样品，完成镀膜。
[0034](7)黑色膜层完成后，通过印刷工艺在黑色膜层表面制备一层环氧树脂保护层，厚
度约10μm。
[0035]实施例3：
[0036]参考附图2，本实施例提供了一种显示面板，该显示面板由下到上包括衬底基板11、过渡层13、黑色膜层12和保护层。采用直流磁控溅射与射频磁控溅射先后溅射TiAl靶与C靶，在衬底基板上沉积形成黑色膜层TiAl/C。
[0037]具体制备工艺按照以下流程：
[0038](1)将经预处理后的衬底基板固定在镀膜腔室内的工件转架上，调节工件转架自转速度10rpm，使基板正对靶材表面，调节靶基距至100mm，打开加热器升温至200℃，预抽本底真空至5.0
×
10
‑3Pa；
[0039](2)打开Ar气流量阀，调节流量至5sccm，分子泵转速36000rpm，调节气压至0.6Pa；
[0040](3)开启直流磁控溅射靶TiAl，调节靶功率至200W，沉积10min，得到厚度约87nm的过渡层TiAl，提高膜基结合力，且降低透光率；
[0041](4)关闭直流溅射靶，调节Ar流量至6sccm本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种黑色显示面板，其特征在于：该显示面板由下到上包括衬底基板、过渡层、黑色膜层和保护层；所述过渡层设置于衬底基板与黑色膜层之间，所述过渡层为金属膜层或合金膜层；所述保护层设置于黑色膜层的外表面。2.根据权利要求1所述的黑色显示面板，其特征在于：所述黑色膜层为石墨膜层、氮化物膜层、碳氮化物膜层中的任一种或组合。3.根据权利要求1所述的黑色显示面板，其特征在于：所述保护层为环氧树脂、聚二甲基硅氧烷(PDMS)、硅胶、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)...

【专利技术属性】
技术研发人员：梅海娟，赵振廷，李求果，
申请(专利权)人：赵振廷，
类型：新型
国别省市：