感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法、触摸面板的制造方法、以及膜及其制造方法技术

本发明专利技术提供一种感光性转印材料，其具有：临时支承体；及感光性树脂层，设置于上述临时支承体上，上述临时支承体具有含有粒子的粒子含有层，上述临时支承体的与具有感光性树脂层的一侧的面相反侧的面的表面粗糙度为0.02μm～0.20μm，且上述感光性树脂层包含含有具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元的聚合物及光产酸剂。还提供一种使用上述转印材料的树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法、以及具有粒子含有层，雾度值为0.2％以下，具有上述粒子含有层的一侧的面的表面粗糙度Ra为0.02μm～0.20μm的膜及其制造方法。其制造方法。其制造方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法、触摸面板的制造方法、以及膜及其制造方法


[0001]本专利技术涉及一种感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法、触摸面板的制造方法、以及膜及其制造方法。

技术介绍

[0002]在具备静电电容型输入装置等的触摸面板的显示装置(有机电致发光(EL)显示装置及液晶显示装置等)中，在触摸面板内部，设置有相当于视觉辨认部的传感器的电极图案、外围布线部分及引出布线部分的布线等的导电层图案。
[0003]通常，在图案化的层的形成中，用于获得所需的图案形状的工序数量少，因此广泛使用利用感光性转印材料，隔着具有所期望的图案的掩模，对设置在任意基板上的感光性树脂组合物的层进行曝光之后再进行显影的方法。
[0004]并且，作为以往的感光性转印材料，已知有日本特开2017
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78852号公报中所记载的材料。
[0005]在日本特开2017
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78852号公报中记载有一种在临时支承体上具有抗蚀剂层的正型干膜抗蚀剂，且上述临时支承体的总光线雾度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种感光性转印材料，其具有：临时支承体；及感光性树脂层，其设置于所述临时支承体上，所述临时支承体具有含有粒子的粒子含有层，所述临时支承体的与具有感光性树脂层的一侧的面相反侧的面的表面粗糙度Ra为0.02μm～0.20μm，所述感光性树脂层含有聚合物及光产酸剂，所述聚合物含有具有被酸分解性基团保护的酸基的结构单元。2.根据权利要求1所述的感光性转印材料，其中，所述临时支承体的雾度值为0.2％以下。3.根据权利要求1或2所述的感光性转印材料，其中，所述粒子含有层的厚度为10nm～100nm。4.根据权利要求1至3中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述粒子含有层仅设置于所述临时支承体的单面。5.根据权利要求1至4中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述粒子的算术平均粒径小于100nm。6.根据权利要求1至5中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述临时支承体的与具有感光性树脂层的一侧的面相反侧的面的表面粗糙度Ra为0.05μm～0.10μm。7.根据权利要求1至6中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述临时支承体的厚度超过18μm且为30μm以下。8.根据权利要求1至7中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述临时支承体包含聚酯树脂。9.根据权利要求1至8中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述被酸分解性基团保护的酸基为被缩醛型酸分解性基团保护的羧基。10.根据权利要求1至9中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述聚合物的酸值为10mgKOH/g以下。11.根据权利要求1至10中任一项所述的感光性转印材料，其中，所述光产酸剂包含产生碳原子数1～4的烷基磺酸的光产酸剂。12.一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：两角一真，丰岛悠树，汉那慎一，宫宅一仁，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：