【技术实现步骤摘要】
测量装置、基片处理系统和测量方法
[0001]本专利技术的实施方式涉及测量装置、基片处理系统和测量方法。
技术介绍
[0002]在现有技术中,已知有一种用拍摄装置拍摄形成有图案的基片,基于通过拍摄所得到的图案的图像信息测量图案的形状的技术(参照专利文献1)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1:日本特开2015
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72257号公报
技术实现思路
[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]本专利技术提供一种能够长期高精度地测量图案形状的技术。
[0008]用于解决技术问题的技术手段
[0009]本专利技术的一个方式的测量装置包括输送部、拍摄部、摄像机高度测量部、温度检测部和控制部。输送部输送形成有图案的基片。拍摄部配置在上述输送部的上方,拍摄载置于上述输送部的上述基片的图案。摄像机高度测量部配置在上述拍摄部的附近,测量从形成有上述图案上述基片的图案面起至上述拍摄部的透镜为止的高度。温度检测部检测上述拍摄 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种测量装置,其特征在于,包括:输送形成有图案的基片的输送部;拍摄部,其配置于所述输送部的上方,拍摄载置于所述输送部的所述基片的图案;摄像机高度测量部,其配置在所述拍摄部的附近,测量从形成有所述图案的所述基片的图案面起至所述拍摄部的透镜为止的高度;温度检测部,检测所述拍摄部周边的多个部位的温度;和控制各部的控制部,所述控制部基于由所述温度检测部检测出的所述拍摄部周边的多个部位的温度,校正由所述摄像机高度测量部测量的从所述基片的图案面起至所述拍摄部的透镜为止的高度。2.如权利要求1所述的测量装置,其特征在于:所述控制部基于学习数据,校正由所述摄像机高度测量部测量的从所述基片的图案面起至所述拍摄部的透镜为止的高度,其中,所述学习数据预先存储有由所述拍摄部测量出的从基片的图案面起至所述拍摄部的透镜为止的高度和测量完该高度时由所述温度检测部检测出的所述拍摄部周边的多个部位的温度。3.如权利要求2所述的测量装置,其特征在于:所述控制部基于通过对所述学习数据进行多变量分析得到的推断模型,来校正由所述摄像机高度测量部测量的从所述基片的图案面起至所述拍摄部的透镜为止的高度。4.如权利要求1~3中任一项所述的测量装置,其特征在于:还包括分别可移动地支承所述拍摄部和所述摄像机高度测量部的支承部,所述温度检测部检测所述支承部上的多个部位的温度。5.如权利要求4所述的测量装置,其特征在于:所述支承部具有在垂直方向上驱动所述拍摄部和所述摄像机高度测量部的电机,所述温度检测部至少检测所述电机的温度。6.如权利要求4或5所述的测量装置,其特征在于:所述支承部具有分别支承所述拍摄部和所述摄像机高度测量部的第1安装板,所述温度检测部至少检测所述第1安装板的温度。7.如权利要求6所述的测量装...
【专利技术属性】
技术研发人员:藤原慎,尾上幸太朗,田中茂喜,
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社,
类型:发明
国别省市:
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