一种显示面板及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种显示面板及其制备方法，本发明专利技术通过在至少一个子像素的至少一个像素阻隔单元的侧壁上设置缺口，使得所述阳极单元表面的功能层与所述像素阻隔单元表面的功能层之间存在间隙，由此相邻子像素之间横向无法导电，从而防止其中任一子像素发光时，与之相邻的子像素被点亮，从而提升子像素发光纯度，防止产生色偏现象。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法
本申请涉及显示
，具体涉及一种显示面板及其制备方法。
技术介绍
有机发光显示装置(英文全称：OrganicLight-EmittingDiode，简称OLED)又称为有机电激光显示装置、有机发光半导体。OLED具有电压需求低、省电效率高、反应快、重量轻、厚度薄，构造简单，成本低、广视角、几乎无穷高的对比度、较低耗电、极高反应速度等优点，已经成为当今最重要的显示技术之一。在OLED的生产过程中，多层金属材料、无机材料或有机材料需采用蒸镀的方式逐层沉积到玻璃基板上。在蒸镀制程中，金属掩膜版被用来遮挡待蒸镀的玻璃基板以形成特定图案，金属掩膜版可以分为普通金属掩膜版(英文全称：CommonMetalMask，简称CMM)和高精度的精细金属掩膜版(英文全称：FineMetalMask，简称FMM)，分别用于不同膜层的沉积。目前，发光功能层中的空穴注入层使用CMM蒸镀，其他的功能层采用FMM蒸镀，此时会使相邻的子像素之间存在公共搭接区域，由于空穴注入层以及其他功能层的横向导电率较大，导致在点亮其中一个子像素的同时，与之相邻的子像素也有轻微被点亮，由此降低子像素发出的光的纯度，产生色偏现象。因此，需要寻求一种新型的显示面板以解决上述问题。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种显示面板，其能够解决现有显示面板中存在的发光不纯，产生色偏现象等问题。为了解决上述问题，本专利技术提供了一种显示面板，其包括多个阵列排布的像素单元；每一所述像素单元包括多个子像素，每一所述子像素包括：基底层；阳极单元，设置于所述基底层的一侧的表面上；多个像素阻隔单元，分别设置于所述阳极单元的周围的基底层的表面上，且部分覆盖于所述阳极单元上；以及功能层，覆盖于所述像素阻隔单元的表面且部分覆盖所述阳极单元的表面；其中，至少一个子像素的至少一个像素阻隔单元的侧壁上设有缺口；所述阳极单元表面的功能层与设有缺口的所述像素阻隔单元表面的功能层之间存在间隙。进一步的，所述每一所述像素单元包括：一个第一子像素、一个第二子像素以及两个第三子像素；所述第三子像素靠近所述第一子像素的像素阻隔单元的侧壁上设有第一缺口。进一步的，所述第三子像素靠近所述第二子像素的像素阻隔单元的侧壁上设有第二缺口。进一步的，所述第一缺口的长度小于所述第三子像素的长度；所述第二缺口的长度小于所述第三子像素的宽度。进一步的，所述缺口的内边缘与外边缘之间的距离大于等于0.5um，且小于10um。进一步的，所述缺口的纵向截面形状包括：三角形、矩形、弧形、梯形中的一种。进一步的，当所述缺口的纵向截面形状为三角形时，所述缺口具有一夹角，所述夹角小于等于20°。进一步的，所述缺口位于所述像素阻隔单元的侧壁的底部或中部。为了解决上述问题，本专利技术提供了一种显示面板的制备方法，其包括以下步骤：将待制备的显示面板区分为多个阵列排布的像素单元，每一所述像素单元包括多个子像素；其中每一所述子像素的制备步骤包括：提供一基底层；在所述基底层的一侧表面上制备形成阳极单元；在所述阳极单元的周围的基底层的表面上形成多个像素阻隔单元，所述像素阻隔单元部分覆盖于所述阳极单元上，至少一个子像素的至少一个像素阻隔单元的侧壁上设有缺口；以及在所述像素阻隔单元表面制备功能层，所述功能层部分覆盖于所述阳极单元表面；所述阳极单元表面的功能层与设有缺口的所述像素阻隔单元表面的功能层之间存在间隙。进一步的，至少一个子像素的至少一个像素阻隔单元的侧壁上设有缺口的步骤包括：至少一个子像素的至少一个像素阻隔单元的侧壁的底部形成缺口；或者在所述阳极单元的周围的基底层的表面上形成多个第一像素阻隔单元，所述第一像素阻隔单元部分覆盖于所述阳极单元上，在所述第一像素阻隔单元上形成多个第二像素阻隔单元，所述第一像素阻隔单元与所述第二像素阻隔单元共同形成像素阻隔单元，至少一个子像素的至少一个像素阻隔单元的侧壁的中部形成缺口。本专利技术的优点是：本专利技术涉及一种显示面板及其制备方法，本专利技术通过在至少一个子像素的至少一个像素阻隔单元的侧壁上设置缺口，使得所述阳极单元表面的功能层与所述像素阻隔单元表面的功能层之间存在间隙，由此相邻子像素之间横向无法导电，从而防止其中任一子像素发光时，与之相邻的子像素被点亮，从而提升子像素发光纯度，防止产生色偏现象。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例1的显示面板的平面示意图；图2是本专利技术实施例1的显示面板的像素单元的局部结构示意图；图3是本专利技术实施例1的显示面板的基底层的结构示意图；图4是本专利技术实施例1的显示面板的制备步骤图；图5是本专利技术实施例1的显示面板制备半成品示意图一；图6是本专利技术实施例1的显示面板制备半成品示意图二；图7是本专利技术实施例1的显示面板制备半成品示意图三；图8是本专利技术实施例2的显示面板的像素单元的局部结构示意图；图9是本专利技术实施例2的显示面板制备半成品示意图一；图10是本专利技术实施例2的显示面板制备半成品示意图二；图11是本专利技术实施例2的显示面板制备半成品示意图三；图12是本专利技术实施例2的显示面板制备半成品示意图四；图13是本专利技术实施例3的显示面板的平面示意图。附图标记说明：100、显示面板；101、像素单元；1011、第一子像素；1012、第二子像素；1013、第三子像素；102、搭接区域；1、基底层；2、阳极单元；3、像素阻隔单元；4、功能层；11、基板；12、缓冲层；13、薄膜晶体管层；14、平坦层；31、第一缺口；32、第一像素阻隔单元；33、第二像素阻隔单元；34、第二缺口。具体实施方式以下结合说明书附图详细说明本专利技术的优选实施例，以向本领域中的技术人员完整介绍本专利技术的
技术实现思路
，以举例证明本专利技术可以实施，使得本专利技术公开的
技术实现思路
更加清楚，使得本领域的技术人员更容易理解如何实施本专利技术。然而本专利技术可以通过许多不同形式的实施例来得以体现，本专利技术的保护范围并非仅限于文中提到的实施例，下文实施例的说明并非用来限制本专利技术的范围。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等，仅是附图中的方向，本文所使用的方向用语是用来解释和说明本专利技术，而不是用来限定本专利技术的保护范围。在附图中，结构相同的部件以相同数字标号表示，各处结构或功能相似的组件以相似数字标号表示。此外，为了便于理解和描述，附图所示的每一组件的尺寸和厚度是任意示出的，本专利技术并没有限定每个组件的尺寸和厚度。实施例1如图1、图2所示，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括多个阵列排布的像素单元；/n每一所述像素单元包括多个子像素，每一所述子像素包括：/n基底层；/n阳极单元，设置于所述基底层的一侧的表面上；/n多个像素阻隔单元，分别设置于所述阳极单元的周围的基底层的表面上，且部分覆盖于所述阳极单元上；以及/n功能层，覆盖于所述像素阻隔单元的表面且部分覆盖所述阳极单元的表面；/n其中，至少一个子像素的至少一个像素阻隔单元的侧壁上设有缺口；/n所述阳极单元表面的功能层与设有缺口的所述像素阻隔单元表面的功能层之间存在间隙。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括多个阵列排布的像素单元；
每一所述像素单元包括多个子像素，每一所述子像素包括：
基底层；
阳极单元，设置于所述基底层的一侧的表面上；
多个像素阻隔单元，分别设置于所述阳极单元的周围的基底层的表面上，且部分覆盖于所述阳极单元上；以及
功能层，覆盖于所述像素阻隔单元的表面且部分覆盖所述阳极单元的表面；
其中，至少一个子像素的至少一个像素阻隔单元的侧壁上设有缺口；
所述阳极单元表面的功能层与设有缺口的所述像素阻隔单元表面的功能层之间存在间隙。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述每一所述像素单元包括：一个第一子像素、一个第二子像素以及两个第三子像素；
所述第三子像素靠近所述第一子像素的像素阻隔单元的侧壁上设有第一缺口。


3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第三子像素靠近所述第二子像素的像素阻隔单元的侧壁上设有第二缺口。


4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一缺口的长度小于所述第三子像素的长度；所述第二缺口的长度小于所述第三子像素的宽度。


5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述缺口的内边缘与外边缘之间的距离大于等于0.5um，且小于10um。


6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述缺口的纵向截面形状包括：三角形、矩形、弧形、梯形中的一种。


7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴铭，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北;42