一种用于真空除尘设备的振打结构、过滤机构及真空除尘设备制造技术

本申请公开了一种用于真空除尘设备的振打结构、过滤机构及真空除尘设备。振打结构包括盖体和气缸。盖体呈水平设置，盖体具有穿孔，穿孔的轴线呈竖直延伸。气缸具有活塞杆和驱动部，活塞杆呈竖直设置，活塞杆的上端与驱动部连接，驱动部使活塞杆作上下伸缩运动，气缸设于穿孔中，驱动部位于盖体的上侧，活塞杆的第二端位于盖体的下侧。本申请的振打结构采用气缸实现振打，使得振打频次可调节，振打频率可高至1秒1次，从而使得真空除尘设备的除尘效果更佳，能适应不同抽气阶段真空度的要求，满足了大型号单晶生长炉在连续拉晶过程的需求，降低了设备维护的成本。另外，本申请的气缸为外置，使得气缸的拆装更为便捷，同时还便于气缸的散热。

【技术实现步骤摘要】
一种用于真空除尘设备的振打结构、过滤机构及真空除尘设备
本申请涉及环保除尘领域，尤其涉及一种用于真空除尘设备的振打结构、过滤机构及真空除尘设备。
技术介绍
在光伏技术飞速发展的环境下，单晶硅的生产技术不断突破，生产效率不断提升。随着单晶生长炉的生产力量增大，对真空泵与单晶生长炉之间的真空除尘设备要求也是越来越高。
技术实现思路
本申请提供一种用于真空除尘设备的振打结构、过滤机构及真空除尘设备，能够使得真空除尘设备的除尘效果更佳。第一方面，本申请的实施例提供了一种用于真空除尘设备的振打结构。振打结构包括盖体和气缸。盖体呈水平设置，盖体具有穿孔，穿孔的轴线呈竖直延伸。气缸具有活塞杆和驱动部，活塞杆呈竖直设置，活塞杆的上端与驱动部连接，驱动部使活塞杆作上下伸缩运动，气缸设于穿孔中，驱动部位于盖体的上侧，活塞杆的下端位于盖体的下侧。在其中一些实施例中，气缸的数量为至少两个，各气缸环绕盖体的垂直于自身的中心线均匀布置，穿孔的数量为至少两个，穿孔与气缸一一对应。在其中一些实施例中，气缸的数量为三个。在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于真空除尘设备的振打结构，其特征在于，包括/n盖体，呈水平设置，所述盖体具有穿孔，所述穿孔的轴线呈竖直延伸；/n气缸，具有活塞杆和驱动部，所述活塞杆呈竖直设置，所述活塞杆的上端与所述驱动部连接，所述驱动部使所述活塞杆作上下伸缩运动，所述气缸设于所述穿孔中，所述驱动部位于所述盖体的上侧，所述活塞杆的下端位于所述盖体的下侧。/n

【技术特征摘要】
1.一种用于真空除尘设备的振打结构，其特征在于，包括
盖体，呈水平设置，所述盖体具有穿孔，所述穿孔的轴线呈竖直延伸；
气缸，具有活塞杆和驱动部，所述活塞杆呈竖直设置，所述活塞杆的上端与所述驱动部连接，所述驱动部使所述活塞杆作上下伸缩运动，所述气缸设于所述穿孔中，所述驱动部位于所述盖体的上侧，所述活塞杆的下端位于所述盖体的下侧。


2.如权利要求1所述的振打结构，其特征在于，
所述气缸的数量为至少两个，各所述气缸环绕所述盖体的垂直于自身的中心线均匀布置，所述穿孔的数量为至少两个，所述穿孔与所述气缸一一对应。


3.如权利要求1所述的振打结构，其特征在于，
所述气缸的数量为三个。


4.如权利要求2所述的振打结构，其特征在于，
所述盖体具有安装孔，所述安装孔的数量为至少两个，各所述安装孔的轴线呈竖直延伸，各所述安装孔环绕所述中心线均匀布置。


5.一种用于真空除尘设备的过滤机构，其特征在于，包括：
主体，为筒状，所述主体的轴线呈竖直延伸，所述主体的上端具有上开口，下端具有下开口，侧壁具有出气口；
挂板，位于所述主体中，所述挂板呈水平设置，所述挂板经弹簧挂设于所述主体中；
过滤袋，位于所述主体中并位于所述挂板的下侧，所述过滤袋为筒状，所述过滤袋的轴线呈竖直延伸，所述过滤袋的上端封堵，下端敞开，所述过滤袋的上端与所述挂板连接；
固定板，封堵所述下开口，所述固定板呈水平设置，所述固定板具有固定孔，所述固定孔的轴线呈竖直延伸，所述固定孔处配置成使得所述过滤袋的下端固定；
权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：张承臣，赵威，时姣，范文婷，
申请(专利权)人：沈阳隆基电磁科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁;21