【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在非所要衍射级存在的情况下的散射测量建模相关申请案的交叉参考本申请案根据35U.S.C.§119(e)规定主张名叫菲利普·阿特金斯(PhillipAtkins)、列权·李(LiequanLee)、克里希南·香卡(KrishnanShankar)、大卫·吴(DavidWu)及艾米丽·邱(EmilyChiu)的专利技术者在2019年1月18日申请的标题为在高衍射级存在的情况下的CD建模(CDMODELINGINTHEPRESENCEOFHIGHERDIFFRACTIONORDERS)的序列号为62/794,510的美国临时申请案的权利，所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。
本专利技术大体上涉及散射测量计量，且更特定来说，本专利技术涉及光谱散射测量计量。
技术介绍
散射测量基于分析光从样本发出的角度而非分析样本的图像来提供计量测量。入射于样本上的光基于样本上的特征的结构及组成来以各种角度反射、散射及/或衍射。此外，反射、散射及/或衍射光的角度及/或强度通常随入射光的不同波长变化。因此，光谱散射测量捕获多个波...
【技术保护点】
1.一种计量系统，其包括：/n控制器，所述控制器包含一或多个处理器，所述一或多个处理器经配置以执行程序指令以引起所述一或多个处理器：/n接收用于基于选定波长范围内的来自散射测量工具的光谱散射测量数据的回归来测量包含以选定图案分布的一或多个特征的目标的一或多个选定属性的模型；/n产生所述模型的加权函数来使与其中预测由所述散射测量工具在测量所述目标时捕获的光包含一或多个非所要衍射级的所述选定波长范围内的一或多个波长相关联的所述光谱散射测量数据的部分去加重；/n指导所述光谱散射测量工具产生所述选定波长范围内的一或多个测量目标的散射测量数据，其中所述一或多个测量目标包含以所述选定图...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190118 US 62/794,510;20190226 US 16/286,3151.一种计量系统，其包括：
控制器，所述控制器包含一或多个处理器，所述一或多个处理器经配置以执行程序指令以引起所述一或多个处理器：
接收用于基于选定波长范围内的来自散射测量工具的光谱散射测量数据的回归来测量包含以选定图案分布的一或多个特征的目标的一或多个选定属性的模型；
产生所述模型的加权函数来使与其中预测由所述散射测量工具在测量所述目标时捕获的光包含一或多个非所要衍射级的所述选定波长范围内的一或多个波长相关联的所述光谱散射测量数据的部分去加重；
指导所述光谱散射测量工具产生所述选定波长范围内的一或多个测量目标的散射测量数据，其中所述一或多个测量目标包含以所述选定图案分布的制造特征；及
基于所述一或多个测量目标的所述散射测量数据回归到由所述加权函数加权的所述模型来测量所述一或多个测量目标的所述一或多个选定属性。
2.根据权利要求1所述的计量系统，其中产生加权函数包括：
基于一或多个修改节距参考目标的散射测量数据的回归来测量一或多个修改节距参考目标的所述一或多个选定属性，其中所述一或多个修改节距参考目标包含以所述选定图案分布的特征，其中特征之间的间隔经按比例调整使得由所述散射测量工具在测量所述一或多个修改节距参考目标时捕获的光被预测包含所述选定波长范围内的单个衍射级；
确定所述一或多个修改节距参考目标的所述散射测量数据与所述模型之间的修改节距残差；
基于一或多个测试节距参考目标的散射测量数据的回归来测量一或多个测试节距参考目标的所述一或多个选定属性，其中所述一或多个测试节距参考目标包含以所述选定图案分布的特征，其中所述一或多个测试节距参考目标的特征之间的间隔对应于所述一或多个测量目标的特征之间的间隔；
确定所述一或多个大节距参考目标的所述散射测量数据与所述模型之间的测试节距残差；
基于所述修改节距残差与所述大节距残差之间的比率的绝对值来产生所述加权函数。
3.根据权利要求2所述的计量系统，其中所述加权函数(W(λ))包括：
其中RMP(λ)表示所述修改节距残差，RTP(λ)表示所述测试节距残差，且λ表示所述选定波长范围内的波长。
4.根据权利要求2所述的计量系统，其中使用用于确定所述修改节距残差的加权方案来确定所述测试节距残差。
5.根据权利要求2所述的计量系统，其中使用均匀加权方案来确定所述测试节距残差。
6.根据权利要求2所述的计量系统，其中所述一或多个修改节距参考目标包括：
两个或更多个修改节距参考目标，其中所述波长范围内的特定波长处的所述修改节距残差的值包括：
与所述特定波长处的所述两个或更多个修改节距参考目标相关联的两个或更多个残差的平均值。
7.根据权利要求2所述的计量系统，其中所述一或多个测试节距参考目标包括：
两个或更多个测试节距参考目标，其中所述波长范围内的特定波长处的所述测试节距残差的值包括：
与所述特定波长处的所述两个或更多个测试节距参考目标相关联的两个或更多个残差的平均值。
8.根据权利要求1所述的计量系统，其中产生加权函数包括：
估计与所述一或多个非所要衍射级中的每一者相关联的捕获强度；
估计与所述非所要衍射级中的每一者的所述捕获强度相关联的总污染强度；及
基于所述总污染强度来产生所述加权函数。
9.根据权利要求8所述的计量系统，其中所述加权函数(W(λ))包括：
其中IC,TOT(λ)表示所述总污染强度，I0(λ)表示参考强度，λ表示所述选定波长范围内的波长，且n0及n1表示界限参数。
10.根据权利要求9所述的计量系统，其中所述参考强度包括：
所述光谱散射测量数据的噪声方差。
11.根据权利要求9所述的计量系统，其中所述总污染强度包括：
其中mx及my表示两个正交方向上的衍射级，IC(λ,mx,my)表示所述散射测量工具的收集数值孔径上的污染级(mx,my)的平均强度，AColl表示所述收集孔隙的面积，且AC(λ,mx,my)表示所述收集孔隙上的污染面积。
12.根据权利要求1所述的计量系统，其中产生加权函数包括：
基于一或多个修改节距参考目标的散射测量数据的回归来测量一或多个修改节距参考目标的所述一或多个选定属性，其中所述一或多个修改节距参考目标包含以所述选定图案分布的特征，其中特征之间的间隔经按比例调整使得由所述散射测量工具在测量所述一或多个修改节距参考目标时捕获的光被预测包含所述选定波长范围的单个衍射级；
确定所述一或多个修改节距参考目标的所述散射测量数据与所述模型之间的修改节距残差；
基于一或多个测试节距参考目标的散射测量数据的回归来测量一或多个测试节距参考目标的所述一或多个选定属性，其中所述一或多个测试节距参考目标包含以所述选定图案分布的特征，其中所述一或多个测试节距参考目标的特征之间的间隔对应于所述一或多个测量目标的特征之间的间隔；
确定所述一或多个大节距参考目标的所述散射测量数据与所述模型之间的测试节距残差；
基于所述修改节距残差与所述大节距残差之间的比率的绝对值来产生第一加权子函数；
估计与所述一或多个非所要衍射级中的每一者相关联的捕获强度；
估计与所述非所要衍射级中的每一者的所述捕获强度相关联的总污染强度；及
基于所述总污染强度来产生第二加权子函数。
13.根据权利要求12所述的计量系统，其中所述第一加权子函数(WRes(λ))包括：
其中RMP(λ)表示所述修改节距残差，RTP(λ)表示所述测试节距残差，且λ表示所述选定波长范围内的波长，其中所述第二加权子函数(WHO(λ))包括：
其中IC,TOT(λ)表示所述总污染强度，I0(λ)表示参考强度，λ表示所述选定波长范围内的波长，且n0及n1表示界限参数，其中所述加权函数(W(λ))包括：
W(λ)＝αWHO(λ)+(1-α)WRes(λ)，其中α是界定所述第一子加权函数及所述第二子加权函数的相对权重的参数。
14.根据权利要求13所述的计量系统，其中所述参考强度包括：
所述光谱散射测量数据的噪声方差。
15.根据权利要求13所述的计量系统，其中所述总污染强度包括：
其中mx及my表示两个正交方向上的衍射级，IC(λ,mx,my)表示所述散射测量工具的收集数值孔径上的污染级(mx,my)的平均强度，AColl表示所述收集孔隙的面积，且AC(λ,mx,my)表示所述收集孔隙上的污染面积。
16.根据权利要求1所述的计量系统，其中所述散射测量工具包括：
照明源，其经配置以产生包含所述选定波长范围的照明光束；
一或多个照明光学器件，其将所述照明光束引导到样本；
一或多个收集光学器件，其响应于所述照明光束而从所述样本收集光；及
检测器,其经配置以基于检测到由所述一或多个收集光学器件收集的光的至少一部分来产生所述散射测量数据。
17.一种计量系...
【专利技术属性】
技术研发人员：P·R·阿金斯，列关·里奇·利，S·克里许南，D·WC·吴，E·邱，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：美国;US
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