【技术实现步骤摘要】
高效率激光支持等离子体光源本申请是申请日为2016年06月22日,申请号为“201680032513.8”,而专利技术名称为“高效率激光支持等离子体光源”的专利申请的分案申请。优先权本申请案与下列申请案(“相关申请案”)相关且主张所述申请案的最早可用有效申请日的权利(例如,主张除临时专利申请案以外的最早可用优先日,或根据35USC§119(e)主张临时专利申请案,相关申请案的任何及所有父代申请案、祖父代申请案、曾祖父代申请案等的权利)。相关申请案:为满足USPTO法外要求,本申请案构成命名IlyaBezel、AnatolyShchemelininEugeneShifrin及MatthewDerstine为专利技术者在2015年6月22申请的标题为“多通激光支持等离子体泵浦几何形状(MULTIPASSLASER-SUSTAINEDPLASMAPUMPGEOMETRIES)”的美国临时专利申请案(第62/183,069号申请案,其全文以引用方式并入本文中)的正式(非临时)专利申请案。为满足USPTO法外要求,本申请案构成命名MatthewDerstine及IlyaBezel为专利技术者在2016年2月3申请的标题为“光学晶片检验器(OPTICALWAFERINSPECTOR)”的美国临时专利申请案(第62/290,593号申请案,其全文以引用方式并入本文中)的正式(非临时)专利申请案。
本专利技术大体上涉及激光支持等离子体光源,且更特定来说,涉及一种多通激光支持等离子体光源。背 ...
【技术保护点】
1.一种系统,其包括:/n泵浦源,其经配置以产生泵浦光束;/n气体容纳结构,其用于容纳气体;及/n光学组合件,其中所述光学子系统包含一或多个光学元件,所述一或多个光学元件经配置以执行所述泵浦光束一或多次通过所述气体的一部分来支持发射宽带光的等离子体;及/n收集组合件,其包含一或多个收集光学装置,其中所述一或多个收集光学装置经配置以将由所述等离子体发射的宽带辐射的至少一部分导引到一或多个下游光学元件,其中所述一或多个收集光学元件经配置以收集由所述等离子体发射的宽带辐射的至少一部分且导引回到所述等离子体。/n
【技术特征摘要】
20150622 US 62/183,069;20160620 US 15/187,5901.一种系统,其包括:
泵浦源,其经配置以产生泵浦光束;
气体容纳结构,其用于容纳气体;及
光学组合件,其中所述光学子系统包含一或多个光学元件,所述一或多个光学元件经配置以执行所述泵浦光束一或多次通过所述气体的一部分来支持发射宽带光的等离子体;及
收集组合件,其包含一或多个收集光学装置,其中所述一或多个收集光学装置经配置以将由所述等离子体发射的宽带辐射的至少一部分导引到一或多个下游光学元件,其中所述一或多个收集光学元件经配置以收集由所述等离子体发射的宽带辐射的至少一部分且导引回到所述等离子体。
2.根据权利要求1所述的系统,其中所述收集组合件经进一步配置以组合所述等离子体的两个或多于两个的图像。
3.根据权利要求2所述的系统,其中所述收集组合件经进一步配置以组合所述等离子体的两个或多于两个的图像,使得所述宽带辐射的输出部分的亮度大于所述等离子体的单个图像的亮度。
4.一种系统,其包括:
照明源,其经配置以产生泵浦光束;
反射器组合件,其经配置以容纳气体,其中所述反射器组合件包含用于从所述照明源接收所述泵浦光束的一或多个入口孔径,其中所述泵浦光束支持所述气体的一部分内的等离子体,其中所述等离子体发射宽带辐射,其中所述反射器组合件的内表面经配置以收集由所述等离子体发射的所述宽带辐射的至少一部分且将所收集的宽带辐射导引回到所述等离子体。
5.根据权利要求4所述的系统,其中所述反射器组合件经进一步配置以组合所述等离子体的两个或多于两个的图像。
6.根据权利要求5所述的系统,其中所述反射器组合件经进一步配置以组合所述等离子体的两个或多于两个的图像,使得所述宽带辐射的输出部分的亮度大于所述等离子体的单个图像的亮度。
7.根据权利要求4所述的系统,其中所述反射器组合件经布置以收集透射通过所述气体的所述部分的所述泵浦光束的未吸收部分且将所述泵浦光束的所收集的未吸收部分导引到所述气体的所述部分中。
8.根据权利要求4所述的系统,其中所述反射器组合件包括:
椭球反射器组合件。
9.根据权利要求8所述的系统,其中所述椭球反射器组合件的内表面经配置以将所述宽带辐射的一部分聚焦到所述椭球反射器的一或多个焦点。
10.根据权利要求4所述的系统,其中所述等离子体形成在所述椭球反射器的单个焦点处。
11....
【专利技术属性】
技术研发人员:M·德斯泰恩,I·贝泽尔,A·谢梅利宁,E·希夫林,
申请(专利权)人:科磊股份有限公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。