一种显示面板和显示装置制造方法及图纸

本申请公开了一种显示面板和显示装置，其中，一种显示面板，包括阵列基板，所述阵列基板包括显示区以及围绕所述显示区设置的非显示区，所述阵列基板上表面设置有围绕显示区设置的光线调节区，所述光线调节区上设置有阵列排布的若干透光孔，在沿光路方向上，相邻两所述透光孔交错排布。本申请实施例提供的显示面板采用光线调节区可以保证开口率的同时，调整阵列基板内部的折射光，通过调整透光孔的排列方式，使得折射光在光路方向上的透射量增加，通过光线调节区透射出的光线被上层黑矩阵吸收，减少光线在显示边缘的漏光情况。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板和显示装置
本申请一般涉及显示
，具体涉及一种显示面板和显示装置。
技术介绍
随着TFT-LCD产品不断发展，行业竞争越来越激烈，产品向着大尺寸窄边框的方向不断更新，设计工艺难度越来越大，产品的暴露的问题点也不断增加，在现有全面屏的设计上，由于边框接近1.0mm，造成边缘渗光的现象增加，边缘渗光现象主要是背光在TFT(ThinFilmTransistor；薄膜晶体管)阵列基板下表面和下偏光片上表面反射溢出构成。COA(ColorFilterOnArray)技术，将彩膜基板集成制作于TFT阵列基板一侧，能够提高液晶显示面板的开口率，降低寄生电容效应。然而对于全面屏采用COA技术，导致色阻全部设计在TFT阵列基板上，TFT阵列基板整体的透过率相对于普通LCD产品会降低很多，造成在背光在阵列基板金属覆盖区的上表面和下偏光片上表面反射加剧，导致了边缘渗光现象的加剧。
技术实现思路
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种显示面板和显示装置，可以保证电阻率的同时，增加了此处的阵列基板内部反射光的透过率，提升产品规格，产品竞争力上升。第一方面，本申请提供了一种显示面板，包括阵列基板，所述阵列基板包括显示区以及围绕所述显示区设置的非显示区，所述阵列基板上表面设置有围绕显示区设置的光线调节区，所述光线调节区上设置有阵列排布的若干透光孔，在沿光路方向上，相邻两所述透光孔交错排布。进一步地，所述阵列基板包括设置在所述阵列基板上表面的金属电极层，所述光线调节区位于所述金属电极层对应所述非显示区的位置。进一步地，所述光线调节区包括沿光路方向上阵列排布的若干第一金属带，相邻两所述第一金属带之间还设置有沿垂直于光路方向上阵列排布的若干第二金属带，所述第一金属带和所述第二金属带相交形成所述透光孔。优选地，相邻两所述第一金属带之间形成一个狭缝区，相邻两所述狭缝区上的所述第二金属带交错设置。优选地，在所述光线调节区上沿光路方向上的各第二金属带均交错设置。优选地，所述阵列基板上表面设置有围绕显示区设置的若干所述光线调节区，相邻所述光线调节区上的所述第二金属带在光路方向的排列方式不同。优选地，相邻两所述光线调节区之间设置有空白区。优选地，相邻两所述光线调节区之间共用相邻边界处的同一所述第一金属带。进一步地，所述显示面板还包括设置在阵列基板上层的彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板之间还设置有黑矩阵。第二方面，本申请提供了一种显示装置，包括如以上任一所述的显示面板。本申请的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：本申请实施例提供的显示面板采用光线调节区可以保证开口率的同时，调整阵列基板内部的折射光，通过调整透光孔的排列方式，使得折射光在光路方向上的透射量增加，通过光线调节区透射出的光线被上层黑矩阵吸收，减少光线在显示边缘的漏光情况。附图说明通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：图1为本申请的实施例提供的一种光线调节区的结构示意图；图2为本申请的实施例提供的显示面板的结构示意图；图3为本申请的实施例提供的对应光路1的光线示意图；图4为本申请的实施例提供的对应光路2的光线示意图；图5为本申请的实施例提供的一种光斑中心点位置的示意图；图6为本申请的实施例提供的另一种光线调节区的结构示意图；图7为本申请的实施例提供的一种光线的传播示意图；图8为本申请的实施例提供的再一种光线调节区的结构示意图；具体实施方式下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关专利技术，而非对该专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与专利技术相关的部分。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。请详见图1-2，本申请提供了一种显示面板，包括阵列基板100，所述阵列基板100包括显示区AA以及围绕所述显示区AA设置的非显示区CC，所述阵列基板100上表面设置有围绕显示区AA设置的光线调节区700，所述光线调节区700上设置有阵列排布的若干透光孔30，在沿光路方向上，相邻两所述透光孔30交错排布。在本申请实施例中，显示面板为液晶显示面板，包括设置在上层的彩膜基板200和设置在下层的TFT阵列基板100，进行成盒工艺，即在这列基板与彩膜基板200之间灌注液晶层，配向并密封，形成液晶面板。这些结构、步骤为本领域公知工艺，在此不再赘述。本申请实施例中，采用光线调节区700可以保证开口率的同时，调整阵列基板100内部的折射光，通过调整透光孔30的排列方式，使得折射光在光路方向上的透射量增加，通过光线调节区700透射出的光线被上层黑矩阵600吸收，减少光线在显示边缘的漏光情况。显示面板还包括用于施加电场以驱动液晶层的像素电极层和公共电极层，在一些液晶面板中，像素电极层和公共电极层设置在同一平面上，在一些液晶面板中，像素电极层和公共电极层分别设置阵列基板100和彩膜基板200的两相对面上，本申请并不限制具体像素电极层和公共电极层的结构，在本申请实施例中的金属电极层可以为像素电极或者公共电极。具体地，所述阵列基板100包括设置在所述阵列基板100上表面的金属电极层800，所述光线调节区700位于所述金属电极层800对应所述非显示区的位置。本申请针对金属电极层在非显示区的部分进行改进，通过将金属电极层设置为光线调节区700，不改变现有显示面板的结构，同时在保证开口率的同时，在此基础上实现减小漏光现象。所述光线调节区700包括沿光路方向上阵列排布的若干第一金属带10，相邻两所述第一金属带10之间形成一个狭缝区40，所述狭缝区40上设置有沿垂直于光路方向上阵列排布的若干第二金属带20，所述第一金属带10和所述第二金属带20相交形成所述透光孔30。相邻两所述狭缝区40上的所述第二金属带20交错设置。在本申请实施例中，通过相邻两狭缝区40上的第二金属带20交错设置，实现相连两狭缝区40上的透光孔30相互交错，在沿光路方向上，没有出现连续的第二金属带20。需要说明的是，在本申请实施例中所述的光路方向为光线前进的方向映射到相应的平面上的方向，光线在阵列基板100的上下表面交替反射并沿着出光方向前进，映射到同一平面上即为同一直线方向，本申请的光路方向并实际的光线方向，本申请实施例中的光线方向为出光方向。由图3中所示的光线方向，映射到光线调节区700上的光路方向即为L1和L2方向。其中光路L1为光线反射点集中在第二金属带20上的一条示意性光路；光路L2为光线反射点集中在透光孔30周围的第一金属带10上的一条示意性光路。另外还需要说明是，本申请实施例中，围绕显示面板的显示区设置的光线调节区700本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板，所述阵列基板包括显示区以及围绕所述显示区设置的非显示区，所述阵列基板上表面设置有围绕显示区设置的光线调节区，所述光线调节区上设置有阵列排布的若干透光孔，在沿光路方向上，相邻两所述透光孔交错排布。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括阵列基板，所述阵列基板包括显示区以及围绕所述显示区设置的非显示区，所述阵列基板上表面设置有围绕显示区设置的光线调节区，所述光线调节区上设置有阵列排布的若干透光孔，在沿光路方向上，相邻两所述透光孔交错排布。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括设置在所述阵列基板上表面的金属电极层，所述光线调节区位于所述金属电极层对应所述非显示区的位置。


3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光线调节区包括沿光路方向上阵列排布的若干第一金属带，相邻两所述第一金属带之间还设置有沿垂直于光路方向上阵列排布的若干第二金属带，所述第一金属带和所述第二金属带相交形成所述透光孔。


4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，相邻两所述第一金属带之间形成一个狭缝区，相邻两所述狭缝区上的所述第二金属带交错设...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘翔，吴伟，仝远，陈炎，代俊锋，陈麒，朱陶和，张昊，周逸琛，李凯，张荡，张伊伊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，武汉京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11