【技术实现步骤摘要】
一种渐变折射率剖面光纤预制棒芯层的沉积方法
本专利技术涉及一种渐变折射率剖面光纤预制棒芯层的沉积方法,属于光纤预制棒制造
技术介绍
生产渐变折射率光纤所需的光纤预制棒可采用管内法的PCVD(PlasmaChemicalVaporDeposition)或MCVD(ModifiedChemicalVaporDeposition)或管外法的OVD(OutsideVaporDeposition)工艺制备。通过一定的途径在高纯石英玻璃管内或管外通入如SiCl4、O2、GeCl4等高纯度反应物,利用微波源谐振腔或火焰喷灯激发而进行化学反应和气相沉积,形成透明的石英玻璃沉积层。渐变折射率光纤芯棒制备反应式如下:SiCl4+O2=SiO2+2Cl2GeCl4+O2=GeO2+2Cl2通过高温炉熔缩,将沉积后的石英玻璃管制备成一根实心渐变折射率芯棒。然后,渐变折射率芯棒经清洗、腐蚀、干燥后与其相匹配的套管组合成渐变折射率光纤预制棒,通过拉丝设备将该预制棒拉制成光纤。在气相沉积法工艺制备渐变折射率光纤芯 ...
【技术保护点】
1.一种渐变折射率剖面光纤预制棒芯层的沉积方法,将石英玻璃管或靶棒装夹在旋转夹头上,微波谐振腔或火焰喷灯沿石英玻璃管或靶棒轴向往复移动,同时通过流量计开度控制通入反应气体,利用微波谐振腔或火焰喷灯加热和激发而进行化学反应和气相沉积,形成掺杂石英玻璃沉积层,最终完成光纤预制棒芯层的沉积,其特征在于将渐变折射率芯层的沉积区域按径向取k个径向点位,沿轴向划分成包含有m+1个轴向点位的m个子区,所述的k个径向点位对应于芯层的渐变折射率曲线,且各个径向点位之间存在有至少一层或多层的掺杂沉积层,由此将整个芯层沉积区域分为k×(m+1)矩阵点位,每个点位的掺杂沉积向量是基于对母棒测算后经 ...
【技术特征摘要】
1.一种渐变折射率剖面光纤预制棒芯层的沉积方法,将石英玻璃管或靶棒装夹在旋转夹头上,微波谐振腔或火焰喷灯沿石英玻璃管或靶棒轴向往复移动,同时通过流量计开度控制通入反应气体,利用微波谐振腔或火焰喷灯加热和激发而进行化学反应和气相沉积,形成掺杂石英玻璃沉积层,最终完成光纤预制棒芯层的沉积,其特征在于将渐变折射率芯层的沉积区域按径向取k个径向点位,沿轴向划分成包含有m+1个轴向点位的m个子区,所述的k个径向点位对应于芯层的渐变折射率曲线,且各个径向点位之间存在有至少一层或多层的掺杂沉积层,由此将整个芯层沉积区域分为k×(m+1)矩阵点位,每个点位的掺杂沉积向量是基于对母棒测算后经校准的掺杂沉积向量,所述校准的掺杂沉积向量用以反应气体流量计开度控制和调节,且所述的流量计开度控制和调节在各个点位之间是连续渐变的。
2.按权利要求1所述的渐变折射率剖面光纤预制棒芯层的沉积方法,其特征在于所述的经校准的掺杂沉积向量包括径向经校准的掺杂沉积向量和轴向经校准的掺杂沉积向量的叠合。
3.按权利要求1或2所述的渐变折射率剖面光纤预制棒芯层的沉积方法,其特征在于所述的k为正整数且大于或等于50,所述的m为正整数且大于或等于3。
4.按权利要求3所述的渐变折射率剖面光纤预制棒芯层的沉积方法,其特征在于所述的芯层掺杂沉积层的层数与径向点位数k的比值应小于或等于200。
5.按权利要求1或2所述的渐变折射率剖面光纤预制棒芯层的沉积方法,其特征在于所述的母棒测算采用剖面测试设备测试整根母棒的折射率剖面,轴向的测试间隔≤20mm。
6.按权利要求1或2所述的渐变折射率剖面光纤预制棒芯层的沉积方法,其特征在于所述的母棒测算为测试母棒拉丝后的光纤折射率剖面,光纤所处位置与母棒拉丝总长度换算成剖面参数对应在芯棒的轴向位置。
7.按权利要求1或...
【专利技术属性】
技术研发人员:肖武丰,黄荣,张安林,尹旭峰,王海鹰,王润涵,
申请(专利权)人:长飞光纤光缆股份有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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