一种槽盖装置和槽式清洗设备制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种槽盖装置和槽式清洗设备，其中所述槽盖装置包括：槽盖板、固定架和可伸缩机构；固定架设置于清洗槽的槽壁外部，可伸缩机构设于固定架上；槽盖板设置于清洗槽上方，槽盖板的一端固定设有连杆组件，连杆组件分别与固定架和可伸缩机构的伸缩端铰接，可伸缩机构用于驱动连杆组件进行转动，以使槽盖板进行翻转打开或关闭清洗槽的槽口。本发明专利技术能够提高槽盖装置的装配灵活性，提高槽盖装置与清洗槽的密封性。

【技术实现步骤摘要】
一种槽盖装置和槽式清洗设备
本专利技术涉及半导体设备领域，更具体地，涉及一种槽盖装置和槽式清洗设备。
技术介绍
半导体行业槽式清洗设备中，槽式清洗工艺中部分槽体内化学液的温度在100-120℃。在一些槽内含水的药液因需要高温，通常会产生大量酸气。如不对酸气加以密封控制，则酸气会进入到设备的其余模块，从而影响设备总体的工艺效果。参考图1，为一种现有技术的槽盖，包括左槽盖装配体20和右槽盖装配体21，左槽盖装配体20为槽盖打开状态，右槽盖装配体21为槽盖关闭状态。此装置具有以下不足：1、须固定于设备本体框架上，因而此装置的固定受制于框架的宽度，不能满足不同的工艺槽体的尺寸结构，不利于与槽体尺寸配合。2、密封效果差，因左槽盖装配体20，右槽盖装配体21固定在本体框架上，并非直接与高温工艺槽体22相连，在机构闭合状态下与高温工艺槽体22上端会产生间隙，高温工艺过程中，酸气沿间隙挥发至相邻工艺模块。3、同步性差，此机构分为左槽盖装配体20，右槽盖装配体21左右两个结构，因受到气缸组件不同步因素的影响，导致开关动作不一致，可靠性低。因此，期本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种槽盖装置，用于半导体槽式清洗设备，所述半导体槽式清洗设备包括用于进行清洗工艺的清洗槽，其特征在于，所述槽盖装置包括：/n槽盖板、固定架和可伸缩机构；/n所述固定架设置于所述清洗槽的槽壁外部，所述可伸缩机构设于所述固定架上；/n所述槽盖板设置于所述清洗槽上方，所述槽盖板的一端固定设有连杆组件，所述连杆组件分别与所述固定架和所述可伸缩机构的伸缩端铰接，所述可伸缩机构用于驱动所述连杆组件进行转动，以使所述槽盖板进行翻转打开或关闭所述清洗槽的槽口。/n

【技术特征摘要】
1.一种槽盖装置，用于半导体槽式清洗设备，所述半导体槽式清洗设备包括用于进行清洗工艺的清洗槽，其特征在于，所述槽盖装置包括：
槽盖板、固定架和可伸缩机构；
所述固定架设置于所述清洗槽的槽壁外部，所述可伸缩机构设于所述固定架上；
所述槽盖板设置于所述清洗槽上方，所述槽盖板的一端固定设有连杆组件，所述连杆组件分别与所述固定架和所述可伸缩机构的伸缩端铰接，所述可伸缩机构用于驱动所述连杆组件进行转动，以使所述槽盖板进行翻转打开或关闭所述清洗槽的槽口。


2.根据权利要求1所述的槽盖装置，其特征在于，所述可伸缩机构包括至少一气缸组件，所述气缸组件包括气缸和支架，所述支架安装在所述固定架的下端，所述气缸的底部与所述支架铰接并可绕所述支架转动，所述气缸的活塞杆的伸缩端与所述连杆组件铰接。


3.根据权利要求2所述的槽盖装置，其特征在于，所述连杆组件包括公共连接部、第一连杆、第二连杆和第三连杆；其中，
所述公共连接部的一侧面与所述槽盖板的一端固定；
所述第一连杆、所述第二连杆和所述第三连杆平行设置；
所述第一连杆的一端和所述第二连杆的一端分别与所述公共连接部的两端连接，所述第一连杆的另一端和所述第二连杆的另一端分别与所述固定架顶部的两端铰接；
所述第三连杆的一端与所述公共连接部的中部连接，另一端与所述气缸的活塞杆的伸缩端铰接。


4.根据权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡睿凡，
申请(专利权)人：北京北方华创微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11