显示面板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置。显示面板包括：像素定义层，包括多个开口区以及围绕各开口区的非开口区；电极层，设置于像素定义层上，且电极层至少用于形成位于开口区内的阳极，以及用于形成位于非开口区内的辅助电极；以及阴极层，设置于像素定义层与辅助电极上，并与辅助电极并联。本发明专利技术通过在非开口区设置辅助电极与阴极层搭接，进而可以有效地降低阴极层的面电阻，可以改善显示面板的电压降现象，进而提高了显示面板的显示均一性，提高了显示面板的显示效果。

【技术实现步骤摘要】
显示面板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、及具有该显示面板的显示装置。
技术介绍
有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode，OLED)显示面板因具有超越液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)的显示特性与品质，例如：轻薄化、短的反应时间、低的驱动电压、更好的显示色彩以及显示视角等优点，受到大家广泛的关注，近些年其发展日新月异，不仅可以制作曲面显示，同时也逐渐向大尺寸发展。目前，对于顶发射OLED器件，由于要兼顾透过率，透明面阴极一般做得较薄，导致其导电能力较差。在屏幕尺寸较大时，在屏幕中心的发光点，由于离电极接口较远，长距离的电流传输使其驱动电压上升较大。造成屏幕内边缘靠近电极接口区域与屏幕中心区域驱动电压差距过大，有电压降(IRdrop)的问题产生，进而使得显示面板的周边亮度较亮，而中间显示较暗，导致显示不均。
技术实现思路
本专利技术实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，能够解决OLED显示面板由于阴极层容易产生电压降的现象，进而导致显示面板显示不均的技术问题。为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供一种显示面板，其包括：像素定义层，包括多个开口区以及围绕各所述开口区的非开口区；电极层，设置于所述像素定义层上，且所述电极层至少用于形成位于所述开口区内的阳极，以及用于形成位于所述非开口区内的辅助电极；以及阴极层，设置于所述像素定义层与所述辅助电极上，并与所述辅助电极并联。在本专利技术的一种实施例中，所述像素定义层还包括设置于所述非开口区内的挡墙结构，所述辅助电极设置于所述挡墙结构上，所述阴极层连续地覆盖所述像素定义层，并与所述辅助电极搭接。在本专利技术的一种实施例中，所述显示面板还包括设置于所述挡墙结构与所述辅助电极上的间隔部，所述间隔部包括至少一开孔，所述阴极层覆盖所述间隔部，并通过至少一所述开孔与所述辅助电极搭接。在本专利技术的一种实施例中，所述挡墙结构朝向所述阴极层的一侧形成有槽体，所述辅助电极位于所述槽体内，所述阴极层覆盖于所述挡墙结构以及所述辅助电极上。在本专利技术的一种实施例中，所述槽体的深度等于所述辅助电极的厚度。在本专利技术的一种实施例中，所述辅助电极在所述像素定义层上的正投影位于所述阳极在所述像素定义层上的正投影的覆盖范围之外。在本专利技术的一种实施例中，所述显示面板包括多个所述辅助电极，且每一所述辅助电极对应至少一所述开口区设置，且每一所述辅助电极与其对应的至少一所述开口区相邻设置。在本专利技术的一种实施例中，所述显示面板包括显示区以及围绕所述显示区的非显示区，且多个所述辅助电极的分布密度由所述非显示区指向所述显示区的方向递增。根据本专利技术的上述目的，提供一种显示面板的制作方法，其包括以下步骤：形成像素定义层，且所述像素定义层包括多个开口区以及围绕各所述开口区的非开口区；形成电极层于所述像素定义层上，且所述电极层包括形成于所述开口区内的阳极，以及形成于所述非开口区内的辅助电极；以及形成阴极层于所述像素定义层与所述辅助电极上，且所述阴极层与所述辅助电极并联。根据本专利技术的上述目的，提供一种显示装置，所述显示装置包括所述显示面板，或由所述显示面板的制作方法制得的显示面板。本专利技术的有益效果：本专利技术通过在非开口区设置辅助电极与阴极层搭接，进而可以有效地降低阴极层的面电阻，可以改善显示面板的电压降现象，进而提高了显示面板的显示均一性，提高了显示面板的显示效果。此外，辅助电极与阳极在同一制程中形成，进而可以缩减工艺工序，节省工艺成本。附图说明下面结合附图，通过对本专利技术的具体实施方式详细描述，将使本专利技术的技术方案及其它有益效果显而易见。图1为本专利技术实施例提供的一种显示面板的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的显示面板的制作方法流程图；图3为本专利技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；图4为本专利技术实施例提供的另一种显示面板的结构示意图；图5为本专利技术实施例提供的一种像素定义层的平面分布结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的另一种像素定义层的平面分布结构示意图；图7A至图7E为本专利技术实施例提供的显示面板的制作流程结构示意图；图8为本专利技术实施例提供的一种辅助电极的平面分布结构示意图；图9为本专利技术实施例提供的另一种辅助电极的平面分布结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本专利技术的不同结构。为了简化本专利技术的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本专利技术。此外，本专利技术可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本专利技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。目前，对于顶发射OLED器件，由于要兼顾透过率，透明面阴极一般做得较薄，导致其导电能力较差。在屏幕尺寸较大时，在屏幕中心的发光点，由于离电极接口较远，长距离的电流传输使其驱动电压上升较大。造成屏幕内边缘靠近电极接口区域与屏幕中心区域驱动电压差距过大，有电压降(IRdrop)的问题产生，进而使得显示面板的周边亮度较亮，而中间显示较暗，导致显示不均。为解决上述技术问题，本专利技术实施例提供一种显示面板，请参照图1，所述显示面板包括像素定义层10、阴极层21以及电极层，其中，像素定义层10包括多个开口区A以及围绕各开口区A的非开口区B。电极层设置于像素定义层10上，且电极层至少用于形成位于开口区A内的阳极22，以及用于形成位于非开口区B内的辅助电极30。阴极层21设置于像素定义层10与辅助电极30上，且阴极层21与辅助电极30并联。在实施应用过程中，本专利技术实施例通过在像素定义层10的非开口区B内设置辅助电极30，且辅助电极30与阴极层21并联，可以有效地降低阴极层21的电阻，可以改善显示面板的电压降现象，进而可以提高显示面板的显示均一性。辅助电极30设置于非开口区B内，进而不会影响占用开口区A的面积和空间，提高了显示面板的开口率，进一步地提高了显示面板的显示效果。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：/n像素定义层，包括多个开口区以及围绕各所述开口区的非开口区；/n电极层，设置于所述像素定义层上，且所述电极层至少用于形成位于所述开口区内的阳极，以及用于形成位于所述非开口区内的辅助电极；以及/n阴极层，设置于所述像素定义层与所述辅助电极上，并与所述辅助电极并联。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：
像素定义层，包括多个开口区以及围绕各所述开口区的非开口区；
电极层，设置于所述像素定义层上，且所述电极层至少用于形成位于所述开口区内的阳极，以及用于形成位于所述非开口区内的辅助电极；以及
阴极层，设置于所述像素定义层与所述辅助电极上，并与所述辅助电极并联。


2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述像素定义层还包括设置于所述非开口区内的挡墙结构，所述辅助电极设置于所述挡墙结构上，所述阴极层连续地覆盖所述像素定义层，并与所述辅助电极搭接。


3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置于所述挡墙结构与所述辅助电极上的间隔部，所述间隔部包括至少一开孔，所述阴极层覆盖所述间隔部，并通过至少一所述开孔与所述辅助电极搭接。


4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述挡墙结构朝向所述阴极层的一侧形成有槽体，所述辅助电极位于所述槽体内，所述阴极层覆盖于所述挡墙结构以及所述辅助电极上。


5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述槽体的深度等于所述辅助电极的厚度。

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【专利技术属性】
技术研发人员：王超，
申请(专利权)人：TCL华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44