【技术实现步骤摘要】
输送系统
本专利技术涉及一种输送系统。
技术介绍
通常，在用于组装工业产品的生产线、半导体曝光装置等中使用输送系统。特别地，生产线中的输送系统在工厂自动化生产线中的多个工位之间或在工厂自动化生产线之间输送诸如部件的工件。此外，这样的输送系统可以用作处理装置内的输送装置。作为输送系统，已经提出了具有可移动磁体型线性马达的输送系统。在具有可移动磁体型线性马达的输送系统中，使用涉及机械接触的引导装置(例如线性引导件)来构造该输送系统。但是，在使用诸如线性引导件的引导装置的输送系统中，存在由于线性引导件的滑动部产生的污染物(例如轨道或轴承的磨损片或润滑油、其挥发物等)而导致生产率降低的问题。另外，存在由于高速输送时滑动部的摩擦增大而导致线性引导件的寿命缩短的问题。因此，日本专利No.6538710公开了一种能够以非接触方式输送动子的磁浮式输送装置。日本专利No.6538710中公开的磁浮式输送装置利用沿着动子的输送方向以恒定间隔布置在腔室上方的浮起用线圈和布置在腔室侧面上的定子线圈实现了非接触输送。然而，在日...
【技术保护点】
1.一种输送系统，包括：/n动子，所述动子能够在输送方向上移动；/n定子，所述定子具有沿所述输送方向布置的多个线圈，并通过利用施加有电流的所述多个线圈向所述动子施加力；/n获取单元，所述获取单元获取沿所述输送方向移动的所述动子的位置和姿态；以及/n控制单元，所述控制单元基于所述动子的所获取的位置和所获取的姿态来控制施加至所述多个线圈的电流所产生的力。/n
【技术特征摘要】
20200207 JP 2020-0198421.一种输送系统，包括：
动子，所述动子能够在输送方向上移动；
定子，所述定子具有沿所述输送方向布置的多个线圈，并通过利用施加有电流的所述多个线圈向所述动子施加力；
获取单元，所述获取单元获取沿所述输送方向移动的所述动子的位置和姿态；以及
控制单元，所述控制单元基于所述动子的所获取的位置和所获取的姿态来控制施加至所述多个线圈的电流所产生的力。
2.根据权利要求1所述的输送系统，
其中，作为所述位置和所述姿势，所述获取单元获取：
第一方向上的位移，所述第一方向是所述输送方向，以及
在与所述第一方向交叉的第二方向上的位移、在与所述第一方向和所述第二方向交叉的第三方向上的位移、在围绕沿着所述第一方向的轴线的第四方向上的位移、在围绕沿着所述第二方向的轴线的第五方向上的位移、以及在围绕沿着所述第三方向的轴线的第六方向上的位移中的至少一个。
3.根据权利要求2所述的输送系统，
其中，所述动子具有第一磁轭板，
其中，所述多个线圈包括与所述第一磁轭板面对的多个第一线圈，并且
其中，所述控制单元通过控制施加至所述第一线圈的电流来控制所述力在所述第二方向上的分量、在所述第四方向上的分量以及在所述第六方向上的分量中的至少一个。
4.根据权利要求3所述的输送系统，其中，所述多个第一线圈沿着所述第二方向与所述第一磁轭板面对。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的输送系统，
其中，所述动子具有第二磁轭板，
其中，所述多个线圈包括与所述第二磁轭板面对的多个第二线圈，并且
其中，所述控制单元通过控制施加至所述多个第二线圈的电流来控制所述力在所述第三方向上的分量以及在所述第五方向上的分量中的至少一个。
6.根据权利要求5所述的输送系统，其中，所述多个第二线圈沿着所述第三方向与所述第二磁轭板面对。
7.根据权利要求4所述的输送系统，
其中，所述动子具有导电板，
其中，所述多个线圈包括与所述导电板面对的多个第三线圈，并且
其中，所述控制单元通过控制施加至所述多个第三线圈的电流来控制所述力在所述第一方向上的分量。
8.根据权利要求3或4所述的输送系统，
其中，所述动子具有永磁体阵列，在所述永磁体阵列中，多个永磁体沿着所述第一方向布置，
其中，所述多个线圈包括与所述永磁体阵列面对的多个第二线圈，并且
其中，所述控制单元通过控制施加至所述多个第二线圈的电流来控制所述力在所述第一方向上的分量、所述力在所述第三方向上的分量以及在所述第五方向上的分量中的至少任意一个。
9.根据权利要求2至4中任一项所述的输送系统，
其中，所述动子具有永磁体阵列，在所述永磁体阵列中，多个永磁体沿着所述第一方向布置，
其中，所述多个...
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