用于全空间电磁全息成像的单层编码超表面制造技术

用于全空间电磁全息成像的单层编码超表面，涉及编码超表面技术领域。本发明专利技术是为了解决现有多层介质级联结构实现的超表面全息体积大、不利于与现代电磁器件或系统进行集成的问题。本发明专利技术编码单元包括上金属层和下金属层，上金属层包括“Ⅱ”字形的第一金属片和两个矩形环并列排布而成的第二金属片，第一金属片和第二金属片重叠设置、且呈“十”字形结构，第二金属片的一条边与介质层的一条边相互平行，下金属层能够完全覆盖介质层下表面，下金属层上开有与第二金属片形状完全相同的镂空结构，该镂空结构与第二金属片镜像对称，上金属层、下金属层和介质层的几何中心重叠设置。

【技术实现步骤摘要】
用于全空间电磁全息成像的单层编码超表面
本专利技术属于编码超表面

技术介绍
全息成像技术是通过记录光或电磁波的幅度和相位信息重构物体图像的技术，这项技术已被应用于各种各样的领域，例如三维成像、数据存储等。然而，电磁波幅度、相位的任意调控是制约全息技术进一步发展的一个重大因素。基于人工微结构的电磁超表面由于可以表现出传统天然材料不具有的电磁或光学特性(如负折射)及任意调控电磁波参数的奇异特性而受到电磁、物理及材料等领域学者的重视。特别是超表面全息能够任意调控电磁波前，与传统的全息技术相比更具有高分辨率和更好的成像质量等优点，因此已经成为全息成像最有前景的技术之一。在过去的几年里，高效率超表面全息、二维全息术、三维全息术、多色超表面全息和各种复用超表面全息等技术都已经蓬勃发展。然而，目前大多数超表面全息成像通常是在一半的成像空间(透射空间或反射空间)中实现的，而另一半空间未被利用，这就造成了电磁波资源的浪费，超表面全息的视角也被限制在半空间成像。因而限制了超表面的进一步应用。2020年，东南大学的崔铁军教授提出了一种全空间本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于全空间电磁全息成像的单层编码超表面，包括多个呈阵列排布的超表面单元，每个超表面单元均包括：编码单元和矩形的介质层(2)，/n其特征在于，编码单元包括位于介质层(2)上表面的上金属层(1)和位于介质层(2)下表面的下金属层(3)，/n上金属层(1)包括“Ⅱ”字形的第一金属片和两个矩形环并列排布而成的第二金属片，两个矩形环并列设置且相邻的两条边重叠，第一金属片和第二金属片重叠设置、且呈“十”字形结构，第二金属片的一条边与介质层(2)的一条边相互平行，/n下金属层(3)为能够完全覆盖介质层(2)下表面的金属片，该金属片上开有矩形的镂空结构，该镂空结构相对的两条边中点通过条形缝隙连通，镂空结构...

【技术特征摘要】
1.用于全空间电磁全息成像的单层编码超表面，包括多个呈阵列排布的超表面单元，每个超表面单元均包括：编码单元和矩形的介质层(2)，
其特征在于，编码单元包括位于介质层(2)上表面的上金属层(1)和位于介质层(2)下表面的下金属层(3)，
上金属层(1)包括“Ⅱ”字形的第一金属片和两个矩形环并列排布而成的第二金属片，两个矩形环并列设置且相邻的两条边重叠，第一金属片和第二金属片重叠设置、且呈“十”字形结构，第二金属片的一条边与介质层(2)的一条边相互平行，
下金属层(3)为能够完全覆盖介质层(2)下表面的金属片，该金属片上开有矩形的镂空结构，该镂空结构相对的两条边中点通过条形缝隙连通，镂空结构与第二金属片镜像对称，
上金属层(1)、下金属层(3)和介质层(2)的几何中心重叠设置。


2.根据权利要求1所述的用于全空间电磁全息成像的单层编码超表面，其特征在于，上金属层(1)和下金属层(3)的材料均为铜，电导率均为5.8×107sm-1。


3.根据权利要求1或2所述的用于全空间电磁全息成像的单层编码超表面，其特征在于，上金属层(1)和下金属层(3)的厚度均为0.018mm。


4.根据权利要求3所述的用于全空间电磁全息成像的单层编码超表面，其特征在于，矩形环的边和镂空结构的条形缝隙宽度均为0.5mm。


5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱磊，董亮，周文娟，
申请(专利权)人：齐齐哈尔大学，
类型：发明
国别省市：黑龙江;23