一种彩膜基板及其制作方法技术

本申请适用于显示技术领域，提供了一种彩膜基板及其制作方法。本申请的彩膜基板的制作方法包括：提供衬底，衬底包括遮光区和多个子像素区，遮光区将衬底分隔成多个间隔设置的子像素区；在遮光区形成第一黑矩阵；在衬底的设有第一黑矩阵的一侧整面设置彩色光阻并进行图案化处理，得到设于子像素区的彩色光阻层，彩色光阻层和第一黑矩阵之间具有间隙；在遮光区形成第二黑矩阵，第二黑矩阵覆盖于第一黑矩阵上且填充于彩色光阻层和第一黑矩阵之间的间隙。本申请通过在衬底预设第一黑矩阵，可以防止温度差异引起的彩色光阻层不良扩大，减少气流影响导致的彩色光阻层不良，从而改善采用机械手搬送衬底而导致彩色光阻层的厚度不均的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种彩膜基板及其制作方法
本申请属于显示
，特别涉及一种彩膜基板及其制作方法。
技术介绍
黄光制程是液晶显示面板生产过程中的重要工序，广泛运用于面板各部分的生产。黄光制程的大致工序包括：涂布光阻、真空干燥、预烘烤、冷却、曝光、显影、蚀刻和剥离光阻。黄光制程可以应用于彩膜基板，具体来说，通过在玻璃基板上涂布彩色光阻，对彩色光阻进行预烘烤、曝光和显影处理后即可得到具有滤光作用的彩色光阻层。然而，彩色光阻在刚涂布且未经烘烤前，特性不稳定，容易受外界的温度、气流等影响，温度越高，气流越大，彩色光阻的溶剂挥发越快，具体来说，在玻璃基板从涂布机搬送到VCD(VacuumConstrictionDevice，真空干燥箱)的过程中，由机械手搬送玻璃基板，由于机械手各个关节需要通过电机来控制转动，电机工作时会有热量产生，故机械手对应电机的位置的温度较高，而由于温度差异也会产生气流。因此，当机械手搬送玻璃基板时，靠近机械手的部分彩色光阻会因为机械手的温度以及气流有差异，此部分的彩色光阻的溶剂挥发较快，而其他部分的彩色光阻的溶剂正常挥发，这容易导致彩色本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：/n提供衬底，所述衬底包括遮光区和多个子像素区，所述遮光区将所述衬底分隔成多个间隔设置的所述子像素区；/n在所述遮光区形成第一黑矩阵；/n在所述衬底的设有所述第一黑矩阵的一侧整面设置彩色光阻并进行图案化处理，得到设于所述子像素区的彩色光阻层，所述彩色光阻层和所述第一黑矩阵之间具有间隙；/n在所述遮光区形成第二黑矩阵，所述第二黑矩阵覆盖于所述第一黑矩阵上且填充于所述彩色光阻层和所述第一黑矩阵之间的间隙。/n

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供衬底，所述衬底包括遮光区和多个子像素区，所述遮光区将所述衬底分隔成多个间隔设置的所述子像素区；
在所述遮光区形成第一黑矩阵；
在所述衬底的设有所述第一黑矩阵的一侧整面设置彩色光阻并进行图案化处理，得到设于所述子像素区的彩色光阻层，所述彩色光阻层和所述第一黑矩阵之间具有间隙；
在所述遮光区形成第二黑矩阵，所述第二黑矩阵覆盖于所述第一黑矩阵上且填充于所述彩色光阻层和所述第一黑矩阵之间的间隙。


2.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，形成所述第一黑矩阵的步骤包括：
在所述衬底上设置遮光材料；
对所述遮光材料进行预烘烤处理，得到第一遮光层；
采用光罩对所述第一遮光层依次进行曝光、显影和固化处理，得到所述第一黑矩阵。


3.如权利要求1所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，形成所述第二黑矩阵的步骤包括：
在所述衬底和所述第一黑矩阵上整面涂布遮光材料；
对所述遮光材料进行预烘烤处理，得到第二遮光层；
采用光罩对所述第二遮光层依次进行曝光、显影和固化处理，得到所述第二黑矩阵。


4.如权利要求2或3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，对所述遮光材料进行预烘烤处理的温度为80℃～150℃，时间为60s～200s。


5.如权利要求2或3所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，进行显影处理的温度为22℃～25℃，时间为40s～10...

【专利技术属性】
技术研发人员：张雷，袁海江，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44