光检测装置、光检测系统及滤波器阵列制造方法及图纸

技术编号:29600266 阅读:21 留言:0更新日期:2021-08-06 20:04
有关本发明专利技术的一形态的光检测装置具备:滤波器阵列,包括以二维排列的多个滤波器;以及图像传感器;上述多个滤波器包括第1滤波器及第2滤波器;上述第1滤波器及上述第2滤波器分别具有共振结构,该共振结构包括第1反射层、第2反射层以及上述第1反射层与上述第2反射层之间的中间层,并且具有模数互不相同的多个共振模;从由上述第1滤波器的上述中间层的折射率及厚度构成的组中选择的至少1个与从由上述第2滤波器的上述中间层的折射率及厚度构成的组中选择的上述至少1个不同;上述图像传感器包括:第1光检测元件,配置在接受透射了上述第1滤波器的光的位置;以及第2光检测元件,配置在接受透射了上述第2滤波器的光的位置。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光检测装置、光检测系统及滤波器阵列
本专利技术涉及光检测装置、光检测系统及滤波器阵列。
技术介绍
通过利用分别为窄带的多个波段(band)、例如几十个波段的光谱信息,能够掌握通过以往的RGB图像不能掌握的对象物的详细的物性。取得这样的多波长的信息的相机被称作“超光谱相机”。例如,如在专利文献1至5中公开那样,超光谱相机在食品检查、生物体检查、医药品开发及矿物的成分分析等各种领域中被利用。现有技术文献专利文献专利文献1:美国专利申请公开第2016/138975号说明书专利文献2:美国专利第7907340号说明书专利文献3:美国专利第9929206号说明书专利文献4:日本特表2013-512445号公报专利文献5:日本特表2015-501432号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题本专利技术提供一种能够提高超光谱相机的波长分辨率的新的光检测装置。用来解决课题的手段有关本专利技术的一技术方案的光检测装置具备:滤波器阵列,包括以二维排列的多个滤波器;本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光检测装置,其中,具备:/n滤波器阵列,包括以二维排列的多个滤波器;以及/n图像传感器;/n上述滤波器阵列中,/n上述多个滤波器包括第1滤波器及第2滤波器,/n上述第1滤波器及上述第2滤波器分别具有共振结构,该共振结构包括第1反射层、第2反射层以及上述第1反射层与上述第2反射层之间的中间层,并且具有模数互不相同的多个共振模,/n从由上述第1滤波器的上述中间层的折射率及厚度构成的组中选择的至少1个与从由上述第2滤波器的上述中间层的折射率及厚度构成的组中选择的上述至少1个不同;/n上述图像传感器包括:第1光检测元件,配置在接受透射了上述第1滤波器的光的位置;以及第2光检测元件,配置在接受透...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190306 JP 2019-0408471.一种光检测装置,其中,具备:
滤波器阵列,包括以二维排列的多个滤波器;以及
图像传感器;
上述滤波器阵列中,
上述多个滤波器包括第1滤波器及第2滤波器,
上述第1滤波器及上述第2滤波器分别具有共振结构,该共振结构包括第1反射层、第2反射层以及上述第1反射层与上述第2反射层之间的中间层,并且具有模数互不相同的多个共振模,
从由上述第1滤波器的上述中间层的折射率及厚度构成的组中选择的至少1个与从由上述第2滤波器的上述中间层的折射率及厚度构成的组中选择的上述至少1个不同;
上述图像传感器包括:第1光检测元件,配置在接受透射了上述第1滤波器的光的位置;以及第2光检测元件,配置在接受透射了上述第2滤波器的光的位置;
上述第1反射层包括:
多个第1电介质层,分别具有第1折射率;以及
多个第2电介质层,分别具有比上述第1折射率高的第2折射率;
在上述第1反射层中,上述多个第1电介质层和上述多个第2电介质层交替地配置;
上述多个第1电介质层中的至少2个具有互不相同的厚度;
上述多个第2电介质层中的至少2个具有互不相同的厚度;
上述第2反射层包括:
多个第3电介质层,分别具有第3折射率;以及
多个第4电介质层,分别具有比上述第3折射率高的第4折射率;
在上述第2反射层中,上述多个第3电介质层和上述多个第4电介质层交替地配置;
上述多个第3电介质层中的至少2个具有互不相同的厚度;
上述多个第4电介质层中的至少2个具有互不相同的厚度。


2.如权利要求1所述的光检测装置,其中,
上述第1滤波器及上述第2滤波器各自的透射光谱在包含于某波长域中的多个波长的每一个波长下具有透射率的极大值;
上述多个波长分别对应于上述多个共振模;
上述第1光检测元件及上述第2光检测元件分别对上述波长域的光具有灵敏度。


3.如权利要求1或2所述的光检测装置,其中,
上述多个第1电介质层各自的光学长度等于上述多个第2电介质层中的与上述多个第1电介质层各自相邻的第2电介质层的光学长度;
上述多个第3电介质层各自的光学长度等于上述多个第4电介质层中的...

【专利技术属性】
技术研发人员:石川笃稻田安寿
申请(专利权)人:松下知识产权经营株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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