光学元件的高效清洗工艺制造技术

本发明专利技术公开了光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，后脱水干燥，具体步骤如下：1）在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物，清洗90‑150s；2）经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入清水槽，清洗60‑90s；3）在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A；清洗90‑150s；4）清水漂洗；5）在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B；清洗90‑150s；6）清水漂洗；7）将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。本发明专利技术具有的清洗时间短，清洗效果好和生产效率高等特点。

【技术实现步骤摘要】
光学元件的高效清洗工艺
本专利技术涉及光学元件生产
，具体涉及光学元件的高效清洗工艺。
技术介绍
光学镜头是及其视觉系统中必不可少的部件，清洗工艺也是必不可少的一个条件，必须达到对产品的清洗不留下任何污垢和杂质，还必须保证产品不会有任何的损伤。在光学加工中，元件污染主要来源于研磨(粉)液残留，手指印及少量脂肪类油。如CeO2(二氧化铈)为主要成分的研磨粉是不会对镜片构成腐蚀的，但在进行研磨加工时，研磨液是由水加研磨粉配制而成，因此新配制的研磨液的初始pH值是由水和研磨粉的酸碱性共同决定的，一般呈碱性(pH＞7)。清洗元件上油脂类污染主要是在其他溶剂进行乳化、分解之后的残留，因此通过与碱反应生成可溶于水的肥皂和甘油，可将其除去。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种光学元件的高效清洗工艺，具有的清洗时间短，清洗效果好和生产效率高等特点。为解决上述技术问题，本专利技术采取如下技术方案：光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，其特征在于：将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，其特征在于：将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，后脱水干燥，具体步骤如下：/n1）在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物，并通过加热使清洗剂组合物温度保持在55- 65℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗90-150s；/n2）经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽，第二个清洗槽内加入纯水，在40-50℃温度条件下，清洗60-90s；/n3）在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A；并通过加热使碱性溶A温度保持在45- 55℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗90-...

【技术特征摘要】
1.光学元件的高效清洗工艺，采用超声波清洗设备进行清洗，其特征在于：将光学元件放入清洗篮内依次经过6道清洗工序后，后脱水干燥，具体步骤如下：
1）在超声波清洗机的第一个清洗槽加入清洗剂组合物，并通过加热使清洗剂组合物温度保持在55-65℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽的清洗篮内,清洗90-150s；
2）经过清洗剂组合物清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第二个清洗槽，第二个清洗槽内加入纯水，在40-50℃温度条件下，清洗60-90s；
3）在超声波清洗机的第三个清洗槽加入碱性溶液A；并通过加热使碱性溶A温度保持在45-55℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗90-150s；
4）经过碱液清洗后的光学元件放入超声波清洗机的第四个清洗槽，以纯水作为清洗介质，在40-50℃温度条件下，清洗时间为60-90s；
5）在超声波清洗机的第五个清洗槽加入碱性溶液B；并通过加热使碱性溶液B温度保持在30-45℃的范围内，将待清洗的光学元件放入清洗槽内，清洗90-150s；
6）以清水作为清洗介质，在20-30℃温度条件下，实施清水漂洗，所述清洗时间为60-90s；
7）将漂洗后的光学元件进行脱水烘干。


2.根据权利要求1所述的光学元件的高效清洗工艺，其特征在于：所述的步骤1）...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈吕勇，马登超，步雪斌，阎国安，
申请(专利权)人：南通瑞景光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32