【技术实现步骤摘要】
一种化学机械抛光保持环
本技术涉及化学机械抛光
，具体为一种化学机械抛光保持环。
技术介绍
化学机械抛光是一种全局平整化的超精密表面加工技术，这种抛光方法通常将基板吸合于承载头的下部，基板具有沉积层的底面抵接于旋转的抛光垫，承载头在驱动部件的带动下与抛光垫同向旋转并给予基板向下的载荷，同时，抛光液供给于抛光垫与基板之间，在化学和机械的共同作用下实现基板的材料去除。在中国已授权技术专利申请公开说明书CN211163459U中公开的一种化学机械抛光保持环，该专利保持环的金属部的顶面、内侧面和外侧面设置有耐涂层，其可有效保护保持环的金属部，防止金属部与其他部件发生磕碰而产生金属离子污染，避免金属离子污染对化学机械抛光生产的影响，但是，实际中保持环工作时会产生摩擦，进而摩擦产生热量，但目前的保持环的耐磨性能和耐高温性能较差，使保持环的使用寿命较短。
技术实现思路
(一)解决的技术问题针对现有技术的不足，本技术提供了一种化学机械抛光保持环，解决了上述
技术介绍
中提出的现有的化学机械抛光保持环的耐磨性...
【技术保护点】
1.一种化学机械抛光保持环，包括抛光保持环本体(1)，其特征在于，所述抛光保持环本体(1)包括金属部本体(2)、粘结层(3)、非金属部(4)、第一耐高温层(5)、第一耐磨层(6)、第一防护层(7)、第二耐高温层(8)、第二耐磨层(9)和第二防护层(10)，所述金属部本体(2)的顶部与粘结层(3)的底部固定连接，所述粘结层(3)的顶部与非金属部(4)的底部固定连接，所述非金属部(4)的顶部与第一耐高温层(5)的底部固定连接，所述第一耐高温层(5)的顶部与第一耐磨层(6)的底部固定连接，所述第一耐磨层(6)的顶部与第一防护层(7)的底部固定连接。/n
【技术特征摘要】
1.一种化学机械抛光保持环，包括抛光保持环本体(1)，其特征在于，所述抛光保持环本体(1)包括金属部本体(2)、粘结层(3)、非金属部(4)、第一耐高温层(5)、第一耐磨层(6)、第一防护层(7)、第二耐高温层(8)、第二耐磨层(9)和第二防护层(10)，所述金属部本体(2)的顶部与粘结层(3)的底部固定连接，所述粘结层(3)的顶部与非金属部(4)的底部固定连接，所述非金属部(4)的顶部与第一耐高温层(5)的底部固定连接，所述第一耐高温层(5)的顶部与第一耐磨层(6)的底部固定连接，所述第一耐磨层(6)的顶部与第一防护层(7)的底部固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种化学机械抛光保持环，其特征在于，
所述金属部本体(2)的底部与第二耐高温层(8)的顶部固定连接，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：张瑞军，
申请(专利权)人：江门市蓬江区泰德利机械设备有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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