溶液聚合工艺制造技术

本文公开了一种用于溶液聚合的系统，所述系统包括：反应器系统，所述反应器系统用于接收反溶剂、单体和溶剂，并且使所述单体反应以形成聚合物，其中，所述反溶剂不是用于所述聚合物的溶剂并且用于降低低临界溶液温度；多个脱挥发分容器，所述多个脱挥发分容器位于所述反应器系统的下游，其中，每个脱挥发分容器在比前一脱挥发分容器低的压力下运行，并且其中，所述多个脱挥发分容器从所述反应器系统接收聚合物溶液；以及液‑液分离器，所述液‑液分离器用于从所述反应器系统接收聚合物溶液，并通过降低所述液‑液分离器中的所述聚合物溶液的压力和温度来促进所述聚合物与挥发物之间的分离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】溶液聚合工艺相关申请的交叉引用本申请要求于2018年12月14日提交的美国申请号62/779589的权益，所述美国申请通过引用以其整体并入本文。
技术介绍
本公开涉及溶液聚合工艺。特别地，本公开涉及与使用溶剂和非溶剂的混合物的上游乙烯装置集成的溶液聚合工艺。聚合物溶液可表现出低临界溶液温度(LCST)现象，由此均相的聚合物溶液在高于特定温度时会分离为富聚合物液相和富溶剂相。该温度是溶剂类型、聚合物料流组成和压力的函数。这些变量中的任何一个都可以被操纵以引起液-液分离。这种分离具有与其相关的非常小的热负荷，特别是与等量溶剂的蒸发相比。在商业溶液聚合中，需要提高效率并降低与溶剂去除工艺相关的成本。授予Friedersdorf的美国专利6,881,800涉及用于连续溶液聚合的工艺和工厂。该工厂包括：压力源；在所述压力源下游的聚合反应器；位于聚合反应器下游的减压装置；以及位于减压装置下游的分离器。压力源公开为足以在聚合期间为反应混合物提供压力，以在反应器与分离器之间不存在附加压力源的情况下在反应器中产生单相液体反应混合物以及在分离器中产生两相液-液反本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于溶液聚合的系统，所述系统包括：/n反应器系统，所述反应器系统用于接收反溶剂、单体和溶剂，并且使所述单体反应以形成聚合物，其中，所述反溶剂不是用于所述聚合物的溶剂并且用于降低低临界溶液温度；/n多个脱挥发分容器，所述多个脱挥发分容器位于所述反应器系统的下游，其中，每个脱挥发分容器在比前一脱挥发分容器低的压力下运行，并且其中，所述多个脱挥发分容器从所述反应器系统接收聚合物溶液；以及/n液-液分离器，所述液-液分离器用于从所述反应器系统接收聚合物溶液，并通过降低所述液-液分离器中的所述聚合物溶液的压力和温度来促进所述聚合物与挥发物之间的分离，其中所述聚合物存在于富聚合物相中，并且所述挥发...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181214 US 62/7795891.一种用于溶液聚合的系统，所述系统包括：
反应器系统，所述反应器系统用于接收反溶剂、单体和溶剂，并且使所述单体反应以形成聚合物，其中，所述反溶剂不是用于所述聚合物的溶剂并且用于降低低临界溶液温度；
多个脱挥发分容器，所述多个脱挥发分容器位于所述反应器系统的下游，其中，每个脱挥发分容器在比前一脱挥发分容器低的压力下运行，并且其中，所述多个脱挥发分容器从所述反应器系统接收聚合物溶液；以及
液-液分离器，所述液-液分离器用于从所述反应器系统接收聚合物溶液，并通过降低所述液-液分离器中的所述聚合物溶液的压力和温度来促进所述聚合物与挥发物之间的分离，其中所述聚合物存在于富聚合物相中，并且所述挥发物存在于富溶剂相中。


2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述反溶剂是乙烷，所述单体是α-烯烃，并且其中，所述溶剂是甲基环己烷。


3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述反应器系统包括第一反应器，所述第一反应器在120℃至230℃的温度以及大于或等于90kgf/cm2至小于或等于200kgf/cm2的压力下运行。


4.根据权利要求3所述的系统，其中，按所述第一反应器的出口处的所述聚合物溶液的总重量计，所述聚合物溶液中的固体内容物以8wt％至16wt％的量存在。


5.根据权利要求3所述的系统，其中，所述反应器系统还包括第二反应器，所述第二反应器在比所述第一反应器更高的温度和更低的压力下运行。


6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述第二反应器在大于或等于80kgf/cm2至小于或等于180kgffcm2的压力以及200℃至240℃的温度下运行。


7.根据权利要求6所述的系统，其中，按所述第二反应器的出口处的所述聚合物溶液的总重量计，所述聚合物溶液中的固体内容物以12wt％至20wt％的量存在。

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【专利技术属性】
技术研发人员：A·Y·王，J·鲁巴卡巴，M·D·特纳，M·J·小佐格，P·杰恩，
申请(专利权)人：陶氏环球技术有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国;US