一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件制造技术

本发明专利技术公开了一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件，包括基底，基底上方设有过渡层，过渡层上方设置一维铝纳米线栅，一维铝纳米线栅包括设置在过渡层上方的铝光栅层以及通过PMMA介质层嵌入铝光栅层中的三角形铝光栅，光线从基底向光栅方向入射。通过对各参数的调试，可使其在2‑20μm红外波段获得80％左右的透过率和90dB以上的偏振消光比，且透过率随波长变化波动较小，基本保持在80％～90％之间。在偏振成像、显示、医学应用、设备的小型化与集成化、光学存储和光通信等领域具有应用潜力。

【技术实现步骤摘要】
一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件
本专利技术涉及一种纳米光栅结构偏振器件。
技术介绍
作为光学信息处理与测量系统中的重要光学元件，偏振器件在生产生活与科研中有着越来越广泛的应用。传统的偏振片为两玻璃片之间粘夹双向色性有机晶体的形式。这种偏振片的消光比很有限，而且光线的透过率也较低，无法产生高质量的线性偏振光。而且传统偏振片体积庞大，无法适应设备集成化和小型化的需求。近年来，人们发现纳米超表面结构的光栅具有优良的偏振特性，并对其进行了大量研究。理论与实践表明，当光栅的周期、厚度小于光波长时，将表现出较好的偏振特性。利用此种特性，可实现偏振转换、旋光、矢量光束产生等功能。随着科学研究的不断进步，人们对于优质线性偏振光的需求也越来越高，故而近年来对于超表面纳米光栅结构的研究也越来越多。2017年，Chen等人设计并搭建了一种以荧光陶瓷为基底，氟化镁为过渡层的铝光栅结构，在可见光波段(400-700nm)上实现了60％以上的透过率和20dB以上的偏振消光比。2019年，Xia等人设计并构建了一种以硒化锌为基底，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件，其特征在于，包括基底，所述基底上方设有过渡层，所述过渡层上方设置一维铝纳米线栅，所述一维铝纳米线栅包括设置在所述过渡层上方的铝光栅层以及通过PMMA介质层嵌入所述铝光栅层中的三角形铝光栅，光线从所述基底向光栅方向入射。/n

【技术特征摘要】
1.一种基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件，其特征在于，包括基底，所述基底上方设有过渡层，所述过渡层上方设置一维铝纳米线栅，所述一维铝纳米线栅包括设置在所述过渡层上方的铝光栅层以及通过PMMA介质层嵌入所述铝光栅层中的三角形铝光栅，光线从所述基底向光栅方向入射。


2.根据权利要求1所述的基于纳米结构光学异常特性的纳米光栅结构偏振器件，其特征在于，所述基底材料为硒化锌，所述过渡层由下方的氟化镁过渡层以及上方的硫化锌过渡层构成，所述氟化镁过渡层厚度H1为100nm～200nm，所述硫化锌过渡层厚度H2为0～50nm，所述铝光栅层厚度H3...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏涛，刘宇建，钱沁宇，王钦华，
申请(专利权)人：扬州大学，
类型：发明
国别省市：江苏;32