【技术实现步骤摘要】
处理装置
本专利技术涉及一种处理装置。
技术介绍
在专利文献1中,作为向介质实施处理的处理装置的一个示例,记载了向介质实施印刷的图像形成装置。该图像形成装置具备对介质的表面粗糙度进行检测的传感器。图像形成装置根据由传感器检测到的介质的表面粗糙度而对介质的光泽度进行判断。图像形成装置根据介质的光泽度而对介质的种类进行判断。图像形成装置通过对介质的种类进行判断,从而以与其种类相应的设定而对介质实施印刷。即便是相同种类的介质,介质的表面粗糙度也可能按照每个介质而不同。并不限于介质的表面粗糙度,即便是相同种类的介质,其特性也可能按照每个介质而不同。例如,即便对相同种类的介质实施相同的处理,介质所包含的水分量的变化可能按照每个介质而不同。介质所包含的水分量会对介质的印刷品质产生较大的影响。因此,对相对于处理的介质所包含的水分量的变化进行检测在处理装置中是重要的。专利文献1:日本特开2017-181060号公报
技术实现思路
解决上述技术问题的处理装置具备:第一光源以及第二光源,其发出峰值波长被包含于 ...
【技术保护点】
1.一种处理装置,具备:/n第一光源以及第二光源,其发出峰值波长被包含于900nm以上且2100nm以下的光;/n第一受光部,其接收所述第一光源所发出的光;/n第二受光部,其接收所述第二光源所发出的光;/n支承部,其对被输送的介质进行支承;/n处理部,其与所述支承部对置,并向所述介质实施使所述介质所包含的水分量增加或者减少的处理,/n所述第一光源以及所述第一受光部位于与所述处理部相比靠被输送的所述介质的输送方向的上游,/n所述第一光源向由所述处理部实施处理之前的所述介质照射光,/n所述第一受光部接收在所述介质处反射后的光,/n所述第二光源以及所述第二受光部位于与所述处理部相 ...
【技术特征摘要】
20200131 JP 2020-0146111.一种处理装置,具备:
第一光源以及第二光源,其发出峰值波长被包含于900nm以上且2100nm以下的光;
第一受光部,其接收所述第一光源所发出的光;
第二受光部,其接收所述第二光源所发出的光;
支承部,其对被输送的介质进行支承;
处理部,其与所述支承部对置,并向所述介质实施使所述介质所包含的水分量增加或者减少的处理,
所述第一光源以及所述第一受光部位于与所述处理部相比靠被输送的所述介质的输送方向的上游,
所述第一光源向由所述处理部实施处理之前的所述介质照射光,
所述第一受光部接收在所述介质处反射后的光,
所述第二光源以及所述第二受光部位于与所述处理部相比靠所述输送方向的下游,
所述第二光源向由所述处理部实施了处理之后的所述介质照射光,
所述第二受光部接收在所述介质处反射后的光。
2.如权利要求1所述的处理装置,其中,
所述第一光源以及所述第二光源中的至少一方具有发出峰值波长不同的光的多个发光元件。
3.如权利要求2所述的处理装置,其中,
所述第一光源以及所述第二光源中的至少一方具有发出峰值波长为940nm的光的短波长发光元件和发出峰值波长为1450nm的光的长波长发光元件。
4.如权利要求1至3中任一项所述的处理装置,其中,
具备对所述第一光源所发出的光进行遮挡的第一遮光部,
所述第一光源所发出的光在第一检测光路或者第一参照光路中行进,所述第一检测光路为通过使所述第一光...
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