【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阵列基板及其制作方法、显示装置
本公开至少一实施例涉及一种阵列基板以及其制作方法、显示装置。
技术介绍
对于显示液晶面板，可以通过结合局域调光技术(LocalDimming，LD)来提升显示面板的显示画质。为了在例如侧入式背光单元使用局域调光技术，需要在显示液晶面板和侧入式背光单元之间增加光控面板，该光控面板可控制预定区域中的透光率，对于画面亮度(灰阶)较高的部分，光控面板的相应区域的透光率也高，允许来自背光单元的更多光通过，对于画面亮度较低的部分，光控面板的相应区域的透光率也低，允许来自背光单元的较少光通过，从而达到提高显示画面的对比度，增强显示画质的目的。
技术实现思路
本公开至少一实施例提供一种阵列基板，该阵列基板包括衬底基板、偏光片、多个有源元件、第一有机保护层和第一无机保护层；偏光片位于所述衬底基板的第一侧；多个有源元件以阵列形式设置于所述衬底基板的与所述第一侧相反的第二侧；第一有机保护层位于所述偏光片的远离所述衬底基板的一侧且覆盖所述偏光片；第一无机保护层位于所述第一有机保护层的远离所述偏光片的一侧且覆盖所述
【技术保护点】
一种阵列基板，包括：/n衬底基板；/n偏光片，位于所述衬底基板的第一侧；/n多个有源元件，以阵列形式设置于所述衬底基板的与所述第一侧相反的第二侧；/n第一有机保护层，位于所述偏光片的远离所述衬底基板的一侧且覆盖所述偏光片；/n第一无机保护层，位于所述第一有机保护层的远离所述偏光片的一侧且覆盖所述第一有机保护层。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】一种阵列基板，包括：
衬底基板；
偏光片，位于所述衬底基板的第一侧；
多个有源元件，以阵列形式设置于所述衬底基板的与所述第一侧相反的第二侧；
第一有机保护层，位于所述偏光片的远离所述衬底基板的一侧且覆盖所述偏光片；
第一无机保护层，位于所述第一有机保护层的远离所述偏光片的一侧且覆盖所述第一有机保护层。
根据权利要求1所述的阵列基板，还包括：
第二有机保护层，位于所述第一无机保护层的远离所述偏光片的一侧且覆盖所述第一无机保护层的远离所述偏光片的表面，其中，所述第二有机保护层的远离所述偏光片的表面的粗糙度大于所述第一无机保护层的远离所述偏光片的表面的粗糙度。
根据权利要求2所述的阵列基板，其中，
所述第一有机保护层的材料为第一树脂材料，所述第二有机保护层的材料为第二树脂材料；
所述第一树脂材料的弹性模量小于所述第二树脂材料的弹性模量，且所述第二有机保护层的远离所述偏光片的表面的粗糙度大于所述第一有机保护层的远离所述偏光片的表面的粗糙度。
根据权利要求3所述的阵列基板，其中，
所述第一有机保护层的材料为聚酰亚胺，所述第二有机保护层的材料为亚克力系或环氧树脂。
根据权利要求2-4任一所述的阵列基板，其中，所述第一有机保护层的在垂直于所述衬底基板的方向上的厚度大于所述第二有机保护层的在垂直于所述衬底基板的方向上的厚度。
根据权利要求5所述的阵列基板，其中，所述第一有机保护层的在垂直于所述衬底基板的方向上的厚度是所述第二有机保护层的在垂直于所述衬底基板的方向上的厚度的3～5倍。
根据权利要求1-6任一所述的阵列基板，还包括：
第二无机保护层，位于所述第一有机保护层的靠近所述偏光片的一侧且与所述偏光片接触，其中，所述第一无机保护层的吸水率小于等于所述第二无机保护层的吸水率。
根据权利要求7所述的显示基板，其中，
所述第一无机保护层的材料为氮化硅，所述第二无机保护层的材料包括氧化硅、氮化硅或氮氧化硅中的至少之一。
根据权利要求1-8任一所述的阵列基板，其中，所述偏光片为反射型偏光片。
根据权利要求9所述的阵列基板，其中，所述反射型偏光片为金属线栅偏光片(Wire-gridpolarizer,WGP)。
一种显示装置，包括权利要求1-10任一所述的阵列基板。
根据权利要求11所述的显示装置，包括：
堆叠设置的显示液晶面板和光控面板，所述显示液晶面板包括显示液晶层，所述光控面板包括光控液晶层；
第一偏光片，位于所述显示液晶层与所述光控液晶层之间；
第二偏光片，其中，所述光控液晶层位于所述第一偏光片与所述第二偏光片之间；以及
第三偏光片，其中，所述第一偏光片位于所述第二偏光片与所述第三偏光片之间，所述显示液晶层位于所述第一偏光片与所述第三偏光片之间；所述第一偏光片、所述第二偏光片和所述第三偏光片配置为使背光依次经由所述第二偏光片、所述第一偏光片和所述第三偏光片出射；
所述阵列基板的...
【专利技术属性】
技术研发人员：李海旭，袁广才，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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