光谱仪设备和用于制造光谱仪设备的方法技术

本发明专利技术涉及一种光谱仪设备（1a），其具有：光学干涉滤光器（2），所述光学干涉滤光器被构造为：在入射光线（L）穿过所述光学干涉滤光器（2）时对所述入射光线的特定的波长范围进行滤波；探测装置（3），所述探测装置被构造为探测经滤波的光线（L）；和聚焦装置（4a），所述聚焦装置具有反射表面（5），其中所述聚焦装置（4a）被构造为：通过在所述表面（5）上的反射来使所述经滤波的光线（L）聚焦到所述探测装置（3）上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光谱仪设备和用于制造光谱仪设备的方法
本专利技术涉及一种光谱仪设备和一种用于制造光谱仪设备的方法。本专利技术尤其涉及一种设计成法布里-珀罗干涉仪的光谱仪设备。
技术介绍
光学光谱仪用于通过研究光谱来分析光线。从DE19681285T1公知一种用于红外显微光谱仪的附加仪器。尤其在该文献中公开了一种内部反射元件，该内部反射元件降低了通过物镜的光学设计来控制入射辐射的角度的必要性。DE102005055860B3公开了一种带有凹面镜的气体传感装置，该凹面镜由外壳的反射性内壁形成，而且保证了光输出增加。光线的光谱分量可以借助于干涉仪和探测装置来确定。在这种情况下使用的光学干涉滤光器具有取决于入射角的透射特性。所透射的中心波长尤其取决于光线的入射角。光线相对于垂直线而言的入射角越大，所透射的中心波长就偏移得越多。因而，为了通过光谱元件透射的光的良好的分辨率或半值宽度，需要限制探测器所检测的角度范围。对该角度范围的可能的限制可借助于孔径来实现，如从WO17057372A1中公知。替选地，可以使用透镜，这些透镜将光线以同一入射角投射到焦平面内的相同的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光谱仪设备（1a；1b；1c；1d），其具有：/n光学干涉滤光器（2），所述光学干涉滤光器被构造为：在入射光线（L）穿过所述光学干涉滤光器（2）时对所述入射光线的特定的波长范围进行滤波；/n探测装置（3），所述探测装置被构造为探测经滤波的光线（L）；和/n聚焦装置（4a；4c），所述聚焦装置具有反射表面（5），其中所述聚焦装置（4a；4c）被构造为：通过在所述表面（5）上的反射来使所述经滤波的光线（L）聚焦到所述探测装置（3）上。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181212 DE 102018221522.71.一种光谱仪设备（1a；1b；1c；1d），其具有：
光学干涉滤光器（2），所述光学干涉滤光器被构造为：在入射光线（L）穿过所述光学干涉滤光器（2）时对所述入射光线的特定的波长范围进行滤波；
探测装置（3），所述探测装置被构造为探测经滤波的光线（L）；和
聚焦装置（4a；4c），所述聚焦装置具有反射表面（5），其中所述聚焦装置（4a；4c）被构造为：通过在所述表面（5）上的反射来使所述经滤波的光线（L）聚焦到所述探测装置（3）上。


2.根据权利要求1所述的光谱仪设备（1a；1b；1c；1d），其中所述探测装置（3）在所述干涉滤光器（2）的光出射侧集成到所述干涉滤光器（2）中或者直接或间接布置在所述干涉滤光器（2）上。


3.根据权利要求1或2所述的光谱仪设备（1a；1b），其中所述探测装置（3）与延伸经过所述光学干涉滤光器（2）的中心的轴线（A）至少部分地重叠。


4.根据上述权利要求中任一项所述的光谱仪设备（1a；1b；1c；1d），所述光谱仪设备具有载体装置（6a；6b；6c；6d），其中所述光学干涉滤光器（2）、所述探测装置（3）和所述聚焦装置（4a；4c）直接或间接布置在所述载体装置（6a；6b；6c；6d）上。


5.根据权利要求4所述的光谱仪设备（1c；1d），其中所述探测装置（3）在所述光学干涉滤光器（2）的光出射侧与所述干涉滤光器（2）相邻地布置在所述载体装置（6c；6d）上。


6.根据权利要求4或5所述的光谱仪设备（1b），其中所述载体装置（6b）包括至少一个间隔元件（7），所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·诺特迈耶，M·胡思尼克，E·鲍姆加特，M·施米德，R·勒德尔，B·斯坦，C·谢林，C·D·克莱默，
申请(专利权)人：罗伯特·博世有限公司，
类型：发明
国别省市：德国;DE