确定具有人脸区域的影像的曝光设定的装置及方法制造方法及图纸

一种使用于影像形成装置内的曝光设定装置，该曝光设定装置用以确定将被提取的第一影像的曝光设定，该第一影像关于一呈现人脸区域的景象，该曝光设定装置包含：　　　　一储存模块，预存多个似人脸轮廓图案；　　　　一影像提取模块，用以提取该呈现人脸区域的景象，进而产生一第二影像；　　　　一曝光控制模块，基于该提取的第二影像产生一相应于该提取的第二影像的曝光测光矩阵；　　　　一第一处理模块，用以根据该提取的第二影像产生至少一个缩小采样的第二影像，并且分别从该提取的第二影像以及该至少一个缩小采样的第二影像中取出一第一信息；　　　　一第一分析模块，基于该多个似人脸轮廓图案，分别分析该提取的第二影像以及该至少一个缩小采样的第二影像的第一信息，进而判断出该提取的第二影像中可能指向该景象的人脸区域的第一区域；　　　　　一第二处理模块，从该提取的第二影像的第一区域取出至少一个第二信息；以及　　　　一第二分析模块，基于至少一个准则，分析该至少一个第二信息，进而从该提取的第二影像的第一区域中判断出第二区域，该第二区域大致上指向该景象的人脸区域，该第二分析模块并且根据该提取的第二影像的第二区域，确定该曝光测光矩阵中指向该景象的人脸区域的特定单元，　　　　其中，该曝光控制模块加重该特定单元的权值，进而调整该曝光测光矩阵，该曝光控制模块并且根据该调整的曝光测光矩阵，以确定该将被提取的第一影像的曝光设定，并且控制该影像提取模块依据该曝光设定提取该第一影像。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种确定影像的曝光设定的装置及方法，特别是关于呈现人脸区域的景象的影像的曝光设定的装置及方法。
技术介绍
数字影像提取装置在提取影像时，要使影像清晰可辨，就必须要有正确的曝光设定。数字影像提取装置的曝光设定依据测光模式(metering mode)的结果而定。矩阵测光(matrix metering)则是最常被使用的测光模式之一。矩阵测光是将数字影像提取装置所提取的影象划分成多个单元而形成一测光矩阵，然后分析测光矩阵中多个不同单元的光线强弱。数字影像提取装置依据分析结果，进行测光权值的分配，获得一测光权值矩阵。虽然数字影像提取装置通过测光模式可以使得所提取的景象获得正确曝光的影像。但是，如果要提取的景象中具有人脸的存在，仍然会因为场景明暗对比过大，或是人脸所在位置的测光权值分配较低，造成一张影像中经常为主体的人脸曝光不正确，而无法获得一张令人们主观上满意的影像照片。因此，有必要针对景象中人脸位置的曝光权值做一适当的调整，使人脸得到正确的曝光。
技术实现思路
本专利技术的主要目的是提供一种用于数字影像提取装置内的曝光设定的装置及方法，对于呈现人脸区域(human face area)的景象的影像，动态调整该数字影像提取装置的曝光设定，使人脸得到正确曝光以改善现有技术的缺点。根据本专利技术一种使用于一影像形成装置(Image forming apparatus)内的曝光设定装置，该曝光设定装置用以确定一将被提取的第一影像的曝光设定。该将被提取的第一影像关于一呈现人脸区域的景象(Scene)。该装置包含，储存模块、影像提取模块、曝光控制模块、第一处理模块、第一分析模块、第二处理模块以及第二分析模块。该储存模块预存多个似人脸轮廓图案(Human-face-contour-likepattern)。该影像提取模块用以提取该呈现人脸区域的景象，进而产生一第二影像。该曝光控制模块基于该提取的第二影像产生一相应于该提取的第二影像的曝光测光矩阵(Exposure metering matrix)。该第一处理模块用以根据该提取的第二影像产生至少一个缩小采样(Down-sampled)的第二影像，并且分别从该提取的第二影像以及该至少一个缩小采样的第二影像中取出一第一信息。该第一分析模块基于该多个似人脸轮廓图案，分别分析该提取的第二影像以及该至少一个缩小采样的第二影像的第一信息，进而判断出该提取的第二影像中可能指向该景象的人脸区域的第一区域。该第二处理模块从该提取的第二影像的第一区域取出至少一个第二信息。该第二分析模块基于至少一个准则，分析该至少一个第二信息，进而从该提取的第二影像的第一区域中判断出第二区域。该第二区域大致上指向该景象的人脸区域。该第二分析模块并且根据该提取的第二影像的第二区域，确定该曝光测光矩阵中指向该景象的人脸区域的特定单元。该曝光控制模块加重该特定单元的权值，进而调整该曝光测光矩阵，该曝光控制模块并且根据该调整的曝光测光矩阵，以确定该将被提取的第一影像的曝光设定，并且控制该影像提取模块依据该曝光设定提取该第一影像。因此本专利技术的曝光设定装置及方法，可使数字影像提取装置对于呈现人脸区域(human face area)的景象的影像，动态调整该数字影像提取装置的曝光设定，使景象中人脸位置得到正确的曝光。关于本专利技术的优点与精神可以通过以下的专利技术详述及所附附图得到进一步的了解。附图说明图1为本专利技术使用于一影像形成装置的曝光设定装置的功能方块图。图2为图1中储存模块预存的多个似人脸轮廓图案的示意图。图3为图1中第一处理模块所产生的两个缩小采样的第二影像的示意图。图4为图3中第二影像的第二区域示意图。图5为本专利技术确定景象中关于呈现人脸区域的影像的曝光设定方法的流程图。具体实施例方式首先对本专利技术中的图示标号进行说明，其中，10曝光设定装置；11景象；12储存模块；13第一影像；14影像提取模块；16曝光控制模块；18第一处理模块；20第一分析模块；22第二处理模块；24第二分析模块；26、26a、26b、26c、26d似人脸轮廓图案；28第二影像；30曝光测光矩阵；32、32a、32b缩小采样的第二影像；34、34a、34b、34c第一信息；36、36a、36b、36c、36d第一区域；38第二信息；40、40a、40b第二区域；42调整的曝光测光矩阵；44控制信号。请参阅图1及图2，图1为本专利技术使用于一影像形成装置的曝光设定装置10的功能方块图。图2为图1中储存模块12预存的多个似人脸轮廓图案26的示意图。本专利技术的曝光设定装置10用以确定一将被提取的第一影像13的曝光设定，该将被提取的第一影像13关于一呈现人脸区域的景象11(Scene)。曝光设定装置10包含一储存模块12、一影像提取模块14、一曝光控制模块16、一第一处理模块18、一第一分析模块20、一第二处理模块22以及一第二分析模块24。储存模块12预存多个似人脸轮廓图案26，其中似人脸轮廓图案26的储存格式为二进制的二维矩阵，「1」代表人脸轮廓(即图二中所示的黑线部分)，「0」则代表非人脸轮廓。并且将似人脸轮廓图案26输入第一分析模块20。在图2所示的实例中，则预存四个似人脸轮廓图案26a、26b、26c、26d。影像提取模块14用以提取该呈现人脸区域的景象11，进而产生一第二影像28。曝光控制模块16基于提取的第二影像28产生一相应于提取的第二影像28的曝光测光矩阵30(Exposure metering matrix)。第一处理模块18用以根据提取的第二影像28产生至少一个缩小采样的第二影像32，并且分别从提取的第二影像28以及至少一个缩小采样的第二影像32中取出一第一信息34。第一分析模块20基于多个似人脸轮廓图案26a、26b、26c、26d，分别分析提取的第二影像28以及至少一个缩小采样的第二影像32的第一信息34，进而判断出提取的第二影像28中可能指向景象11中人脸区域的第一区域36。第二处理模块22从提取的第二影像28的第一区域36取出至少一个第二信息38。第二分析模块24基于至少一个准则，分析至少一个第二信息38，进而从提取的第二影像28的第一区域36中判断出第二区域40，第二区域40大致上指向景象11中人脸区域，第二分析模块24并且根据提取的第二影像28的第二区域40，确定曝光测光矩阵30中指向景象11中人脸区域的特定单元。曝光控制模块16加重该特定单元的权值，进而调整曝光测光矩阵30。曝光控制模块16并且根据调整的曝光测光矩阵42，以确定将被提取的第一影像13的曝光设定。并且曝光控制模块16输出一控制信号44以控制影像提取模块14依据此曝光设定提取该第一影像13。请参阅图3，图3为图1中第一处理模块18所产生的两个缩小采样的第二影像32a、32b的示意图。在图3所示的实例中，第二影像28经第一处理模块18运算后，产生两个缩小采样的第二影像32a、32b。请参阅图3，第一处理模块18从第二影像28以及两个缩小采样的第二影像32a、32b取出Y(亮度)数据，并且经过高频滤波器(High-pass Filter)提取影像轮廓数据并二元化处理后，会产生如图3所示的「0」与「1」分布的第一信息34a、34b、34c，「1」代表影像中本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴木杏，蔡朝链，蔡宏奇，
申请(专利权)人：明基电通股份有限公司，
类型：发明
国别省市：