微纳结构制作方法及微纳结构制作装置制造方法及图纸

本发明专利技术属于微纳结构制作技术领域，尤其涉及一种微纳结构制作方法及微纳结构制作装置，其中，微纳结构制作方法包括：在透光坯料的一侧表面粘附有一层液态并为透光材料且不会在重力作用下流离透光坯料的功能扩展料；将印章结构压印功能扩展料，并使功能扩展料呈现出的形状为微纳结构；使功能扩展料固化，并附着于透光坯料，其中，透光坯料与功能扩展料共同构成透光件；使印章结构与功能扩展料分离。本发明专利技术提高了在透光件的表面制出微纳结构的制作效率。

【技术实现步骤摘要】
微纳结构制作方法及微纳结构制作装置
本专利技术属于微纳结构制作
，尤其涉及一种微纳结构制作方法及微纳结构制作装置。
技术介绍
在透光件的表面制出微纳结构，常能改变、增强或扩展透光件的功能特性，如，窗口件用于隔绝外部的物理环境，仅容许光线通过，其中，在透光件的表面制出亚波长结构，有利于提高窗口件的增透性。现有技术中，由于微纳结构尺寸较小，常采用光刻、电子束直写或离子刻蚀的方式在透光件的表面制出微纳结构，在透光件的表面制出微纳结构的过程较为费时，也即是在透光件的表面制出微纳结构存在效率低的问题。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述现有技术的不足，提供了一种微纳结构制作装置，其旨在解决在透光件的表面制出微纳结构存在效率低的问题。本专利技术是这样实现的：一种微纳结构制作方法，包括：在透光坯料的一侧表面粘附有一层液态并为透光材料且不会在重力作用下流离所述透光坯料的功能扩展料；将印章结构压印所述功能扩展料，并使所述功能扩展料呈现出的形状为微纳结构；使所述功能扩展料固化，并附着本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种微纳结构制作方法，其特征在于，包括：/n在透光坯料的一侧表面粘附有一层液态并为透光材料且不会在重力作用下流离所述透光坯料的功能扩展料；/n将印章结构压印所述功能扩展料，并使所述功能扩展料呈现出的形状为微纳结构；/n使所述功能扩展料固化，并附着于所述透光坯料，其中，所述透光坯料与呈微纳结构状的所述功能扩展料共同构成透光件；/n使所述印章结构与所述功能扩展料分离。/n

【技术特征摘要】
1.一种微纳结构制作方法，其特征在于，包括：
在透光坯料的一侧表面粘附有一层液态并为透光材料且不会在重力作用下流离所述透光坯料的功能扩展料；
将印章结构压印所述功能扩展料，并使所述功能扩展料呈现出的形状为微纳结构；
使所述功能扩展料固化，并附着于所述透光坯料，其中，所述透光坯料与呈微纳结构状的所述功能扩展料共同构成透光件；
使所述印章结构与所述功能扩展料分离。


2.如权利要求1所述的微纳结构制作方法，其特征在于，所述功能扩展料为紫外固化材料；
通过紫外线使所述功能扩展料固化。


3.如权利要求1所述的微纳结构制作方法，其特征在于，在所述功能扩展料固化之前，使所述印章结构压印所述功能扩展料的作用力维持恒定。


4.如权利要求1所述的微纳结构制作方法，其特征在于，所述透光件为窗口件；
所述微纳结构为亚波长结构。


5.一种微纳结构制作装置，其特征在于，包括印章结构，所述印章结构能够在压印于一液态且在自身重力作用下不会流离所...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈佛奎，林慧，马翠，赖厚湖，余明，朱挥，
申请(专利权)人：深圳先进技术研究院，
类型：发明
国别省市：广东;44