基底、光学元件和电子设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种基底、光学元件和电子设备。基底包括：中心层，中心层的材料为PET；第一胶层，第一胶层与中心层的一侧表面连接；第二胶层，第二胶层与中心层远离第一胶层的一侧表面连接。本实用新型专利技术解决了现有技术中基底存在容易翘曲的问题。

【技术实现步骤摘要】
基底、光学元件和电子设备
本技术涉及光学成像设备
，具体而言，涉及一种基底、光学元件和电子设备。
技术介绍
电子设备的小型化逐渐成为发展趋势，屏下指纹、DOE(衍射光学元件)、DIFFUSER(匀光片)等光学模组为尽可能轻薄，基底往往采用超薄玻璃或柔性玻璃，但该类玻璃厚度大多在0.1mm左右；若采用更加轻薄的PET(厚度可达0.01um)作为基底，由于PET材质过软会导致翘曲等问题的发生。也就是说，现有技术中基底存在容易翘曲的问题。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种基底、光学元件和电子设备，以解决现有技术中基底存在容易翘曲的问题。为了实现上述目的，根据本技术的一个方面，提供了一种基底，包括：中心层，中心层的材料为PET；第一胶层，第一胶层与中心层的一侧表面连接；第二胶层，第二胶层与中心层远离第一胶层的一侧表面连接。进一步地，中心层的厚度大于等于0.1um且小于等于50um。进一步地，第一胶层的厚度大于等于1um且小于等于10um。进一步地，第二胶层的厚度大于等于1um且小于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基底，其特征在于，包括：/n中心层(10)，所述中心层(10)的材料为PET；/n第一胶层(20)，所述第一胶层(20)与所述中心层(10)的一侧表面连接；/n第二胶层(30)，所述第二胶层(30)与所述中心层(10)远离所述第一胶层(20)的一侧表面连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种基底，其特征在于，包括：
中心层(10)，所述中心层(10)的材料为PET；
第一胶层(20)，所述第一胶层(20)与所述中心层(10)的一侧表面连接；
第二胶层(30)，所述第二胶层(30)与所述中心层(10)远离所述第一胶层(20)的一侧表面连接。


2.根据权利要求1所述的基底，其特征在于，所述中心层(10)的厚度大于等于0.1um且小于等于50um。


3.根据权利要求1所述的基底，其特征在于，所述第一胶层(20)的厚度大于等于1um且小于等于10um。


4.根据权利要求1所述的基底，其特征在于，所述第二胶层(30)的厚度大于等于1um且小于等于10um。


5.根据权利要求1所述的基底，其特征在于，所述基底还包括光学薄膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘滨，孙理斌，汪杰，陈远，
申请(专利权)人：宁波舜宇奥来技术有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33