当前位置: 首页 > 专利查询>辉达公司专利>正文

使用常驻小中见大贴图(MIPMAP)数据外推非常驻小中见大贴图数据制造技术

技术编号:2944256 阅读:170 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种多线程图形处理器经配置以用于外推存储在物理存储器中的低分辨率小中见大贴图,以在从高等待时间存储资源检索高分辨率非常驻小中见大贴图且将其转换成常驻小中见大贴图时产生外推纹理值。所述外推纹理值提供与使用低分辨率小中见大贴图层级纹理数据代替暂时不可用的高分辨率小中见大贴图层级纹理数据相比看上去更锐化的改善图像。使用外推阈值LOD来判定何时使用外推放大或缩小纹理过滤。所述外推阈值LOD可用于在非常驻小中见大贴图转换成常驻小中见大贴图时从使用外推过滤平滑地过渡到使用内插过滤。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术一般来说涉及纹理映射,且更具体来说涉及使用外推来计算不可用的小中见 大贴图的纹理贴图值。
技术介绍
随着虚拟存储器的使用己变得更普遍,在图形处理期间可存取的纹理贴图数目不再 受常规存储纹理贴图的物理存储器容量(本地或系统)所限制。纹理数据可存储在其他存储资源上,例如,磁盘驱动器、CD驱动器、或者甚至具有比物理存储器高的存取等 待时间的远程服务器。在处理期间需要纹理数据时,检索纹理数据。然而,不像从物理 存储器检索纹理数据,在从其他存储资源检索纹理数据期间,图像质量受到损害。将纹理的高分辨率小中见大贴图存储在其他存储资源上特别有利,因为这些小中见 大贴图较大。纹理的较低分辨率小中见大贴图可存储在物理存储器中且用于在从其他存 储资源检索高分辨率小中见大贴图时产生图像。结果为在高分辨率小中见大贴图在物理 存储器中变为可用时纹理贴图数据看似模糊且因此锐化。因此,此项技术中需要用于改善在从高等待时间存储资源检索高分辨率小中见大贴 图时使用的低分辨率纹理贴图数据的呈现的系统和方法。另外,需要从使用外推过滤平 滑地过渡到使用内插过滤,从而只要从高等待时间存储资源检索高分辨率小中见大贴图 就产生经过滤的纹素值。
技术实现思路
多线程图形处理器经配置以外推存储在物理存储器中的低分辨率小中见大贴图,以 在从高等待时间存储资源检索高分辨率小中见大贴图以将高分辨率小中见大贴图从非 常驻小中见大贴图转换成常驻小中见大贴图时产生外推纹理值。外推纹理值提供与使用 低分辨率小中见大贴图层级纹理数据代替高分辨率小中见大贴图层级纹理数据相比看上去更锐化的改善图像。经过滤的纹理值是使用小中见大贴图过滤器来产生的,所述小 中见大贴图过滤器外推两个常驻细节级别小中见大贴图以近似在非常驻细节级别小中 见大贴图为常驻时将由过滤产生的增加的对比度和细节。使用外推阈值LOD来判定何时使用外推放大或缩小纹理过滤。—外推阈值LOD可用 于在非常驻小中见大贴图转换成常驻小中见大贴图时从使用外推过滤平滑地过渡到使 用内插过滤。将增量LOD(细节级别)计算为理想小中见大贴图的LOD与外推阈值LOD (大于或等于最高分辨率常驻小中见大贴图的LOD的值)之间的差异。与存储在高存取 等待时间存储资源中的非常驻小中见大贴图相反,常驻小中见大贴图存储在(低存取等 待时间)物理存储器中。增量LOD用于判定用于产生用于代替高分辨率小中见大贴图 纹理数据的外推纹理值的外推权重值。用于将纹理贴图的非常驻小中见大贴图层级转换成纹理贴图的常驻小中见大贴图 层级的本专利技术方法的各种实施例包括接收将非常驻小中见大贴图层级转换成常驻小中 见大贴图层级以用于渲染供显示所用的图像的请求、起始非常驻小中见大贴图层级从非 常驻存储器存储装置到常驻存储器存储装置的复制,以及在非常驻小中见大贴图层级的 复制完成时更新用于产生图像的经过滤纹素值的外推阈值细节级别(LOD)值。附图说明因此,通过详细地理解本专利技术的上述特征的方式,上文简要概括的本专利技术的更详细 描述可通过参考实施例而获得,所述实施例中的一些说明于附图中。然而,请注意,附 图仅说明本专利技术的典型实施例且因此不视为对其范围的限制,因为本专利技术可准许其他等 效实施例。图1说明根据本专利技术的一个或一个以上方面的变化细节级别(LOD)的纹理的小中 见大贴图的概念图2A为根据本专利技术的一个或一个以上方面的用于产生非常驻小中见大贴图层级的外推纹理值的方法步骤的流程图2B为根据本专利技术的一个或一个以上方面的用于判定对应于理想LOD的小中见大贴图是否为常驻的图2A的方法步骤210的流程图2C为根据本专利技术的一个或一个以上方面的用于判定纹理贴图值是否应从常驻小中见大贴图层级外推的方法步骤的流程图3为说明经配置以实施本专利技术的一个或一个以上方面的计算机系统的框图4为根据本专利技术的一个或一个以上方面的图3的计算机系统的并行处理子系统的框图5为根据本专利技术的一个或一个以上方面的图4的并行处理子系统的并行处理单元 的框图6A为根据本专利技术的一个或一个以上方面的图形处理管线的概念图6B为根据本专利技术的一个或一个以上方面的图6A的纹理单元的框图;以及图7为根据本专利技术的一个或一个以上方面的用于将非常驻小中见大贴图层级转换成常驻小中见大贴图层级的方法歩骤的流程图。具体实施例方式在以下描述中,陈述许多具体细节以提供对本专利技术的更详尽理解。然而,所属领域 技术人员应显而易见可在无这些具体细节中的一者或一者以上的情况下实践本专利技术。在 其他情况下,不描述众所周知的特征以便避免使本专利技术不清楚。图1说明根据本专利技术的一个或一个以上方面的变化LOD的纹理图像的小中见大贴 图的概念图。每一小中见大贴图为特定分辨率或细节级别(LOD)的纹理图像的预过滤 型式,LOD0小中见大贴图110具有最高分辨率,且LODN小中见大贴图190具有最低 分辨率,也就是,随着LOD指数增加,相应小中见大级别的分辨率减小。当使用虚拟 存储器映射来表示比物理存储器中可用的地址空间大的地址空间时,并非所有可寻址纹 理数据均常驻于物理存储器中。如图1所示,LOD0小中见大贴图110、 L0D1小中见大 贴图120和LOD2小中见大贴图130不存储于物理存储器中,且因此为非常驻小中见大 贴图100。常驻小中见大贴图140 (包括LOD3小中见大贴图150、 LOD4小中见大贴图 160和LODN小中见大贴图190)存储于物理存储器中,因此可在低等待时间下存取存 储于这些小中见大贴图中的纹理数据。当软件应用程序请求在所有所需小中见大贴图皆常驻于存储器中的细节级别下的 纹理过滤时,纹理单元从所需小中见大贴图拾取纹素且应用过滤器,所述过滤器产生内 插于从常驻小中见大贴图层级拾取的纹素之间(如现有技术所常见的)的值。当软件应 用程序试图存取在物理存储器外成页的小中见大贴图层级(也就是,非常驻小中见大贴 图)时,本专利技术的实施例从两个最近常驻小中见大贴图拾取纹素且应用产生由从常驻小中见大贴图层级拾取的纹素外推的值的过滤器。计算外推纹理值且使用其来产生图像, 直到将非常驻小中见大贴图在物理存储器中成页而变成常驻小中见大贴图为止。例如,用于纹理映射的所计算出LOD为LOD2,且LOD2小中见大贴图130为非常驻的,如结合图2A所描述,使用常驻小中见大贴图(LOD3小中见大贴图150及LOD4小中见大贴图160)来计算外推纹理值。使用外推縮小过滤器来计算非常驻LOD(例如,LOD2)的外推纹理值。当纹素与像素的比率小于一时,使用縮小过滤器。 一旦LOD2转换成常驻LOD小中见大贴图,就可调整过滤器权重以在许多帧上逐步引入LOD2纹素以产生平滑可视过渡,而非在单个帧中从外推过滤器切换到常规内插过滤器。当所计 算出的LOD小于LODO (也就是,分辨率比LODO高)时,使用外推放大过滤器来计算 外推纹理值。当纹素与像素的比率大于一时,使用放大过滤器。在常规系统中,使用所属领域技术人员众所周知的的技术"反锐化掩蔽"或"锐化 纹理"来在所计算出的LOD小于零(也就是,所要纹理分辨率高于LODO)时通过在 LODO与LOD1之间进行外推来从LODO减去低频率分量的影响从而增强纹理外观的锐 度。本专利技术也使用外推(放大外推)来产生小于零的所计算出的LOD的纹素值本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于将纹理贴图的非常驻小中见大贴图层级转换成所述纹理贴图的常驻小中见大贴图层级的方法,其包含: 接收将所述非常驻小中见大贴图层级转换成常驻小中见大贴图层级以用于渲染供显示所用的图像的请求; 起始所述非常驻小中见大贴图层级从非常驻存储器存储装置到常驻存储器存储装置的复制;以及 在所述非常驻小中见大贴图层级的所述复制完成时更新用于产生所述图像的经过滤纹素值的外推阈值细节级别(LOD)值。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:威廉P小纽霍尔
申请(专利权)人:辉达公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1
相关领域技术
  • 暂无相关专利