【技术实现步骤摘要】
清洗剂用防滴漏灌装设备
本技术涉及一种灌装设备,尤其涉及一种清洗剂用防滴漏灌装设备。
技术介绍
液体灌装机原理通常分为常压灌装机、真空灌装机和压力灌装机,常压下,可根据液体的自身重量实行自流式灌装。其灌装是在高于大气压力下进行灌装,贮液缸内的压力高于瓶中的压力,靠压差流入瓶内。由于灌装物料的流体形态,导致现有的灌装设备在灌装完毕后,灌装头难免会有多余的物料滴漏,容易造成浪费,且现有的灌装设备高度限定,当针对不同高度的接料罐时常常由于无法调节高度而导致灌装出料时落料的准确性,从而产生不必要的物料浪费。
技术实现思路
鉴于现有技术存在上述缺陷,本技术的目的在于提供一种清洗剂用防滴漏灌装设备。本技术的目的,将通过以下技术方案得以实现:清洗剂用防滴漏灌装设备,包括灌装平台,垂直设置于灌装平台一侧的支架,所述支架上设置有灌装组件,所述灌装组件包括灌装主体及设置于所述灌装主体下的灌装头,所述灌装主体上方设置有驱动所述灌装主体进行上下移动的气缸,所述气缸通过连接件与所述支架连接。优选地,所述气缸的气缸轴与所述灌装主体连接。优选地,所述支架上还设置有防滴漏组件,所述防滴漏组件包括接料框、连接于所述接料框内的接料盒,所述接料框上端与所述支架通过第二连接组件连接,所述接料框通过第二连接件组件进行翻转运动。优选地,所述防滴漏组件设置于所述灌装头下方,所述气缸带动所述灌装头运动驱动所述防滴漏组件进行翻转。优选地,所述第二连接组件包括与所述支架连接的连接杆,所述接料框枢轴设置于所 ...
【技术保护点】
1.清洗剂用防滴漏灌装设备,其特征在于:包括灌装平台,垂直设置于灌装平台一侧的支架,所述支架上设置有灌装组件,所述灌装组件包括灌装主体及设置于所述灌装主体下的灌装头,所述灌装主体上方设置有驱动所述灌装主体进行上下移动的气缸,所述气缸通过连接件与所述支架连接。/n
【技术特征摘要】
1.清洗剂用防滴漏灌装设备,其特征在于:包括灌装平台,垂直设置于灌装平台一侧的支架,所述支架上设置有灌装组件,所述灌装组件包括灌装主体及设置于所述灌装主体下的灌装头,所述灌装主体上方设置有驱动所述灌装主体进行上下移动的气缸,所述气缸通过连接件与所述支架连接。
2.如权利要求1所述的清洗剂用防滴漏灌装设备,其特征在于:所述气缸的气缸轴与所述灌装主体连接。
3.如权利要求1所述的清洗剂用防滴漏灌装设备,其特征在于:所述支架上还设置有防滴漏组件,所述防滴漏组件包括接料框、连接于所述接料框内的接料盒,所述接料框上端与所述支架通过第二连接组件连接,所述接料框通过第二连接件组件进行翻转运动。
4.如权利要求3所述的清洗剂用防滴漏灌装设备,其特征在于:所述防滴漏组件设置于所述灌装头下方,所述气缸带动所述灌装头运动驱动所述防滴漏组件进行翻转...
【专利技术属性】
技术研发人员:钱文华,陈成勋,
申请(专利权)人:苏州柏越纳米科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。