离子源清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种离子源清洁装置，包括安装单元，具有一上安装面和一下安装面；弹性清洁单元，设置在安装单元的上安装面上；以及连接单元，使下安装面紧贴在质谱仪的靶板安装槽内；其中，当离子源清洁装置移动至质谱仪的离子源下方时，弹性清洁单元的上表面抵在离子源的下表面并擦拭堆积在离子源上的残留离子。本实用新型专利技术的离子源清洁装置可卡装在靶板安装结构的靶板安装槽内，利用质谱仪的真空腔室内的既有结构（即XY移动平台）实现离子源清洁装置的水平往返移动，在水平往返移动时弹性清洁单元可反复擦拭离子源下部的电极，实现电极的清洁，整个清洁过程在可在真空腔室的原有的负压环境中进行，无需将真空腔室恢复至常压，缩短了清洁时间。

【技术实现步骤摘要】
离子源清洁装置
本技术涉及质谱仪离子源清洁技术，尤其是涉及一种离子源清洁装置。
技术介绍
基质辅助激光解析离子源飞行时间质谱仪（MALDI-TOFMS）是一种常用的软电离质谱仪。质谱仪的离子源通常安装在真空腔室内，真空腔室具有一舱门，通过舱门处理后的靶板卡装在真空腔室内靶板定位结构的靶板安装槽内，然后利用真空腔室内的XY移动平台带动靶板水平往返移动至离子源下方，离子源电极产生的电场使待测物产生的离子碎片加速飞入质量分析器。在质谱仪运行中，生物分子电离后的少数离子容易残留在离子源上；在质谱仪长期运行中，这些残留离子堆积在离子源电极表面形成一层绝缘层，这些堆积的离子往往靠近离子源通往质量分析器的孔洞附近，由于这些离子的不均匀堆积将会影响电极产生的电场，使电场扭曲，影响离子的正常分离，从而影响质谱仪的灵敏度和分辨率。故，为保证打样精度，需要对质谱仪的离子源进行定期清洁。现有的离子源清洁方式是先将真空腔室的负压卸掉，然后再将离子源取出进行清洁工作。该清洁方式虽然能够实现离子源的清洁，但是却存在较多的问题：首先，由于质谱仪属于高精密仪器，该清洁方式对工作人员的专业技术水平要求极高，需要专业售后技术人员到现场拆除清洁，等待时间较长，影响样品的鉴定效率；且离子源重新安装后需要对仪器进行调试以确保清洁后的离子源电极能够正常工作，调试工作量大；其次，飞行时间质谱仪对真空度要求极高，其整个真空腔室需要持续抽真空5h以上才能达到工作真空度（约为10-5mbar），使得整个清洁过程耗时较长，且清洁完成后需要对质谱仪重新抽真空，停机时间较长，严重影响检测效率。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种离子源清洁装置，无需将质谱仪的离子源取出即可实现离子源的清洁，提高了清洁效率，还降低了对清洁人员的要求。为实现上述目的，本技术采取下述技术方案：本技术所述的离子源清洁装置，包括安装单元，具有一上安装面和一下安装面；弹性清洁单元，设置在所述安装单元的所述上安装面上；以及连接单元，使所述下安装面紧贴在质谱仪的靶板安装槽内；其中，当所述离子源清洁装置移动至质谱仪的离子源下方时，所述弹性清洁单元的上表面抵在所述离子源的下表面并擦拭堆积在离子源上的残留离子。在本技术的一个优选实施方式中，所述下安装面的中部具有一凹槽，所述连接单元为嵌设在所述凹槽内的磁铁块。在本技术的一个优选实施方式中，所述安装单元上安装面上具有一凸起部，与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元擦拭所述质谱仪的离子源下表面。在本技术的其中一个优选实施方式中，与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元上表面具有呈条状结构的凸条，所述凸条的长度与清洁擦拭方向垂直。在本技术的另一个优选实施方式中，与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元上表面具有呈网状结构的凸楞，以便于擦拭离子源。在本技术的一个优选实施方式中，本技术所述的离子源清洁装置，还包括罩设在所述安装单元上的保护单元。在本技术的一个优选实施方式中，所述保护单元包括罩设在所述安装单元上的保护罩，且所述保护罩具有一与所述凸起部上下对应的通槽，使与凸起部对应处的所述弹性清洁单元向上穿出所述通槽。在本技术的一个优选实施方式中，所述安装单元的所述下安装面的每个长边的边缘处均开设有限位槽，所述靶板安装槽的一长边边缘处设置有与所述限位槽匹配的定位凸起。在本技术的一个优选实施方式中，所述安装单元为由不锈钢材质制成的安装板，所述弹性清洁单元为由聚氨酯材质制成的弹性擦拭板。本技术的离子源清洁装置可卡装在靶板安装结构的靶板安装槽内，利用质谱仪的真空腔室内的既有结构（即XY移动平台）实现离子源清洁装置的水平往返移动，在水平往返移动时弹性清洁单元可反复擦拭离子源下部的电极，实现电极的清洁，整个清洁过程在可在真空腔室的原有的负压环境中进行，无需将真空腔室恢复至常压，缩短了清洁时间。同时本技术的安装单元和弹性清洁单元安装在一起，在清洁时直接将安装单元安装在靶板安装槽内即可，该操作过程与靶板样品的取放操作相同，普通检测人员即可完成安装单元的安装，进一步实现离子源电极的清洁作业，降低了对清洁人员的要求，缩短了清洁等待时间。附图说明图1是现有靶板定位结构的示意图。图2是本技术实施方式一的结构示意图。图3是图2的A-A向剖视图。图4是图2中安装板的仰视图。图5是图2中安装板的轴测图。图6是本技术实施方式二的结构示意图。图7是图6的B-B向剖视图。具体实施方式本技术中所涉及的靶板定位结构安装在质谱仪真空腔室内的XY移动平台上，靶板定位结构包括一具有靶板安装槽1的底座2，在检测时开启真空腔室的舱门将待检测的靶板放在靶板安装槽1内，靶板定位结构的结构如图1所示。下面结合附图对本专利技术的实施例作详细说明，本实施例在以本专利技术技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本专利技术的保护范围不限于下述实施例。实施方式一如图2所示，本实施方式所述的离子源清洁装置，包括安装单元，具有一上安装面和一下安装面；弹性清洁单元，设置在安装单元的上安装面上；以及连接单元，使下安装面紧贴在质谱仪的靶板安装槽1内；其中，当离子源清洁装置随靶板安装结构同步移动到质谱仪的离子源下方时，弹性清洁单元的擦拭部位的高度略高于离子源的下表面，使得弹性清洁单元在预定的压力抵在离子源的下表面，利用弹性清洁单元和离子源的挤压力擦拭离子源下表面堆积的残留离子，以实现离子源下表面的清洁。如图4所示，安装单元为由不锈钢制成的安装板101，安装板101的下安装面中部具有一凹槽，连接单元为嵌设在凹槽内的磁铁块102，磁铁块102与靶板安装槽1底壁上的磁铁吸附在一起，实现安装板101与靶板安装槽1的固定连接。如图4所示，为进一步提高安装板101与靶板安装槽1的连接稳定性，安装板101的下安装面的每个长边边缘中部位置均开设有定位槽103，与靶板安装槽1底壁上的定位凸起3相配合，实现安装板101与靶板安装槽1的定位安装；同时由于安装板101的每个长边均有一个定位槽103，均能够与定位凸起相匹配，实现安装板101的快速安装。如图2-3所示，安装板101的上安装面粘接有弹性清洁单元，弹性清洁单元为粘接在安装板101上安装面上的弹性清洁件，弹性清洁件为由聚氨酯材质加工而成的弹性擦拭板104（还可以是弹性清洁片或弹性清洁块），采用聚氨酯制成的弹性擦拭板104不掉毛也不掉屑，能够保证真空腔室的洁净度。如图2-3和图5所示，安装板101的上安装面具有一沿其长度方向延伸的凸起部（即凸台105），凸台105的方向与靶板安装槽1的移动方向垂直；与凸台105对应处的弹性擦拭板104的高度高于离子源下表面的高度，在往返移动过程中，与凸台105对应处的弹性擦拭板104本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种离子源清洁装置，其特征在于：包括/n安装单元，具有一上安装面和一下安装面；/n弹性清洁单元，设置在所述安装单元的所述上安装面上；以及/n连接单元，使所述下安装面贴设在质谱仪靶板定位结构的靶板安装槽内；/n其中，当所述离子源清洁装置移动至质谱仪的离子源下方时，所述弹性清洁单元的上表面抵在所述离子源的下表面并擦拭堆积在离子源上的残留离子。/n

【技术特征摘要】
1.一种离子源清洁装置，其特征在于：包括
安装单元，具有一上安装面和一下安装面；
弹性清洁单元，设置在所述安装单元的所述上安装面上；以及
连接单元，使所述下安装面贴设在质谱仪靶板定位结构的靶板安装槽内；
其中，当所述离子源清洁装置移动至质谱仪的离子源下方时，所述弹性清洁单元的上表面抵在所述离子源的下表面并擦拭堆积在离子源上的残留离子。


2.根据权利要求1所述的离子源清洁装置，其特征在于：所述下安装面的中部具有一凹槽，所述连接单元为嵌设在所述凹槽内的磁铁块。


3.根据权利要求1所述的离子源清洁装置，其特征在于：所述安装单元上安装面上具有一凸起部，与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元擦拭所述质谱仪的离子源的下表面。


4.根据权利要求3所述的离子源清洁装置，其特征在于：与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元上表面具有呈条状结构的凸条，所述凸条的长度与清洁擦拭方向...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩乐乐，吴云昭，尚元贺，张亚芳，李向广，蔡克亚，张瑞峰，
申请(专利权)人：安图实验仪器郑州有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41