感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法技术

本发明专利技术提供一种即使在长期保存情况下也能得到LWR性能优异的图案的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感辐射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感辐射线性树脂组合物包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂。M

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法
本专利技术涉及一种感光化射线性或感辐射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。
技术介绍
为了弥补由于在KrF准分子激光(248nm)用抗蚀剂之后因光吸收引起的灵敏度的降低，使用了利用化学放大的图案形成方法。例如，在正型化学放大法中，首先，曝光部中所含的光产酸剂通过光照射分解而产生酸。然后，在曝光后的烘烤(PEB：PostExposureBake)过程等中，通过所产生的酸的催化作用，将感光化射线性或感辐射线性树脂组合物中所含的树脂所具有的碱不溶性的基团变为碱溶性的基团等，从而使对显影液的溶解性变化。之后，例如使用碱性水溶液进行显影。由此，去除曝光部而得到期望的图案。在这种现状下，为了半导体元件的微细化，提出了各种构成作为感光化射线性或感辐射线性树脂组合物。例如，在专利文献1中，作为组合物中使用的成分，公开了含有由下述式(I)表示的盐的产酸剂。[化学式1]以往技术文献专利文献专利文献1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光化射线性或感辐射线性树脂组合物，其包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂，/nM

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190128 JP 2019-012485;20191226 JP 2019-2373071.一种感光化射线性或感辐射线性树脂组合物，其包含由通式(I)表示的化合物和酸分解性树脂，
M1+A--L-B-M2+(I)
通式(I)中，M1+及M2+分别独立地表示有机阳离子，
L表示2价的有机基团，
A-表示酸性阴离子基团，
其中，在由通式(I)表示的化合物的M1+及M2+分别被氢原子取代的由HA-L-BH表示的化合物中，由HA表示的基团的pKa低于由BH表示的基团的pKa，
B-表示由通式(B-1)～(B-4)中任一个表示的基团，



所述通式(B-1)～(B-4)中，*表示键合位置，
RB表示有机基团。


2.根据权利要求1所述的感光化射线性或感辐射线性树脂组合物，其中，
B-表示由所述通式(B-1)～(B-3)中任一个表示的基团。


3.根据权利要求1或2所述的感光化射线性或...

【专利技术属性】
技术研发人员：小岛雅史，上村稔，金子明弘，后藤研由，山本庆，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP