层叠体制造技术

根据本发明专利技术，提供一种层叠体，其特征在于，依次包括基材、转印层及粘接层，转印层和粘接层相邻，转印层的面积比粘接层的面积大，并且在转印层的膜厚上有面内分布，在粘接层的端部与转印层接触的位置(P1)上的转印层的膜厚(t1)比其内侧位置(P2)上的转印层的膜厚(t2)薄。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】层叠体
本专利技术涉及一种包括转印层和粘接层的层叠体。更详细而言，本专利技术涉及一种例如作为能够适用于液晶显示装置等的光学膜而有用的包括转印层和粘接层的层叠体。
技术介绍
近年来，液晶显示装置等显示装置正在快速推进薄型化或大型化，以确保设计性、抑制伴随环境变化的显示装置的光斑故障为目的，正在推进以光学膜为首的部件的薄型化。例如，在作为液晶显示装置的必要部件的偏振片中，在偏振片因环境湿度的变化而伸缩的情况下，贴合有偏振片的液晶面板翘曲，认为通过面板与背光部件接触而产生光斑。为了解决该问题，提出有使用低透湿性光学膜的方式(专利文献1)、抑制因光学膜的尺寸变化而产生的力的方式(专利文献2或专利文献3)等。并且，提出有使用转印性光学膜进行薄膜化并抑制面板翘曲的方式(专利文献4)等。另一方面，以提高转印层的品质为目的，提出有将非转印区域多层化的方法(专利文献5)、在使转印材料预先折弯之后剥离基材的转印方法(专利文献6)等。以往技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015-007768号公报专本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种层叠体，其特征在于，/n依次包括基材、转印层及粘接层，所述转印层与所述粘接层相邻，所述转印层的面积比所述粘接层的面积大，并且在所述转印层的膜厚上有面内分布，在所述粘接层的端部与所述转印层接触的位置P1处的所述转印层的膜厚t1比该位置P1内侧的位置P2处的所述转印层的膜厚t2薄。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181226 JP 2018-2432771.一种层叠体，其特征在于，
依次包括基材、转印层及粘接层，所述转印层与所述粘接层相邻，所述转印层的面积比所述粘接层的面积大，并且在所述转印层的膜厚上有面内分布，在所述粘接层的端部与所述转印层接触的位置P1处的所述转印层的膜厚t1比该位置P1内侧的位置P2处的所述转印层的膜厚t2薄。
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【专利技术属性】
技术研发人员：佐佐田泰行，久永和也，胁阪大树，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP