离心处理单元制造技术

一种用于引导物质在样品处理盒(2)内移动的离心处理单元(1)包括转子(3)、转子驱动器和阻挡元件(34)；转子(3)具有用于接收样品处理盒(2)的容纳部(31)，容纳部(31)仅允许盒(2)围绕相应的枢转轴线的自由枢转运动，其中每个枢转轴线与转子轴线(300)正交并且与离心力的相应力矢量正交；该转子驱动器产生离心力；阻挡元件(34)允许盒(2)在释放位置的自由枢转运动并且阻止在阻挡位置的自由枢转运动，其中阻挡元件(34)被布置在转子(3)上且在容纳部(31)上方与其隔开。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】离心处理单元
本专利技术涉及一种用于引导物质在样品处理盒内移动的离心处理单元。
技术介绍
在US4,236,666中公开了这种离心处理单元。它包括两个用于若干样品容器的料斗，其中料斗被布置在从旋转轴线向外延伸且彼此相对的臂上。每个料斗可绕相应的轴旋转的并且可沿该轴滑动。在每个臂上，在相应料斗的一侧上布置有锁定销，并且每个料斗包括用于所述锁定销的对应凹口。如果旋转轴线沿一个方向被旋转，则每个料斗抵靠没有锁定销的臂的侧面上，并且可围绕其轴旋转。如果旋转轴线沿相反方向被旋转，则每个料斗沿其轴滑动，并且抵靠具有锁定销的臂的侧面上，因此阻止它绕其轴旋转。滑动和抵靠产生额外、不必要的力矢量。
技术实现思路
因此，本专利技术的任务是提供一种用于引导物质在样品处理盒内移动的离心处理单元，借以防止额外、不必要的力矢量。这个问题通过一种具有权利要求1所述的特征的离心处理单元来解决。用于引导物质在样品处理盒内移动的离心处理单元、离心处理系统以及方法的其他实施例由其他权利要求所述的特征来限定。用于引导物质在样品处理盒内移动的离心处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于引导物质在样品处理盒(2)内移动的离心处理单元(1)，所述离心处理单元(1)包括：/n－至少一个转子(3)，所述转子具有至少一个用于接收所述样品处理盒(2)的容纳部(31)，所述至少一个容纳部(31)仅允许所述盒(2)绕相应的枢转轴线(310)的自由枢转运动，其中每个枢转轴线(310)与转子轴线(300)正交并且与离心力(F)的相应力矢量(F1、F2、F3)正交，/n－至少一个转子驱动器，所述转子驱动器用于使所述至少一个转子(3)绕相应的转子轴线(300)旋转，以产生所述离心力(F)，/n－控制装置，所述控制装置用于使所述至少一个转子(3)加速和减速，/n－至少一个阻挡元件(34)...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于引导物质在样品处理盒(2)内移动的离心处理单元(1)，所述离心处理单元(1)包括：
－至少一个转子(3)，所述转子具有至少一个用于接收所述样品处理盒(2)的容纳部(31)，所述至少一个容纳部(31)仅允许所述盒(2)绕相应的枢转轴线(310)的自由枢转运动，其中每个枢转轴线(310)与转子轴线(300)正交并且与离心力(F)的相应力矢量(F1、F2、F3)正交，
－至少一个转子驱动器，所述转子驱动器用于使所述至少一个转子(3)绕相应的转子轴线(300)旋转，以产生所述离心力(F)，
－控制装置，所述控制装置用于使所述至少一个转子(3)加速和减速，
－至少一个阻挡元件(34)，所述阻挡元件允许所述盒(2)在释放位置的所述自由枢转运动，并且阻止在阻挡位置的所述自由枢转运动，
其特征在于，所述阻挡元件(34)被布置在所述至少一个转子(3)上且在所述至少一个容纳部(31)上方与其隔开。


2.根据权利要求1所述的离心处理单元(1)，其特征在于，所述阻挡元件(34)被布置在所述转子(3)的轴的顶部。


3.根据权利要求1或2所述的离心处理单元(1)，其中所述阻挡元件(34)包括至少一个固定元件，所述固定元件在所述转子(3)的旋转期间阻止所述阻挡元件(34)与所述转子(3)之间的相对移动。


4.根据前述权利要求中任一项所述的离心处理单元(1)，其特征在于，所述阻挡元件(34)包括：
－盘(340)，所述盘的中心连接到所述转子轴；
－至少一个凹口(341)，所述凹口(341)从所述盘(340)的外沿向所述中心延伸；以及
－柄(342)，所述柄的重心布置在所述盘(340)上方。


5.根据权利要求4所述的离心处理单元(1)，其特征在于，所述阻挡元件(34)包括两个或更多个凹口(341)，所述两个或更多个凹口(341)均匀分布在所述盘(340)的周边上，使得所述阻挡元件(34)的重心对应于所述盘(340)的所述中心。


6.根据权利要求4所述的离心处理单元(1)，其中所述阻挡元件(34)包括：两个或更多个凹口(341)，所述凹口(341)不对称地分布在所述盘(340)的所述周边上；以及至少一个平衡重，所述至少一个平衡重布置在所述盘(340)上，使得所述阻挡元件(34)的所述重心对应于所述盘(340)的所述中心。


7.根据权利要求4至6中任一项所述的离心处理单元(1)，其特征在于，每个凹口(341)被设计成仅允许单个盒(2)的所述自由枢转运动。


8.根据权利要求4至6中任一项所述的离心处理单元(1)，其特征在于，每个凹口(341)被设计成允许两个或更多个盒(2)的所述自由枢转运动。


9.根据前述权利要求中任一项所述的离心处理单元(1)，其特征在于，所述至少一个容纳部(31)包括抵靠部(313)，所述抵靠部(313)阻止所述样品处理盒(2)枢转超过预定角(A)。


10.一种用于引导物质在样品处理盒(2)内移动的离心处理系统(10)，所述离心处理系统(10)包括：
－根据权利要求1至9中任一项所述的离心处理单元(1)；以及
－至少一个操纵器(4)，所述操纵器适于能够将所述样品处理盒(2)布置在所述至少一个容纳部(31)中或者将所述样品处理盒(2)从所述至少一个容纳部(3...

【专利技术属性】
技术研发人员：F·施黑泽尔，
申请(专利权)人：帝肯贸易股份公司，
类型：发明
国别省市：瑞士;CH