补偿机构制造技术

一种补偿机构，包括基座、调整单元、调整盖以及止动单元。该调整单元设置于该基座。该调整盖连接于该调整单元，并包括环状沟槽。该止动单元设置于该调整单元与该基座之间，并包括凸出部。其中，当该调整盖转动时，该调整单元相对于该基座转动，且该止动单元相对于该基座轴向移动，使该凸出部进入或离开该环状沟槽。

【技术实现步骤摘要】
补偿机构
本专利技术有关于一种补偿机构，特别是指一种适用于瞄准器的补偿机构。
技术介绍
一般瞄准器常藉由一补偿机构来进行弹着补偿。在进行弹着补偿之前，需先进行归零设定，使补偿机构的调整螺丝被调整到基准位置，而补偿机构的调整盖则被调整到零点位置。完成归零设定后，使用者始可操作补偿机构以对瞄准器进行弹着补偿。然而，在弹着补偿过后，调整盖可能已经经过多次转动，若使用者需要对不同的目标距离再次进行弹着补偿时，通常已不易再将补偿机构调整回归零设定。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种的补偿机构，该补偿机构藉由止动单元，来实现零点停止的功能。本专利技术为解决其技术问题所采用的技术方案是，提供一种补偿机构的其中一实施例包括基座、调整单元、调整盖以及止动单元。该调整单元设置于该基座。该调整盖连接于该调整单元，并包括环状沟槽。该止动单元设置于该调整单元与该基座之间，并包括凸出部。其中，当该调整盖转动时，该调整单元仅相对于该基座转动，且该止动单元相对于该基座轴向移动，使该凸出部进入或离开该环状本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种补偿机构，其特征在于，包括：/n基座；/n调整单元，设置于该基座；/n调整盖，连接于该调整单元，并包括环状沟槽；以及/n止动单元，设置于该调整单元与该基座之间，并包括凸出部；/n其中，当该调整盖转动时，该调整单元仅相对于该基座转动，且该止动单元相对于该基座轴向移动，使该凸出部进入或离开该环状沟槽。/n

【技术特征摘要】
1.一种补偿机构，其特征在于，包括：
基座；
调整单元，设置于该基座；
调整盖，连接于该调整单元，并包括环状沟槽；以及
止动单元，设置于该调整单元与该基座之间，并包括凸出部；
其中，当该调整盖转动时，该调整单元仅相对于该基座转动，且该止动单元相对于该基座轴向移动，使该凸出部进入或离开该环状沟槽。


2.如权利要求1所述的补偿机构，其特征在于，该止动单元更包括一转盘，该转盘套设于该调整单元，该凸出部设置于该转盘上，且当该调整盖转动时，该转盘与该凸出部相对于该基座轴向移动。


3.如权利要求2所述的补偿机构，其特征在于，当该调整盖转动时，该转盘相对于该调整单元转动。


4.如权利要求2所述的补偿机构，其特征在于，该凸出部转动以相对于该转盘轴向移动。


5.如权利要求2所述的补偿机构，其特征在于，该基座包括座体上盖，该凸出部包括凸缘部，且当该凸缘部...

【专利技术属性】
技术研发人员：张家淦，
申请(专利权)人：信泰光学深圳有限公司，亚洲光学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44