烹饪设备制造技术

本发明专利技术公开了一种烹饪设备，烹饪设备包括：壳体，具有烹饪腔；气体循环装置，设置于壳体且用于驱动烹饪腔内的气体流动循环；加热装置，设置在烹饪腔内；搁架装置，包括：顶部搁架和底部搁架，顶部搁架设置于底部搁架的上方，顶部搁架与底部搁架之间具有间隙以形成气体流动通道，气体流动通道位于顶部搁架的下方；气体引导结构，设置成适于将通过气体循环装置吹出的气体引导至气体流动通道并通过顶部搁架。根据本发明专利技术实施例的烹饪设备强制热对流发生更充分，温度场分布更均匀，易于实现食物受热的均匀性和上色一致性，可以大幅缩短煮食时间，温度监控数据能更精确地反应对食物的加热温度，实现对加热过程的精准控制。

【技术实现步骤摘要】
烹饪设备
本专利技术涉及厨房设备
，更具体地，涉及一种烹饪设备。
技术介绍
在相关技术中，具有空气炸功能的微波炉中，热风加热效果差，时间过长，上色不均匀，且热风系统体积大，至使微波炉本身体积增大，对整体外观影响较大。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术的一个目的在于提出一种烹饪设备，所述烹饪设备能够实现食物的全方位立体加热，提高了加热均匀性，缩短了烹饪时间。根据本专利技术实施例的烹饪设备，包括：壳体，所述壳体内具有烹饪腔；气体循环装置，所述气体循环装置设置于所述壳体且用于驱动所述烹饪腔内的气体流动循环；加热装置，所述加热装置设置在所述烹饪腔内；搁架装置，所述搁架装置包括：顶部搁架和底部搁架，所述顶部搁架设置于所述底部搁架的上方，所述顶部搁架与所述底部搁架之间具有间隙以形成气体流动通道，所述气体流动通道位于所述顶部搁架的下方；气体引导结构，所述气体引导结构设置成适于将通过所述气体循环装置吹出的气体引导至所述气体流动通道并通过所述顶部搁架。根据本专利技术实施例的烹饪设备，通过壳体、气体循环装置、加热装置、搁架装置和气体引导结构配合在烹饪腔内形成一种内部热风风道，在烹饪设备外形体积一定的情况下，可以大幅度提高烹饪设备在空气炸方面的煮食效果，强制热对流发生更充分，温度场分布更均匀，易于实现食物受热的均匀性和上色一致性，可以大幅缩短煮食时间，满足大分量煮食的优异效果，温度监控数据能更精确地反应对食物的加热温度，实现对加热过程的精准控制，也无需增大烹饪设备的体积，保持了烹饪设备的整体美观性，且减小了占用空间。另外，根据本专利技术上述实施例的烹饪设备还可以具有如下附加的技术特征：根据本专利技术的一些实施例，所述气体引导结构包括：外部引导结构，所述外部引导结构至少部分地设置在所述气体流动通道的外围且适于将气体引导至所述气体流动通道内。根据本专利技术的一些实施例，所述外部引导结构包括相对所述气体流动通道倾斜配置的外部引导壁，所述外部引导壁与所述烹饪设备的横截面的夹角α满足：110°≤α≤160°。根据本专利技术的一些实施例，所述气体引导结构包括：内部引导结构，所述内部引导结构至少部分地设置在所述气体流动通道内且设置成用于将所述气体流动通道内的气体导向通过所述顶部搁架。根据本专利技术的一些实施例，所述气体引导结构包括：外部引导结构和内部引导结构，所述底部搁架包括：底部搁架底壁和底部搁架侧壁，所述内部引导结构设置于所述底部搁架底壁，所述底部搁架侧壁构造为所述外部引导结构。根据本专利技术的一些实施例，所述顶部搁架包括：顶部搁架底壁和顶部搁架侧壁；所述底部搁架包括：底部搁架底壁和底部搁架侧壁，所述底部搁架侧壁构造为所述外部引导结构；其中，所述顶部搁架侧壁与所述底部搁架侧壁相邻但间隔开以形成引风段，所述引风段与所述气体流动通道连通。根据本专利技术的一些实施例，所述顶部搁架侧壁构造为环形的连续壁。根据本专利技术的一些实施例，所述顶部搁架底壁设置有分隔支撑脚，所述分隔支撑脚支撑在所述底部搁架底壁上以将所述底部搁架底壁和所述顶部搁架底壁上下分隔开，从而在所述底部搁架底壁和所述顶部搁架底壁之间形成所述气体流动通道。根据本专利技术的一些实施例，所述搁架装置将所述烹饪腔分隔形成为第一烹饪腔和第二烹饪腔，所述加热装置设置在所述第一烹饪腔内，所述气体循环装置设置成用于驱动所述第一烹饪腔内的气体流动循环，所述搁架装置通过分隔作用阻碍所述第一烹饪腔内的气体流入所述第二烹饪腔。根据本专利技术的一些实施例，所述气体循环装置包括：气体驱动部，通过所述气体驱动部对气体的驱动作用，使得被驱动的所述气体的第一部分能够沿第一方向运动、且第二部分能够沿第二方向运动，所述第一方向和所述第二方向中的一个为所述气体驱动部的周向方向且另一个为所述气体驱动部的径向方向。根据本专利技术的一些实施例，所述气体驱动部的内部具有气体驱动部空腔，所述气体驱动部包括至少部分地设置在所述气体驱动部空腔内的扇叶部，所述扇叶部与所述气体驱动部空腔外周的环形间隙在所述气体驱动部空腔的径向方向上宽度是变化的。根据本专利技术的一些实施例，所述扇叶部与所述气体驱动部空腔偏心设置；或者，所述扇叶部与所述气体驱动部空腔同轴布置，所述气体驱动部空腔外周距离所述气体驱动部空腔的中心轴线是变化的。根据本专利技术的一些实施例，所述气体驱动部包括：驱动罩体和扇叶部，所述扇叶部可转动地设置在所述驱动罩体内，所述驱动罩体的朝向所述烹饪设备的烹饪腔的侧面具有多个风孔。根据本专利技术的一些实施例，所述驱动罩体包括：驱动罩体顶壁和驱动罩体侧壁，所述驱动罩体侧壁连接于所述驱动罩体顶壁，所述扇叶部位于所述驱动罩体顶壁下方且由所述驱动罩体侧壁环绕，所述驱动罩体侧壁为渐扩形侧壁，所述驱动罩体侧壁的小径端连接所述驱动罩体顶壁，所述驱动罩体侧壁的大径端远离所述驱动罩体顶壁。根据本专利技术的一些实施例，所述加热装置邻近所述驱动罩体，所述驱动罩体侧壁具有朝向所述烹饪腔延伸的虚拟延伸面，所述虚拟延伸面以所述驱动罩体侧壁的大径端为支点向所述虚拟延伸面的两侧偏转预设小角度β所形成的范围为预设范围，所述加热装置的外周边缘不超过所述预设范围。根据本专利技术的一些实施例，所述小角度β满足关系式：0°＜β≤10°。根据本专利技术的一些实施例，所述驱动罩体包括：驱动罩体底壁，所述驱动罩体底壁连接于所述驱动罩体侧壁的远离所述驱动罩体顶壁的一端，所述多个风孔形成在所述驱动罩体底壁上。根据本专利技术的一些实施例，所述驱动罩体底壁向着远离所述驱动罩体顶壁的方向凸出，从而在所述驱动罩体底壁的朝向所述驱动罩体顶壁的一侧形成内凹腔体，所述内凹腔体构造为所述气体驱动部内的气体驱动部空腔的一部分，所述内凹腔体的最大深度不低于10mm。根据本专利技术的一些实施例，所述加热装置包括：外围加热装置，所述外围加热装置所围设的面积占所述烹饪腔的横截面积的1/2-3/4。根据本专利技术的一些实施例，所述加热装置还包括：内围加热装置，所述内围加热装置由所述外围加热装置所包围。根据本专利技术的一些实施例，所述气体循环装置包括：气体驱动部，所述气体驱动部包括驱动罩体，所述驱动罩体的朝向所述烹饪腔的侧面具有多个风孔，所述多个风孔的总面积占所述烹饪腔的横截面积的1/2-2/3。根据本专利技术的一些实施例，多个所述风孔包括：回风风孔和出风风孔，所述出风风孔围绕所述回风风孔设置。根据本专利技术的一些实施例，所述出风风孔包括：第一环带出风孔、第二环带出风孔和第三环带出风孔，所述第一环带出风孔环绕所述第二环带出风孔设置，所述第二环带出风孔环绕所述第三环带出风孔设置；其中，所述第一环带出风孔中的每个风孔的面积小于所述第二环带出风孔中的每个风孔的面积；和/或所述第三环带出风孔中的每个风孔的面积小于所述第二环带出风孔中的每个风孔的面积。根据本专利技术的一些实施例，所述回风风孔中的每个风孔的面积小于所述第二环带出风孔中的每个风孔的面积。根据本专利技术的一些实施例，所述驱动罩体包括：驱动罩体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种烹饪设备，其特征在于，包括：/n壳体，所述壳体内具有烹饪腔；/n气体循环装置，所述气体循环装置设置于所述壳体且用于驱动所述烹饪腔内的气体流动循环；/n加热装置，所述加热装置设置在所述烹饪腔内；/n搁架装置，所述搁架装置包括：顶部搁架和底部搁架，所述顶部搁架设置于所述底部搁架的上方，所述顶部搁架与所述底部搁架之间具有间隙以形成气体流动通道，所述气体流动通道位于所述顶部搁架的下方；/n气体引导结构，所述气体引导结构设置成适于将通过所述气体循环装置吹出的气体引导至所述气体流动通道并通过所述顶部搁架。/n

【技术特征摘要】
1.一种烹饪设备，其特征在于，包括：
壳体，所述壳体内具有烹饪腔；
气体循环装置，所述气体循环装置设置于所述壳体且用于驱动所述烹饪腔内的气体流动循环；
加热装置，所述加热装置设置在所述烹饪腔内；
搁架装置，所述搁架装置包括：顶部搁架和底部搁架，所述顶部搁架设置于所述底部搁架的上方，所述顶部搁架与所述底部搁架之间具有间隙以形成气体流动通道，所述气体流动通道位于所述顶部搁架的下方；
气体引导结构，所述气体引导结构设置成适于将通过所述气体循环装置吹出的气体引导至所述气体流动通道并通过所述顶部搁架。


2.根据权利要求1所述的烹饪设备，其特征在于，所述气体引导结构包括：
外部引导结构，所述外部引导结构至少部分地设置在所述气体流动通道的外围且适于将气体引导至所述气体流动通道内。


3.根据权利要求2所述的烹饪设备，其特征在于，所述外部引导结构包括相对所述气体流动通道倾斜配置的外部引导壁，所述外部引导壁与所述烹饪设备的横截面的夹角α满足：110°≤α≤160°。


4.根据权利要求1所述的烹饪设备，其特征在于，所述气体引导结构包括：
内部引导结构，所述内部引导结构至少部分地设置在所述气体流动通道内且设置成用于将所述气体流动通道内的气体导向通过所述顶部搁架。


5.根据权利要求1所述的烹饪设备，其特征在于，所述气体引导结构包括：外部引导结构和内部引导结构，所述底部搁架包括：底部搁架底壁和底部搁架侧壁，所述内部引导结构设置于所述底部搁架底壁，所述底部搁架侧壁构造为所述外部引导结构。


6.根据权利要求2所述的烹饪设备，其特征在于，
所述顶部搁架包括：顶部搁架底壁和顶部搁架侧壁；
所述底部搁架包括：底部搁架底壁和底部搁架侧壁，所述底部搁架侧壁构造为所述外部引导结构；其中，
所述顶部搁架侧壁与所述底部搁架侧壁相邻但间隔开以形成引风段，所述引风段与所述气体流动通道连通。


7.根据权利要求6所述的烹饪设备，其特征在于，所述顶部搁架侧壁构造为环形的连续壁。


8.根据权利要求6所述的烹饪设备，其特征在于，所述顶部搁架底壁设置有分隔支撑脚，所述分隔支撑脚支撑在所述底部搁架底壁上以将所述底部搁架底壁和所述顶部搁架底壁上下分隔开，从而在所述底部搁架底壁和所述顶部搁架底壁之间形成所述气体流动通道。


9.根据权利要求1所述的烹饪设备，其特征在于，所述搁架装置将所述烹饪腔分隔形成为第一烹饪腔和第二烹饪腔，所述加热装置设置在所述第一烹饪腔内，所述气体循环装置设置成用于驱动所述第一烹饪腔内的气体流动循环，所述搁架装置通过分隔作用阻碍所述第一烹饪腔内的气体流入所述第二烹饪腔。


10.根据权利要求1所述的烹饪设备，其特征在于，所述气体循环装置包括：气体驱动部，通过所述气体驱动部对气体的驱动作用，使得被驱动的所述气体的第一部分能够沿第一方向运动、且第二部分能够沿第二方向运动，所述第一方向和所述第二方向中的一个为所述气体驱动部的周向方向且另一个为所述气体驱动部的径向方向。


11.根据权利要求10所述的烹饪设备，其特征在于，所述气体驱动部的内部具有气体驱动部空腔，所述气体驱动部包括至少部分地设置在所述气体驱动部空腔内的扇叶部，所述扇叶部与所述气体驱动部空腔外周的环形间隙在所述气体驱动部空腔的径向方向上宽度是变化的。


12.根据权利要求10或11所述的烹饪设备，其特征在于，
所述扇叶部与所述气体驱动部空腔偏心设置；或者，
所述扇叶部与所述气体驱动部空腔同轴布置，所述气体驱动部空腔外周距离所述气体驱动部空腔的中心轴线是变化的。

【专利技术属性】
技术研发人员：赵在满，凌奇宏，刘刚，谢铭洋，金圭英，
申请(专利权)人：广东美的厨房电器制造有限公司，美的集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44