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上睑下垂测量器制造技术

技术编号:29366861 阅读:26 留言:0更新日期:2021-07-23 21:50
本实用新型专利技术公开了一种上睑下垂测量器,其包括能够覆盖在眼球上的半球壳状的角膜保护罩,所述角膜保护罩由透明材料制成,在所述角膜保护罩上设有多个同心圆形式的刻度圈。本实用新型专利技术通过将角膜保护罩改进为透明材料,以及角膜保护罩上设有的多个同心圆形式的刻度圈的设计,有利于准确测量角膜的大小,也可精确地测量上睑缘对角膜的遮盖程度,术中可睁眼观察角膜的暴露程度,保护角膜不受损伤,提高了上睑下垂矫正手术的精度,并且手术的意外风险大幅度降低。

【技术实现步骤摘要】
上睑下垂测量器
本技术涉及到角膜保护片式测量器领域,具体涉及到一种用于在上睑下垂矫正等眼整形手术中的上睑下垂测量器。
技术介绍
眼整形手术会向深层分离眼睑组织,在术中医生会嘱咐患者睁开眼睛以评估手术效果,可能会有损伤角膜的风险。尤其是,上睑下垂矫正手术对眼睑组织的分离层次更深,会位于结膜表面,而结膜是一层非常薄的半透明组织,在分离的过程中很容易导致结膜破损甚至进一步损伤角膜。目前在眼整形手术中,使用的角膜保护片通常是不透明的,佩戴后无法观察角膜暴露程度,从而影响术中效果的判断。尤其是,上睑下垂矫正手术对术中角膜暴露程度的观察是非常必要的,矫正上睑下垂的程度是由术前和术中角膜暴露程度来决定的。因此,需要一种既能保护角膜,又能让术者观察角膜情况的工具。此外,眼整形手术(尤其是上睑下垂手术)前需要对角膜暴露程度(或者角膜被遮盖程度)进行评估,以此决定术中是否需要对提上睑肌的力量进行调整以及计算调整的程度,并且在手术过程中需要不时观察角膜暴露程度的改变,以此评估手术矫正的效果。在实现本技术的过程中,专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题:目前本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种上睑下垂测量器,其特征在于,其包括能够覆盖在眼球上的半球壳状的角膜保护罩,所述角膜保护罩由透明材料制成,/n在所述角膜保护罩上设有多个同心圆形式的刻度圈。/n

【技术特征摘要】
1.一种上睑下垂测量器,其特征在于,其包括能够覆盖在眼球上的半球壳状的角膜保护罩,所述角膜保护罩由透明材料制成,
在所述角膜保护罩上设有多个同心圆形式的刻度圈。


2.如权利要求1所述的上睑下垂测量器,其特征在于,所述角膜保护罩由硅胶材料制成。


3.如权利要求1或2所述的上睑下垂测量器,其特征在于,所述角膜保护罩的直径为16-24mm。


4.如权利要求3所述的上睑下垂测量器,其特征在于,所述角膜保护罩的直径为20mm。


5.如权利要求1或2所述的上睑下垂测量器,其特征在于,所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:齐心竹
申请(专利权)人:齐心竹
类型:新型
国别省市:上海;31

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