上睑下垂测量器制造技术

本实用新型专利技术公开了一种上睑下垂测量器，其包括能够覆盖在眼球上的半球壳状的角膜保护罩，所述角膜保护罩由透明材料制成，在所述角膜保护罩上设有多个同心圆形式的刻度圈。本实用新型专利技术通过将角膜保护罩改进为透明材料，以及角膜保护罩上设有的多个同心圆形式的刻度圈的设计，有利于准确测量角膜的大小，也可精确地测量上睑缘对角膜的遮盖程度，术中可睁眼观察角膜的暴露程度，保护角膜不受损伤，提高了上睑下垂矫正手术的精度，并且手术的意外风险大幅度降低。

【技术实现步骤摘要】
上睑下垂测量器
本技术涉及到角膜保护片式测量器领域，具体涉及到一种用于在上睑下垂矫正等眼整形手术中的上睑下垂测量器。
技术介绍
眼整形手术会向深层分离眼睑组织，在术中医生会嘱咐患者睁开眼睛以评估手术效果，可能会有损伤角膜的风险。尤其是，上睑下垂矫正手术对眼睑组织的分离层次更深，会位于结膜表面，而结膜是一层非常薄的半透明组织，在分离的过程中很容易导致结膜破损甚至进一步损伤角膜。目前在眼整形手术中，使用的角膜保护片通常是不透明的，佩戴后无法观察角膜暴露程度，从而影响术中效果的判断。尤其是，上睑下垂矫正手术对术中角膜暴露程度的观察是非常必要的，矫正上睑下垂的程度是由术前和术中角膜暴露程度来决定的。因此，需要一种既能保护角膜，又能让术者观察角膜情况的工具。此外，眼整形手术(尤其是上睑下垂手术)前需要对角膜暴露程度(或者角膜被遮盖程度)进行评估，以此决定术中是否需要对提上睑肌的力量进行调整以及计算调整的程度，并且在手术过程中需要不时观察角膜暴露程度的改变，以此评估手术矫正的效果。在实现本技术的过程中，专利技术人发现现有技术中至少存在如下问题：目前，用于测量角膜暴露程度的工具要么精确性不高，比如通过观察未被遮盖的角膜外形或用尺子在角膜前方(无法贴合角膜)大致测量未被遮盖的角膜宽度而推测角膜暴露程度；要么测量工作操作困难，比如通过对照片进行软件分析计算角膜暴露比例，这种方法一方面受到照片拍摄的真实性影响(患者在拍摄瞬间眼睛睁开的程度不一定是平常的程度)，另一方面无法用于术中实时的评估判断。因此，需要一种既能在术前简便又准确地测量、又能在术中实时观察评估角膜暴露程度的工具。
技术实现思路
有鉴于此，本技术的目的在于提供一种上睑下垂测量器，可用于在上睑下垂矫正等眼整形手术中进行术前评估和术中判断，同时保护角膜免受损伤。为实现上述目的，本技术公开的一种上睑下垂测量器包括能够覆盖在眼球上的半球壳状的角膜保护罩，所述角膜保护罩由透明材料制成，在所述角膜保护罩上设有多个同心圆形式的刻度圈。贴合角膜的弧形曲率可更好的保护角膜不受损害同时减轻不适感，能清楚直观地测量角膜直径和上睑缘遮盖角膜的程度，提高手术的精确度。作为一个可能的实现方式，所述角膜保护罩由硅胶材料制成。可便于制作，节约成本，能贴合角膜。作为一个可能的实现方式，所述角膜保护罩的直径为16-24mm。是可覆盖人类的角膜大小的范围，可完整覆盖角膜并保护角膜不受损伤。作为一个可能的实现方式，所述角膜保护罩的直径为20mm。可完整保护角膜不受损伤的同时舒适度最高，不会产生异物感。作为一个可能的实现方式，所述多个同心圆形式的刻度圈包括位于中心侧的圆心刻度圈与位于所述圆心刻度圈外周侧的外围刻度圈，所述圆心刻度圈的直径为2-5mm。可清楚地测量角膜直径以及得到上睑缘遮盖角膜的程度的所需数据。作为一个可能的实现方式，所述圆心刻度圈的直径为4mm。符合大多数人类的角膜直径的大小，方便术前和术中的观察及计算，可得到更准确的参考数据。作为一个可能的实现方式，所述多个刻度圈的间隔距离为0.5-2mm。可清楚地测量上睑缘遮盖角膜的程度，可为术中对提上睑肌的处理方式和处理程度范围提供参考依据。作为一个可能的实现方式，所述多个刻度圈的间隔距离为1mm。可更清楚地测量上睑缘遮盖角膜的程度，方便术前和术中的观察及计算，可得到更准确的参考数据。作为一个可能的实现方式，所述多个刻度圈设在所述角膜保护罩的上表面。制作简便，维持角膜保护罩的厚度，减少异物感。由上，本技术的上睑下垂测量器与现有技术相比，同心圆形式的刻度圈可以更简便、清楚、直观地测量角膜的直径和上睑缘遮盖角膜的程度，将传统的角膜保护罩改进为透明材料，有利于术中睁眼实时观察上睑缘遮盖角膜的程度，解决了术中无法同时保护角膜和观察角膜的矛盾，使得在操作上睑下垂矫正手术的精度变高，意外风险大幅度降低。附图说明图1是本技术的多个刻度圈示意图。图2是本技术的剖面图。附图标记说明1、角膜保护罩；11、圆心刻度圈；12、外围刻度圈。具体实施方式下面，参照附图对本专利技术的具体实施方式进行详细的说明。如图1及图2所示，本实施方式涉及一种上睑下垂测量器，术前用于测量角膜的暴露程度，术中用于保护角膜以及对角膜被遮盖程度的观察。上睑下垂测量器包括一种能够覆盖在眼球上的半球壳状的角膜保护罩，圆心刻度圈和外围刻度圈。角膜保护罩由透明的硅胶材料制成，厚度为0.5mm，直径为2cm；其上表面设有5个同心圆形式的刻度圈，相邻刻度圈的间隔距离为1mm，圆心刻度圈的直径为4mm；附带一个吸筒，材质为硅胶，长度为3.5cm。实施例1可在眼整形手术(尤其是上睑下垂矫正手术)中进行术前评估，测量角膜的暴露程度。具体操作方式如下：用手指轻轻拨开上下眼睑皮肤，用吸筒吸取上睑下垂测量器并将其放置于角膜表面上(过程类似于佩戴隐形眼镜)，使上睑下垂测量器的圆心刻度圈位于瞳孔中心。患者需平视前方，术者观察并记录此时角膜所占圆形刻度圈数量，圆心刻度圈半径为2mm，从圆心刻度圈向外计数，其第N个外围刻度圈半径为N+2mm。松开上下眼睑皮肤，观察正常睁眼时上睑缘遮盖的圆形刻度圈位置。通过对比完整的角膜和正常睁眼时的角膜分别所占刻度圈的数量来计算上睑缘遮盖角膜的程度或上睑下垂疾病的程度。使手术中对提上睑肌的处理方式和处理程度范围可以此为参考依据。如角膜与4个圆形刻度圈重叠，则角膜半径为5mm，若遮盖到从圆心刻度圈向外数第1个外围刻度圈，即此时角膜上半部分暴露程度为3mm，上睑缘遮盖程度经此计算为2mm。实施例2可在眼整形手术(尤其是上睑下垂矫正手术)中进行术中判断，起到保护角膜的作用以及可以实时观察并调整手术效果。具体操作方式如下：在进行眼整形手术前将术前评估使用的上睑下垂测量器摘下，在术区进行常规消毒、铺无菌单，再用手指轻轻拨开上下眼睑皮肤，用吸筒吸取上睑下垂测量器并将其放置于角膜表面上，使其圆心刻度圈位于瞳孔中心。根据术前评估确定术中需矫正达到的角膜暴露程度。在调整提上睑肌力量后，嘱咐患者睁眼，观察并调整至所需要的角膜暴露程度。本技术提供了一种上睑下垂测量器，其能简便、直观且精确地测量角膜暴露程度，在保护角膜的同时不影响术中对角膜暴露程度的观察，提高手术的精准度，确保手术效果，解决了术中保护角膜和观察角膜的矛盾。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。例如，在上述实施方式中，说明了上睑下垂测量器的一些尺寸参数，然而这些参数并不构成对本技术的限制，本技术采用其他参数也可以。另外，在上述实施方式中，多个刻度圈设在角膜保护罩的上表面，然而，刻度圈也可以设在角膜保护罩的下表面或者内部，在使用时，仍可以清晰地看到刻度。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种上睑下垂测量器，其特征在于，其包括能够覆盖在眼球上的半球壳状的角膜保护罩，所述角膜保护罩由透明材料制成，/n在所述角膜保护罩上设有多个同心圆形式的刻度圈。/n

【技术特征摘要】
1.一种上睑下垂测量器，其特征在于，其包括能够覆盖在眼球上的半球壳状的角膜保护罩，所述角膜保护罩由透明材料制成，
在所述角膜保护罩上设有多个同心圆形式的刻度圈。


2.如权利要求1所述的上睑下垂测量器，其特征在于，所述角膜保护罩由硅胶材料制成。


3.如权利要求1或2所述的上睑下垂测量器，其特征在于，所述角膜保护罩的直径为16-24mm。


4.如权利要求3所述的上睑下垂测量器，其特征在于，所述角膜保护罩的直径为20mm。


5.如权利要求1或2所述的上睑下垂测量器，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：齐心竹，
申请(专利权)人：齐心竹，
类型：新型
国别省市：上海;31