【技术实现步骤摘要】
一种包含多种校准类型的晶圆标准样板
本申请实施例涉及微纳米级精密测量
,具体而言,涉及一种包含多种校准类型的晶圆标准样板。
技术介绍
随着微电子集成电路中结构变得越来越小,使用测量仪器精确地检查和测量这些微小结构变得越来越难。在微电子集成电路产线中,通常使用具有自动装载晶圆功能的测量仪器,来实时检查测量微电子集成电路结构。为了防止干扰或磨损对测量仪器的影响,确保测量仪器的测量准确性,每隔一段时间需要使用标准样板,来测试和校准这类测量仪器。现有技术中,标准样板上具有校准结构,通过校准结构来测试和校准测量仪器。一块微纳米几何量标准样板通常只包含一种类型或一种尺度的校准结构,也有通过同一种工艺在同一块标准样板上制备出的不同类型或尺度的校准结构。然而在通过这些校准结构对测量仪器进行校准时,通常需要不同的校准结构来对测量仪器进行校准。若采用一块标准样板对应一种类型的校准结构的方式,则需要频繁更换标准样板来分别对测量仪器进行校准,降低了工作效率;若采用同一种工艺,在标准样板上制备出的不同类型的校准结构,各个不同的校 ...
【技术保护点】
1.一种包含多种校准类型的晶圆标准样板,其特征在于,包括:基底(6),所述基底(6)上设置有指引区域(1)与校准区域(2);/n所述指引区域(1)包括:指引图案(4)与至少两个凹坑(5);/n所述校准区域(2)包括:与每个凹坑(5)配套的标准样板(3),所述标准样板(3)安装于所述凹坑(5)上;/n所述指引图案(4)设置于所述凹坑(5)周围,用于在测量仪器对所述标准样板(3)进行定位时,对所述测量仪器的定位起到指示作用。/n
【技术特征摘要】
1.一种包含多种校准类型的晶圆标准样板,其特征在于,包括:基底(6),所述基底(6)上设置有指引区域(1)与校准区域(2);
所述指引区域(1)包括:指引图案(4)与至少两个凹坑(5);
所述校准区域(2)包括:与每个凹坑(5)配套的标准样板(3),所述标准样板(3)安装于所述凹坑(5)上;
所述指引图案(4)设置于所述凹坑(5)周围,用于在测量仪器对所述标准样板(3)进行定位时,对所述测量仪器的定位起到指示作用。
2.根据权利要求1所述的晶圆标准样板,其特征在于,不同的凹坑(5)周围设置不同的指引图案(4)。
3.根据权利要求1所述的晶圆标准样板,其特征在于,所述凹坑(5)的内侧壁设置有若干抵触部(7),所述若干抵触部(7)凸出于所述凹坑(5)的内侧壁,所述若干抵触部(7)远离所述凹坑(5)的内侧壁的一端分别与所述标准样板(3)的侧壁抵触,以对所述标准样板(3)进行定位。
4.根据权利要求3所述的晶圆标准样板,其特征在于,所述至少两个凹坑(5)内侧壁未设置有所述抵触部(7)的位置,与所述标准样板(3)的侧壁之间具有间隙(9)。
5.根据权利要求1所述的晶圆标准样...
【专利技术属性】
技术研发人员:蒋庄德,张雅馨,王琛英,景蔚萱,林启敬,张易军,张亮亮,高崐,李磊,毛琦,王松,牛忠楠,
申请(专利权)人:西安交通大学,
类型:新型
国别省市:陕西;61
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。