一种磁场激光抛光装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种磁场激光抛光装置及方法，包括机架、加工台组件和两个磁场组件。所述加工台组件，设置在所述机架中，用于放置待抛光工件。所述两个磁场组件设置在所述加工台组件上。所述磁场组件包括磁体容器和若干块磁铁，所述磁铁容置于所述磁体容器中。其中，两个所述磁场组件相对且间隔设置，两个所述磁场组件之间形成工件放置区，两个所述磁场组件的磁铁之间形成磁场；所述磁体容器至少可容置两块磁铁。本发明专利技术的磁场激光抛光装置可以方便实现磁场强度调控的同时，结构简单，磁场稳定，成本低，便于更换磁铁，利于得到稳定的抛光材料。利于得到稳定的抛光材料。利于得到稳定的抛光材料。

【技术实现步骤摘要】
一种磁场激光抛光装置及方法


[0001]本专利技术涉及激光抛光
，尤其涉及一种磁场激光抛光装置及方法。

技术介绍

[0002]金属材料被广泛应用与日常生活、军事、航空航天等领域中，所以金属的表面加工技术尤为重要。激光抛光技术作为一种新的激光加工应用技术，目前已经得到众多学者和研究机构的青睐。
[0003]激光抛光是通过一个聚焦的激光束斑作用在粗糙的原始金属材料表面，造成材料表面凸起薄层的熔化和蒸发。熔化的材料由于材料本身的表面张力和重力的作用发生流动，填补金属材料表面凹陷处并凝固，最终得到抛光材料。激光在金属表面抛光应用具有其潜在的各种优势，其不仅具有可选择的抛光速度，而且化学污染小，抛光过程可检测，也是非接触加工方法。
[0004]目前，存在在激光抛光过程中施加磁场以进行辅助，得到抛光效果更理想的金属材料。但目前磁场发生多采用电控的方式，即通过电磁铁的方式产生磁场。这种方式虽然磁场强度调控方便，但结构却复杂，且产生的磁场不稳定，成本高，不利于得到稳定的抛光材料。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的是提供一种磁场激光抛光装置及方法，磁场强度可调控的同时，结构简单，磁场稳定，成本低，利于得到稳定的抛光材料。
[0006]本专利技术公开了一种磁场激光抛光装置，包括机架、加工台组件和两个磁场组件。所述加工台组件，设置在所述机架中，用于放置待抛光工件。所述两个磁场组件设置在所述加工台组件上。所述磁场组件包括磁体容器和若干块磁铁，所述磁铁容置于所述磁体容器中。其中，两个所述磁场组件相对且间隔设置，两个所述磁场组件之间形成工件放置区，两个所述磁场组件的磁铁之间形成磁场；所述磁体容器至少可容置两块磁铁。
[0007]可选的，所述加工台组件包括转盘、第一电机和安装座子组件；所述安装座子组件设置在所述机架上，所述第一电机安装在所述安装座子组件上，所述转盘和所述第一电机连接，两个所述磁场组件设置在所述转盘上；所述第一电机驱动所述转盘以所述第一电机的传动轴为旋转中心旋转。
[0008]可选的，所述安装座子组件包括座体、转动安装架和第二电机；所述座体设置在所述机架上，所述第二电机设置在所述座体上，所述转动安装架的一端与所述第二电机连接，另一端与所述座体转动连接；所述第二电机安装在所述转动安装架上；所述第二电机驱动所述转动安装架转动，以带动所述转盘以第二电机传动轴所在直线为轴线转动。
[0009]可选的，所述转动安装架包括第一竖板、第二竖板和横板；所述第一竖板一端与所述第二电机连接，另一端与所述横板的一端连接；所述第二竖板和所述座体转动连接，另一端和所述横板的另一端连接；所述第一电机安装在所述横板上，且位于所述第一竖板和所
述第二竖板之间。
[0010]可选的，所述座体包括底板和第三竖板；所述第一竖板的一端与所述底板的一端，另一端与所述第二竖板转动连接；所述第二电机设置在所述底板的另一端上。
[0011]可选的，所述磁场激光抛光装置包括激光器；所述激光器包括按照光路依次设置的激光发射器、扩束镜和三维激光振镜。
[0012]可选的，所述磁场的磁场强度为1T。
[0013]本专利技术还公开了一种磁场激光抛光方法，应用于如上所述的磁场激光抛光装置，包括步骤：
[0014]为工件放置区提供磁场，使待抛光工件处于磁场中；
[0015]启动激光，对待抛光工件进行激光抛光。
[0016]可选的，所述方法还包括步骤：
[0017]根据待抛光工件所需的磁场强度，调整所述磁体容器中磁铁的数量，以调整磁场强度。
[0018]可选的，所述激光的功率为180W
‑
230W，抛光区域的面积等于或大于100mm2，激光的移动速度等于或大于10mm/s。
[0019]本专利技术的磁场激光抛光装置，采用磁铁作为磁场发生源，并且将磁铁置于磁体容器中，磁体容器中可以放置至少两块磁铁，当需要调整磁场强度的时候，直接增加或较少所述磁体容器中的磁铁数量，实现磁场强度的调节，调节也简单方便。本专利技术的磁场激光抛光装置可以方便实现磁场强度调控的同时，结构简单，磁场稳定，成本低，便于更换磁铁，利于得到稳定的抛光材料。
附图说明
[0020]所包括的附图用来提供对本专利技术实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本专利技术的实施方式，并与文字描述一起来阐释本专利技术的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：
[0021]图1是本专利技术实施例磁场激光抛光装置的示意图；
[0022]图2是本专利技术实施例磁场激光抛光装置的另一示意图；
[0023]图3是本专利技术实施例磁场激光抛光装置的内部示意图；
[0024]图4是本专利技术实施例磁场激光抛光装置的另一内部示意图；
[0025]图5是图4中A部分的局部放大图；
[0026]图6是本专利技术实施例加工台组件的示意图；
[0027]图7是本专利技术实施例磁场组件的示意图；
[0028]图8是本专利技术实施例磁场激光抛光方法的流程图。
[0029]其中，1、待抛光工件；100、机架；110、防辐射玻璃门；200、加工台组件；210、转盘；211、工件放置区；220、第一电机；230、安装座子组件；231、座体；231a、底板；231b、第三竖板；232、转动安装架；232a、第一竖板；232b、第二竖板；232c、横板；233、第二电机；300、磁场组件；310、磁体容器；311、容纳槽；320、磁铁；400、激光器；500、密封舱；510、密封盖板；600、储气瓶；700、水冷组件；800、转动控制端。
具体实施方式
[0030]需要理解的是，这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节，仅仅是为了描述具体实施例，是代表性的，但是本专利技术可以通过许多替换形式来具体实现，不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。
[0031]下面参考附图和可选的实施例对本专利技术作详细说明。
[0032]如图1至图5所示，作为本专利技术的一实施例，公开了一种磁场激光抛光装置，包括机架100、加工台组件200和两个磁场组件300。所述加工台组件200，设置在所述机架100中，用于放置待抛光工件1。所述两个磁场组件300设置在所述加工台组件200上。所述磁场组件300包括磁体容器310和若干块磁铁320，所述磁铁320容置于所述磁体容器310中。其中，两个所述磁场组件300相对且间隔设置，两个所述磁场组件300之间形成工件放置区211，两个所述磁场组件300的磁铁320之间形成磁场；所述磁体容器310至少可容置两块磁铁320。
[0033]目前采用电控即通过电磁铁320产生磁场的方式，涉及电路结构设计等，虽然可以方便调节磁场强度，但结构复杂，并且受电流等设备的影响，产生的磁场不稳定，不利于得到稳定的抛光材料。本专利技术的磁场激光抛光装置，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁场激光抛光装置，其特征在于，包括：机架；加工台组件，设置在所述机架中，用于放置待抛光工件；两个磁场组件，设置在所述加工台组件上；所述磁场组件包括磁体容器和若干块磁铁，所述磁铁容置于所述磁体容器中；其中，两个所述磁场组件相对且间隔设置，两个所述磁场组件之间形成工件放置区，两个所述磁场组件的磁铁之间形成磁场；所述磁体容器至少可容置两块磁铁。2.如权利要求1所述的磁场激光抛光装置，其特征在于，所述加工台组件包括转盘、第一电机和安装座子组件；所述安装座子组件设置在所述机架上，所述第一电机安装在所述安装座子组件上，所述转盘和所述第一电机连接，两个所述磁场组件设置在所述转盘上；所述第一电机驱动所述转盘以所述第一电机的传动轴为旋转中心旋转。3.如权利要求2所述的磁场激光抛光装置，其特征在于，所述安装座子组件包括座体、转动安装架和第二电机；所述座体设置在所述机架上，所述第二电机设置在所述座体上，所述转动安装架的一端与所述第二电机连接，另一端与所述座体转动连接；所述第二电机安装在所述转动安装架上；所述第二电机驱动所述转动安装架转动，以带动所述转盘以第二电机传动轴所在直线为轴线转动。4.如权利要求3所述的磁场激光抛光装置，其特征在于，所述转动安装架包括第一竖板、第二竖板和横板；所述第一竖板一端与所述第二电机连...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵振宇，周浩，尹杰，李凯，肖永山，帅词俊，罗博伟，张卫，
申请(专利权)人：深圳信息职业技术学院，
类型：发明
国别省市：