显示装置和制造显示装置的方法制造方法及图纸

提供了显示装置和制造显示装置的方法，该显示装置包括：其中放置有像素的基板，基板包括发光区和与发光区相邻的布线区；形成在基板上位于布线区中的至少一个布线；形成在至少一个布线上的多个绝缘层；形成在多个绝缘层上位于发光区中的阳极电极；形成在阳极电极上并覆盖阳极电极的发光层；以及形成在发光层上的阴极电极，其中，形成在基板上的至少一个布线将信号施加至像素，多个绝缘层覆盖至少一个布线，以及多个绝缘层中的至少一个形成在基板的除发光区的至少一个区域或所有区域之外的区域中。域中。域中。

Display device and method for manufacturing display device

【技术实现步骤摘要】
显示装置和制造显示装置的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年12月31日提交的韩国专利申请第10
‑
2019
‑
0179731号的优先权，该申请的全部内容出于所有目的通过该引用并入本文中。


[0003]本公开内容涉及显示装置和制造显示装置的方法。

技术介绍

[0004]构成有机发光二极管显示器的有机发光元件(以下称为发光元件)是自发光的，并且不需要单独的光源，从而减小了显示装置的厚度和重量。另外，有机发光二极管显示器具有诸如低功耗、高亮度和高响应率的高质量特性。
[0005]通常，发光元件具有按以下进行堆叠的结构：阳极电极、围绕阳极电极的边缘区的堤、在堤的内部形成在阳极电极上的发光层(emission layer)、以及覆盖发光层和堤的阴极电极。流至发光元件的电流的量由驱动晶体管控制，使得发光元件以所需的亮度发射光。
[0006]前述内容仅旨在帮助理解本公开内容的背景，而不旨在表示本公开内容落入本领域技术人员已知的相关技术的范围之内。

技术实现思路

[0007]本公开内容的实施方式旨在提供一种具有无堤结构的显示装置，其中省略了有机发光元件的堤以便减少工艺步骤和制造成本。
[0008]本公开内容的实施方式旨在提供一种具有无堤结构的显示装置，该显示装置解决了在阳极电极的边缘区处的过度发光以及光提取效率降低的问题。
[0009]根据实施方式，提供了一种显示装置，包括：其中放置有像素的基板，基板包括发光区和与该发光区相邻的布线区；形成在基板上位于布线区中的至少一个布线；形成在至少一个布线上的多个绝缘层；形成在多个绝缘层上位于发光区中的阳极电极；形成在阳极电极上并覆盖阳极电极的发光层；以及形成在发光层上的阴极电极，其中，形成在基板上的至少一个布线将信号施加至像素，多个绝缘层覆盖至少一个布线，以及多个绝缘层中的至少一个形成在基板的除发光区的至少一个区域或所有区域之外的区域中。
[0010]所述多个绝缘层可以包括：覆盖至少一个布线的缓冲层；形成在缓冲层上的钝化层；以及形成在缓冲层上方的外涂层(overcoat layer)。
[0011]缓冲层可以形成在基板的除发光区的至少一个区域或所有区域之外的区域中，以及钝化层和外涂层可以形成在整个发光区和布线区中。
[0012]至少一个区域可以包括发光区的边缘区，以及缓冲层可以形成在发光区的中央区中以及布线区中。
[0013]外涂层可以具有以下形状：外涂层的上表面在其中形成有缓冲层的区域中高，并且外涂层的上表面在其中未形成缓冲层的区域中低。
[0014]阳极电极可以具有取决于外涂层的上表面的轮廓的形状。
[0015]当缓冲层形成在发光区的中央区中以及除发光区的边缘区之外的布线区中时，阳极电极形成为凸形。
[0016]当缓冲层形成在除发光区的所有区域之外的布线区中时，阳极电极形成为凹形。
[0017]显示装置还可以包括：放置在钝化层与外涂层之间位于发光区中的滤色器。
[0018]基板还可以包括其中形成用于驱动像素的电路元件的非发光区，以及显示装置还可以包括：形成在所述非发光区中的缓冲层上的有源层；在有源层上以图案形成的栅极绝缘层；以及形成在栅极绝缘层上的导电层。
[0019]缓冲层可以在栅极绝缘层的图案化过程期间、在基板的除至少一个区域或所有区域之外的区域中以图案形成。
[0020]显示装置还可以包括：光吸收层，该光吸收层放置在钝化层上位于非发光区中并且包括着色剂。
[0021]根据实施方式，提供了一种制造显示装置的方法，该方法包括：在包括发光区、非发光区和布线区的基板的布线区中形成至少一个布线；形成覆盖至少一个布线的缓冲层；在发光区中的缓冲层上形成有源层；在有源层上以图案形成栅极绝缘层；在栅极绝缘层上形成导电层；在基板上方形成外涂层；在发光区中的外涂层上形成阳极电极；形成覆盖阳极电极的发光层；以及在发光层上形成阴极电极，其中，可以通过形成栅极绝缘层，在发光区的至少一个区域或所有区域中蚀刻缓冲层。
[0022]至少一个区域可以包括发光区的边缘区，以及在发光区的中央区中以及布线区中可以形成缓冲层。
[0023]外涂层可以具有以下形状：外涂层的上表面在其中形成有缓冲层的区域中高，而外涂层的上表面在其中未形成缓冲层的区域中低。
[0024]阳极电极可以具有取决于外涂层的上表面的轮廓的形状。
[0025]制造显示装置的方法还可以包括：在形成导电层之后，在基板上形成钝化层；以及在发光区中的钝化层上形成滤色器。
[0026]实施方式解决了在无堤结构中发光元件的边缘区处的过度发光的问题，从而增加了发光元件的寿命并提高了光提取效率。
附图说明
[0027]当结合附图时，根据以下详细描述将更加清楚地理解本公开内容的上述目的和其他目的、特征以及其他优点，其中：
[0028]图1是示出根据实施方式的显示装置的配置的框图；
[0029]图2是示出图1所示的像素的实施方式的电路图；
[0030]图3A和图3B是示出根据实施方式的像素的平面布局的图；
[0031]图4是根据实施方式的像素的截面图；
[0032]图5是根据另一实施方式的存储电容器的截面图；
[0033]图6是示出在具有无堤结构(bankless structure)的显示装置中可能出现的发光元件中的短路问题的图；
[0034]图7是示出根据实施方式的形成第一通孔的方法的图；
[0035]图8和图9是示出根据实施方式的修复显示装置的方法的图；
[0036]图10和图11是示出在修复过程中可能出现的发光元件中的短路问题的图；
[0037]图12是示出修复图4和图5所示的像素的方法的图；
[0038]图13是示出根据另一实施方式的修复显示装置的方法的图；
[0039]图14是示出修复图4和图5所示的像素的方法的图；
[0040]图15是沿着图3A的线II
‑
II
’
截取的截面图；
[0041]图16是示出根据其他实施方式的白色像素的平面布局的图；
[0042]图17是沿着图16的线III
‑
III
’
截取的截面图；
[0043]图18是沿着图3A的线IV
‑
IV
’
截取的截面图；
[0044]图19是沿着图3A的线V
‑
V
’
截取的截面图；
[0045]图20是作为示例的图19的区域AA的放大图；
[0046]图21是作为另一示例的图19的区域AA的放大图；以及
[0047]图22是示出根据实施方式的制造显示装置的方法的流程图。
具体实施方式
[0048]在下文中，将参照附图描述实施方式。在本说明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示装置，包括：其中放置有像素的基板，所述基板包括发光区和与所述发光区相邻的布线区；形成在所述基板上位于所述布线区中的至少一个布线；形成在所述至少一个布线上的多个绝缘层；形成在所述多个绝缘层上位于所述发光区中的阳极电极；形成在所述阳极电极上并且覆盖所述阳极电极的发光层；以及形成在所述发光层上的阴极电极，其中，形成在所述基板上的所述至少一个布线将信号施加至所述像素，所述多个绝缘层覆盖所述至少一个布线，以及所述多个绝缘层中的至少一个形成在所述基板的除所述发光区的至少一个区域或所有区域之外的区域中。2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，所述多个绝缘层包括：覆盖所述至少一个布线的缓冲层；形成在所述缓冲层上的钝化层；以及形成在所述缓冲层上方的外涂层。3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述缓冲层形成在所述基板的除所述发光区的所述至少一个区域或所述全部区域之外的区域中，以及所述钝化层和所述外涂层形成在整个所述发光区和所述布线区中。4.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述至少一个区域包括所述发光区的边缘区，以及所述缓冲层形成在所述发光区的中央区中以及所述布线区中。5.根据权利要求3所述的显示装置，其中，所述外涂层具有以下形状：所述外涂层的上表面在其中形成有所述缓冲层的区域中高，并且所述外涂层的上表面在其中未形成所述缓冲层的区域中低。6.根据权利要求5所述的显示装置，其中，所述阳极电极具有取决于所述外涂层的上表面的轮廓的形状。7.根据权利要求4所述的显示装置，其中，当所述缓冲层形成在所述发光区的中央区中以及除所述发光区的边缘区之外的所述布线区中时，所述阳极电极形成为凸形。8.根据权利要求3所述的显示装置，其中，当所述缓冲层形成在除所述发光区的所述所有区域之外的所述布线区中时，所述阳极电极形成为凹形。9.根据权利要求3所述的显示装置，还包括：放置在所述钝化层与所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵镛善，边宇中，丁得洙，金周爀，
申请(专利权)人：乐金显示有限公司，
类型：发明
国别省市：