【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷材料的热处理装置
[0001]本技术涉及陶瓷材料
,尤其涉及一种陶瓷材料的热处理装置。
技术介绍
[0002]构成曝光装置的光学系统所使用的合成石英玻璃或氟化钙、氟化钡等光学陶瓷材料随着曝光装置的光源的短波长化不断发展,而要求非常高的透光率。这种需要高透光率的光学陶瓷材料是使用经化学合成的高纯度的原料制造而来。但是,在制备光学陶瓷材料时,其内部残留的来源于制造热历程的各种应力需要尽可能的降低,因此需要进行称之为退火处理的热处理,使残留应力下降,折射率的均匀性提升,并且使双折射降低。
[0003]但现有技术中的退火处理步骤中,因为冷媒对光学陶瓷材料的冲击,常常会导致材料退火不均一,造成光学陶瓷材料的理化性质不稳定、不均一,影响产品折射率的提升。
技术实现思路
[0004]针对上述存在的问题,本技术旨在提供一种陶瓷材料的热处理装置,将材料的加热和冷却分离开,且在加热的过程中放置架保持旋转状态,能够使材料内部各个方向加热更加均匀,从而增加材料的理化性质的稳定性。
[0005]为了实现上 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种陶瓷材料的热处理装置,包括箱体(1)、门体(2)和支架(3),所述箱体(1)安装在所述支架(3)上,所述箱体(1)的前侧壁下方设有门体(2),所述箱体(1)内设有隔板(4),所述隔板(4)将所述箱体(1)内空间分成上腔(101)和下腔(102),其特征在于:所述上腔(101)对应的箱体(1)侧壁上设有冷却腔(5),所述箱体(1)的顶部安装有冷却箱(6),所述冷却箱(6)与所述冷却腔(5)之间通过冷媒进管(7)连通,所述冷却腔(5)对应的箱体(1)侧壁上还设有冷却出口(8);所述下腔(102)对应的箱体(1)内侧壁上安装有多个加热棒(9),所述下腔(102)内设有可升降旋转的放置架(10),所述隔板(4)的中心设有与所述放置架(10)相匹配的中心通孔(401);所述放置架(10)的底部外周设有凸圈(11),所述隔板(4)的顶部和底部分别设有一号凹圈(12)和二号凹圈(13),所述凸圈(11)与所述二号凹圈(13)相匹配,所述一号凹圈(12)处可拆卸设有密封盖板(14)。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷材料的热处理装置,其特征在于:所述支架(3)上安装有驱动电机(15),所述驱动电机(15)的输出轴上固设有旋转伸缩杆(16),所述旋转伸缩杆(16...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。